JPH0832671B2 - 高純度スベロニトリルの製造法 - Google Patents
高純度スベロニトリルの製造法Info
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- JPH0832671B2 JPH0832671B2 JP62028193A JP2819387A JPH0832671B2 JP H0832671 B2 JPH0832671 B2 JP H0832671B2 JP 62028193 A JP62028193 A JP 62028193A JP 2819387 A JP2819387 A JP 2819387A JP H0832671 B2 JPH0832671 B2 JP H0832671B2
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- suberonitrile
- distillation
- distillation column
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- dichlorohexane
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソーダより
スベロニトリルを製造する方法に関する。
スベロニトリルを製造する方法に関する。
スベロニトリルは農医薬品やジカルボン酸、ジアミン
などの製造用中間体として、有機化学および生物化学の
分野で有用である。
などの製造用中間体として、有機化学および生物化学の
分野で有用である。
（従来の技術） スベロニトリルの製造方法としては、特開昭61−1222
58号に1,6−ヘキサンジオールとヨウ化水素またはアル
カリ金属のヨウ化物とを反応させて得られた1,6−ジヨ
ードヘキサンを青化ソーダ、青化カリおよび青酸などの
シアノ化剤と反応させる方法がある。この方法において
は、粗スベロニトリルを疎水性有機溶剤、例えばエーテ
ル、クロロホルム、酢酸エチル等の溶剤で抽出し、水洗
して、減圧蒸溜することにより純度98％以上のスベロニ
トリルを得ている。
58号に1,6−ヘキサンジオールとヨウ化水素またはアル
カリ金属のヨウ化物とを反応させて得られた1,6−ジヨ
ードヘキサンを青化ソーダ、青化カリおよび青酸などの
シアノ化剤と反応させる方法がある。この方法において
は、粗スベロニトリルを疎水性有機溶剤、例えばエーテ
ル、クロロホルム、酢酸エチル等の溶剤で抽出し、水洗
して、減圧蒸溜することにより純度98％以上のスベロニ
トリルを得ている。
（発明が解決しようとする問題点） 発明者等は先に、一般式が （R1〜R4は炭素数が３〜10のアルキル基を示し、これら
は互いに同一でも異なっていても良い）で表される相間
移動触媒の存在下、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソー
ダ水溶液を反応させスベロニトリルを製造する方法を発
明した。
は互いに同一でも異なっていても良い）で表される相間
移動触媒の存在下、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソー
ダ水溶液を反応させスベロニトリルを製造する方法を発
明した。
この方法によれば、反応生成液は相間移動触媒を使用
することにより、油相と水相に分離し、油相には触媒と
スベロニトリル及び少量の未反応1,6−ジクロルヘキサ
ンと反応中間体の１−シアノ−６−クロルヘキサン（以
下モノニトリルと称する）を含有し、水相には反応生成
物であるNaClおよび少量の未反応青化ソーダが含まれ
る。
することにより、油相と水相に分離し、油相には触媒と
スベロニトリル及び少量の未反応1,6−ジクロルヘキサ
ンと反応中間体の１−シアノ−６−クロルヘキサン（以
下モノニトリルと称する）を含有し、水相には反応生成
物であるNaClおよび少量の未反応青化ソーダが含まれ
る。
製品のスベロニトリルは、この油相液を蒸溜すること
により得られる。粗スベロニトリルの蒸留は、スベロニ
トリルの熱分解を避けるため10〜15Torrの減圧下、200
℃以下の温度で蒸留を行う。蒸留精製は一般に、まず低
沸物を除去した後、精スベロニトリルを取り出し、高沸
物を釜残として除去する方法が採られる。この蒸溜法で
は、加熱により該相間移動触媒であるテトラブチルアン
モニウムブロミド等が一部分解してトリブチルアミン等
となり、製品スベロニトリル中に混入して品質を損ねる
ことが問題となる。
により得られる。粗スベロニトリルの蒸留は、スベロニ
トリルの熱分解を避けるため10〜15Torrの減圧下、200
℃以下の温度で蒸留を行う。蒸留精製は一般に、まず低
沸物を除去した後、精スベロニトリルを取り出し、高沸
物を釜残として除去する方法が採られる。この蒸溜法で
