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JPH0833296B2 - Scanning atomic force tunneling microscope - Google Patents
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JPH0833296B2 - Scanning atomic force tunneling microscope - Google Patents

Scanning atomic force tunneling microscope

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JPH0833296B2
JPH0833296B2 JP2186062A JP18606290A JPH0833296B2 JP H0833296 B2 JPH0833296 B2 JP H0833296B2 JP 2186062 A JP2186062 A JP 2186062A JP 18606290 A JP18606290 A JP 18606290A JP H0833296 B2 JPH0833296 B2 JP H0833296B2
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sample
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switch
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  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体プロセスや材料開発に用いられ、導電
性物質の表面の微小凹凸や電位分布の評価を行うための
走査型原子間力トンネル顕微鏡に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention is used in semiconductor processes and material development, and is a scanning atomic force tunnel microscope for evaluating minute irregularities and potential distribution on the surface of a conductive substance. It is about.

〔従来の技術〕 従来導電性物質の表面の微小な凹凸は、例えばR.M.Fe
enstra et al.;IBM Journal of Research and Develope
ment Vol.30,No.5,p466,September 1986等に示されてい
るように、走査型トンネル顕微鏡(以下STMという)に
より評価されていた。第3図は従来用いられていたSTM
の原理図である。本図において試料1上にはXYZ方向の
ピエゾ素子2X,2Y,2Zから成り、探針3をXYZ方向に駆動
するピエゾ素子が設けられる。このピエゾ素子はXY方向
にXYドライバ4によって駆動される。そして探針3と試
料1の表面間に電源5より電圧Vsを印加し、試料1の表
面と探針3との間を例えば10Å程度の距離まで近接させ
ると、双方の電子雲が重なり合い、電圧Vsに対応してト
ンネル電流Itが流れる。この探針3と試料1の表面との
距離が一定となるように、即ちトンネルItが一定となる
ようにフィードバック制御系6によって探針3とピエゾ
素子2をZ方向に上下動させる。こうしてピエゾ素子2
のうちX方向のピエゾ素子2X,Y方向のピエゾ素子2Yによ
って探針3を二次元的に走査してZ方向に駆動信号をデ
ータストレージ7にストアすることにより、これらのピ
エゾ素子2の変位成分を電気信号に変換して試料表面の
凹凸情報、即ち電子雲等の等ポテンシャル面を画像表示
器8に表示することができる。
[Prior Art] Conventionally, fine irregularities on the surface of a conductive material are
enstra et al .; IBM Journal of Research and Develope
ment Vol.30, No.5, p466, September 1986 etc., it was evaluated by a scanning tunneling microscope (hereinafter referred to as STM). Figure 3 shows the STM that was used before
FIG. In this figure, a piezo element composed of piezo elements 2 X , 2 Y and 2 Z in the XYZ directions and driving the probe 3 in the XYZ directions is provided on the sample 1. This piezo element is driven by the XY driver 4 in the XY directions. Then, when a voltage Vs is applied from the power source 5 between the probe 3 and the surface of the sample 1 and the surface of the sample 1 and the probe 3 are brought close to each other by a distance of, for example, 10 Å, both electron clouds are overlapped and the voltage is increased. The tunnel current It flows corresponding to Vs. The probe 3 and the piezo element 2 are moved up and down in the Z direction by the feedback control system 6 so that the distance between the probe 3 and the surface of the sample 1 becomes constant, that is, the tunnel It becomes constant. In this way, the piezo element 2
Among them, the piezo element 2 X in the X direction and the piezo element 2 Y in the Y direction scan the probe 3 two-dimensionally and store a drive signal in the Z direction in the data storage 7, thereby By converting the displacement component into an electric signal, the unevenness information of the sample surface, that is, the equipotential surface such as an electron cloud can be displayed on the image display 8.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

しかしながら第3図に示すように試料1の表面に電荷
9が局在する場合には、そのクーロン力によって探針3
が反発又は吸引され、探針3を保持する垂直方向のピエ
ゾ素子2Zが収縮し探針を上下に駆動することとなる。従
って実際の表面の凹凸は平坦であるにもかかわらず、例
えば第4図に示すようにあたかも凹凸が存在する如く表
示される場合がある。
However, when the charges 9 are localized on the surface of the sample 1 as shown in FIG.
Is repelled or sucked, and the vertical piezo element 2 Z that holds the probe 3 contracts and drives the probe up and down. Therefore, although the actual surface unevenness is flat, it may be displayed as if unevenness exists as shown in FIG. 4, for example.

一方原子間引力を利用した原子間力顕微鏡(以下AFM
という)は原理的には物質表面の電荷による電気的な影
響を受けることはなく、単純に物質表面の機械的な微小
凹凸を計測することができる。しかし物質表面の電気的
情報を得ることはできないという欠点があった。
On the other hand, atomic force microscope (hereinafter AFM)
In principle, there is no electrical influence due to the electric charge on the material surface, and it is possible to simply measure the minute mechanical irregularities on the material surface. However, there is a drawback that electrical information on the surface of the substance cannot be obtained.