は、加熱により該相間移動触媒であるテトラブチルアン
モニウムブロミド等が一部分解してトリブチルアミン等
となり、製品スベロニトリル中に混入して品質を損ねる
ことが問題となる。
（問題点を解決するための手段） 発明者等はスベロニトリルを精製する際の以上の如き
問題点を解決すべく鋭意検討した結果、従来一括の蒸溜
精製法で行われる方法、即ち第一蒸溜塔で低沸物を除去
し、第二蒸溜塔で高沸点物を除去する方法に代えて、ま
ず第一蒸溜塔で高沸物を除去し、次に第二蒸溜塔で低沸
物を除去するようにすれば、第一蒸留塔での加熱により
テトラブチルアンモニウムブロミド等が分解して生成す
るトリブチルアミンが低沸物として第二蒸溜塔で除去さ
れ、高純度のスベロニトリルが得られることを見出し本
発明に至った。
問題点を解決すべく鋭意検討した結果、従来一括の蒸溜
精製法で行われる方法、即ち第一蒸溜塔で低沸物を除去
し、第二蒸溜塔で高沸点物を除去する方法に代えて、ま
ず第一蒸溜塔で高沸物を除去し、次に第二蒸溜塔で低沸
物を除去するようにすれば、第一蒸留塔での加熱により
テトラブチルアンモニウムブロミド等が分解して生成す
るトリブチルアミンが低沸物として第二蒸溜塔で除去さ
れ、高純度のスベロニトリルが得られることを見出し本
発明に至った。
即ち本発明は、一般式が （R1〜R4は炭素数が３〜10のアルキル基を示し、これら
は互いに同一でも異なっていても良い）で表される相間
移動触媒の存在下、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソー
ダ水溶液を反応して得られた粗スベロニトリル液を蒸留
してスベロニトリルを製造するに際し、蒸留塔を２基設
け、まず第一蒸留塔において該触媒を含む高沸物を除去
し、次に第二蒸溜塔において未反応1,6−ジクロルヘキ
サンを除去することを特徴とする高純度スベロニトリル
の製造法である。
は互いに同一でも異なっていても良い）で表される相間
移動触媒の存在下、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソー
ダ水溶液を反応して得られた粗スベロニトリル液を蒸留
してスベロニトリルを製造するに際し、蒸留塔を２基設
け、まず第一蒸留塔において該触媒を含む高沸物を除去
し、次に第二蒸溜塔において未反応1,6−ジクロルヘキ
サンを除去することを特徴とする高純度スベロニトリル
の製造法である。
本発明で使用される相間移動触媒の例としては、テト
ラプロピルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモ
ニウムブロミドなどがある。特にテトラブチルアンモニ
ウムブロミドが好適である。
ラプロピルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモ
ニウムブロミドなどがある。特にテトラブチルアンモニ
ウムブロミドが好適である。
青化ソーダ水溶液は、工業的に市販されている濃度30
〜35％の水溶液をそのまま使用することができ、また更
に必要に応じて濃度を下げて使用することもできる。
〜35％の水溶液をそのまま使用することができ、また更
に必要に応じて濃度を下げて使用することもできる。
本発明において、青化ソーダの使用量は1,6−ジクロ
ルヘキサンに対する青化ソーダのモル比を理論量の2.0
に対し2.1〜2.6程度に若干過剰とすることが好ましい。
このモル比が低過ぎる場合は収率が低く、1,6−ジクロ
ルヘキサンの損失が大きくなる。またこのモル比が高過
ぎる場合は排水中にCNイオンが残留し、排水処理の費用
が増加する。
ルヘキサンに対する青化ソーダのモル比を理論量の2.0
に対し2.1〜2.6程度に若干過剰とすることが好ましい。
このモル比が低過ぎる場合は収率が低く、1,6−ジクロ
ルヘキサンの損失が大きくなる。またこのモル比が高過
ぎる場合は排水中にCNイオンが残留し、排水処理の費用
が増加する。
テトラブチルアンモニウムブロミド等の使用量は1,6
−ジクロルヘキサン１モル当たり、1.5〜10g、好ましく
は1.5〜6.5gとする。テトラブチルアンモニウムブロミ
ド等の使用量が少なすぎると収率が低く、多い場合は次
の精製工程の負荷が大きくなる。
−ジクロルヘキサン１モル当たり、1.5〜10g、好ましく
は1.5〜6.5gとする。テトラブチルアンモニウムブロミ
ド等の使用量が少なすぎると収率が低く、多い場合は次
の精製工程の負荷が大きくなる。
反応温度は80〜140℃、好ましくは90〜110℃とする。
反応温度が低いと反応が進行せず、高すぎる場合は着色
や重合の原因となる。
反応温度が低いと反応が進行せず、高すぎる場合は着色
や重合の原因となる。
反応圧力は特に制限が無いが、通常は常圧で行う。反
応時間は通常0.5〜8hr、好ましくは２〜4hrである。
応時間は通常0.5〜8hr、好ましくは２〜4hrである。
反応生成液は常温まで冷却することにより、上層の油
相液と下層の水相液に分離する。油相液には製品のスベ
ロニトリルと反応中間体のモノニトリルおよび触媒が含
まれ、これを２基の蒸留塔で蒸留することにより、高純
度のスベロニトリルが得られる。第一蒸留塔では触媒を
含む高沸物を除去し、第二蒸留塔では低沸物を除去す
る。
相液と下層の水相液に分離する。油相液には製品のスベ
ロニトリルと反応中間体のモノニトリルおよび触媒が含
まれ、これを２基の蒸留塔で蒸留することにより、高純
度のスベロニトリルが得られる。第一蒸留塔では触媒を
含む高沸物を除去し、第二蒸留塔では低沸物を除去す
る。
第一蒸溜塔および第二蒸溜塔において、前述の如くス
ベロニトリルの熱分解を避けるため液温を200℃以下、
好ましくは180℃以下とする。またこのため圧力は１〜4
0Torr、好ましくは１〜15Torrとする。圧力が高すぎれ
ば、塔底の温度が高くなりスベロニトリルが分解し回収
率が低下する。圧力がこれより低くても良いが蒸溜塔が
大きくなるので経済的でない。各蒸溜塔は段塔でも充填
塔でも良いが、理論段数として第一蒸溜塔では１段で良
く、第二蒸溜塔では蒸留条件によるが５〜50段、好まし
くは15〜30段とする。還流比は第一蒸溜塔では０〜５、
好ましくは０〜１であり、第二蒸溜塔では５〜20、好ま
しくは５〜10である。
ベロニトリルの熱分解を避けるため液温を200℃以下、
好ましくは180℃以下とする。またこのため圧力は１〜4
0Torr、好ましくは１〜15Torrとする。圧力が高すぎれ
ば、塔底の温度が高くなりスベロニトリルが分解し回収
率が低下する。圧力がこれより低くても良いが蒸溜塔が
大きくなるので経済的でない。各蒸溜塔は段塔でも充填
塔でも良いが、理論段数として第一蒸溜塔では１段で良
く、第二蒸溜塔では蒸留条件によるが５〜50段、好まし
くは15〜30段とする。還流比は第一蒸溜塔では０〜５、
好ましくは０〜１であり、第二蒸溜塔では５〜20、好ま
しくは５〜10である。
（作用および効果） 本発明によれば、相間移動触媒であるテトラブチルア
ンモニウムブロミド等が分解することにより生成するト
リブチルアミン等が製品中に混入することなく高純度の
スベロニトリルが得られる。
ンモニウムブロミド等が分解することにより生成するト
リブチルアミン等が製品中に混入することなく高純度の
スベロニトリルが得られる。
本方法においては工業的に安価に得られる1,6−ジク
ロルヘキサンを原料としており、且つ反応工程および精
製工程が非常に簡略なプロセスで高純度のスベロニトリ
ルが得られるので、本発明の工業的意義が大きい。
ロルヘキサンを原料としており、且つ反応工程および精
製工程が非常に簡略なプロセスで高純度のスベロニトリ
ルが得られるので、本発明の工業的意義が大きい。
（実施例） 次に実施例を用い本発明を具体的に説明する。比較例
は、従来一般の蒸留精製法で行われる方法、即ちまず低
沸物を除去し、次に高沸物を除去する方法による場合と
し、本発明の方法による実施例と対比した。
は、従来一般の蒸留精製法で行われる方法、即ちまず低
沸物を除去し、次に高沸物を除去する方法による場合と
し、本発明の方法による実施例と対比した。
実施例１ 相間移動触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミ
ドを用い、1,6−ジクロルヘキサンに対する青化ソーダ
のモル比を2.1、触媒量を1,6−ジクロルヘキサン１モル
当たり3.3gとし、常圧下反応温度110℃で４時間反応さ
せ、冷却により分離した粗スベロニトリル液1000g（ス
ベロニトリル濃度84％）を、圧力10Torr温度180℃で単
蒸留により高沸物を除去し、留出液950g（スベロニトリ
ル濃度87％）を得た。この留出液を上部に30段相当の充
填物を有する蒸留釜を用い頂部圧力5Torr（釜内15Tor
r）還流比5.0で回分蒸留を行い、低沸留出液130gを得
た。この蒸留時の温度は、頂部53〜160℃、釜内167〜19
0℃であった。この結果、純度99.0％以上の精スベロニ
トリルが820g得られ、精スベロニトリル中にトリブチル
アミンおよびブチルブロミドが検出されなかった。
ドを用い、1,6−ジクロルヘキサンに対する青化ソーダ
のモル比を2.1、触媒量を1,6−ジクロルヘキサン１モル
当たり3.3gとし、常圧下反応温度110℃で４時間反応さ
せ、冷却により分離した粗スベロニトリル液1000g（ス
ベロニトリル濃度84％）を、圧力10Torr温度180℃で単
蒸留により高沸物を除去し、留出液950g（スベロニトリ
ル濃度87％）を得た。この留出液を上部に30段相当の充
填物を有する蒸留釜を用い頂部圧力5Torr（釜内15Tor
r）還流比5.0で回分蒸留を行い、低沸留出液130gを得
た。この蒸留時の温度は、頂部53〜160℃、釜内167〜19
0℃であった。この結果、純度99.0％以上の精スベロニ
トリルが820g得られ、精スベロニトリル中にトリブチル
アミンおよびブチルブロミドが検出されなかった。
比較例１ 実施例１と同様にして得られた粗スベロニトリル液10
00g（スベロニトリル濃度83.0％）を、実施例１と同じ3
0段相当の蒸留釜を用い回分蒸留し、低沸留出液110gを
得た。この時の還流比は5.0とし、圧力は頂部2Torr、釜
内10Torrであり、温度は頂部42〜140℃、釜内156〜173
℃であった。この蒸留により得られた釜残液880g（スベ
ロニトリル濃度91.5％）を、圧力10Torr、温度180℃で
単蒸留することにより、精スベロニトリル810gが得られ
たが、その純度は98.4％であり、トリブチルアミン0.97
％、ブチルブロミド0.24％が検出された。
00g（スベロニトリル濃度83.0％）を、実施例１と同じ3
0段相当の蒸留釜を用い回分蒸留し、低沸留出液110gを
得た。この時の還流比は5.0とし、圧力は頂部2Torr、釜
内10Torrであり、温度は頂部42〜140℃、釜内156〜173
℃であった。この蒸留により得られた釜残液880g（スベ
ロニトリル濃度91.5％）を、圧力10Torr、温度180℃で
単蒸留することにより、精スベロニトリル810gが得られ
たが、その純度は98.4％であり、トリブチルアミン0.97
％、ブチルブロミド0.24％が検出された。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式が （R1〜R4は炭素数が３〜10のアルキル基を示し、これら
は互に同じでも異なっていても良い）で表される相間移
動触媒の存在下、1,6−ジクロルヘキサンと青化ソーダ
水溶液を反応させて得られた粗スベロニトリル液を蒸留
してスベロニトリルを製造するに際し、蒸留塔を２基設
け、まず第一蒸溜塔において該触媒を含む高沸物を除去
し、次に第二蒸溜塔において未反応1,6−ジクロルヘキ
サンを含む低沸物を除去することを特徴とする高純度ス
ベロニトリルの製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62028193A JPH0832671B2 (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 高純度スベロニトリルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62028193A JPH0832671B2 (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 高純度スベロニトリルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63196550A JPS63196550A (ja) | 1988-08-15 |
| JPH0832671B2 true JPH0832671B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=12241843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62028193A Expired - Lifetime JPH0832671B2 (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 高純度スベロニトリルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0832671B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19707509A1 (de) * | 1997-02-25 | 1998-08-27 | Basf Ag | Verfahren zur Entfernung von Halogeniden aus halogenidhaltigen Nitrilgemischen |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP62028193A patent/JPH0832671B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63196550A (ja) | 1988-08-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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