本発明はこのような従来の走査型トンネル顕微鏡及び
原子間力顕微鏡の問題点に鑑みてなされたものであっ
て、試料表面に存在する凹凸と電荷領域とを識別して認
識できるようにすることを技術的課題とする。
The present invention has been made in view of the problems of such conventional scanning tunneling microscopes and atomic force microscopes, and it is possible to identify and recognize irregularities and charge regions existing on a sample surface. Is a technical issue.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は上面がXY面と平行にXYテーブル上に保持され
た試料をXY方向に沿って微小区間駆動する駆動手段と、
XYテーブル上に隣接して設けられたベースに一端が保持
されたカンチレバーと、試料に対向してカンチレバーの
先端部に設けられた導電性探針と、カンチレバーの先端
のXYテーブルに垂直なZ方向への変位を検出する変位検
出手段と、カンチレバーを介して導電性探針と試料との
間に所定電圧を印加する電圧印加手段と、電圧印加手段
による電圧を断続するスイッチ手段と、駆動手段による
試料のXY方向への移動時に変位検出手段による変位を保
持するデータストレージ部と、スイッチ手段のスイッチ
の開放及び閉成時のそれぞれについてデータストレージ
部に得られるXY方向の二次画像データを減算し、そのデ
ータをデータストレージ部に与える画像処理装置と、デ
ータストレージ部のデータを表示する画像表示器と、を
具備することを特徴とするものである。
The present invention has a driving means for driving a sample held on an XY table whose upper surface is parallel to the XY surface in a minute section along the XY direction,
A cantilever whose one end is held by a base adjacent to the XY table, a conductive probe provided at the tip of the cantilever facing the sample, and a Z direction at the tip of the cantilever perpendicular to the XY table. Detecting means for detecting displacement to the sample, voltage applying means for applying a predetermined voltage between the conductive probe and the sample via the cantilever, switch means for connecting and disconnecting the voltage by the voltage applying means, and driving means. Subtract the XY direction secondary image data obtained in the data storage section that holds the displacement by the displacement detection means when the sample moves in the XY directions and the data storage section when the switch of the switch means is opened and closed. And an image display device for displaying the data in the data storage unit, and an image processing device for providing the data to the data storage unit. It is intended to.

〔作用〕[Action]

このような特徴を有する本発明によれば、AFM動作時
において探針と試料との間の原子間力に基づく変位を検
出して二次元凹凸プロフィールを得ている。そしてSTM
動作時においてトンネル電流を一定に保つようにして二
次元凹凸プロフィールを得る。そしてこれらの二次元画
像データを画像処理装置での減算処理により電荷領域と
表面の微小な凹凸を区別して認識できるようにしてい
る。
According to the present invention having such characteristics, the displacement based on the interatomic force between the probe and the sample is detected during the AFM operation to obtain the two-dimensional uneven profile. And STM
A two-dimensional uneven profile is obtained by keeping the tunnel current constant during operation. Then, these two-dimensional image data are subjected to subtraction processing in the image processing device so that the charge region and the minute unevenness on the surface can be distinguished and recognized.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例について説明する。第1図は本発
明の一実施例による走査型原子間力トンネル顕微鏡の主
要部の構成を示す原理図である。本図においてベース11
上には一端が保持されたカンチレバー12が設けられ、そ
の下面には導電性材料から成る第1の導電性探針13が設
けられる。カンチレバー12は下面が導電性材料12aによ
って形成され、上面の一部にも金属フィルム12bが貼付
されている。又ベース11上にはXYテーブル14上に上面を
XY面と平行とした試料15が保持されている。そして導電
性探針13には導電フィルム12aと試料15との間に電圧印
加手段であるバイアス電源(電圧Vs)16がスイッチ17を
介して接続されている。
Next, examples of the present invention will be described. FIG. 1 is a principle diagram showing a configuration of a main part of a scanning atomic force tunnel microscope according to an embodiment of the present invention. In this figure, the base 11
A cantilever 12 whose one end is held is provided on the upper side, and a first conductive probe 13 made of a conductive material is provided on the lower surface thereof. The lower surface of the cantilever 12 is formed of a conductive material 12a, and the metal film 12b is also attached to a part of the upper surface. Also, on the base 11, place the upper surface on the XY table 14.
A sample 15 that is parallel to the XY plane is held. A bias power source (voltage Vs) 16 as a voltage applying means is connected to the conductive probe 13 between the conductive film 12a and the sample 15 via a switch 17.

さてこの導電性探針13が植設されたカンチレバー12の
真上には金属製の第2の探針21がZ軸駆動手段であるピ
エゾ素子22に取付けられている。ピエゾ素子22は探針21
をZ方向に移動させるものであり、探針21と金属フィル
ム12bとの間には図示のように電圧Vs2の第2の電圧印加
手段であるバイアス電源23が接続されている。そしてト
ンネル電流出力はA/D変換器24を介してフィードバック
制御系25に与えられ、その操作量に対応する制御量がD/
A変換器26を介してピエゾ素子22に与えられ、探針21と
カンチレバー12の先端との間が所定の間隔となるように
制御される。ここで探針21からD/A変換器26の各ブロッ
クはカンチレバー12の変位を計測する一次元の変位検出
手段を構成している。
A metallic second probe 21 is attached to a piezo element 22 which is a Z-axis driving means, right above the cantilever 12 in which the conductive probe 13 is implanted. The piezo element 22 is a probe 21
Is moved in the Z direction, and a bias power source 23, which is a second voltage applying unit for the voltage Vs2, is connected between the probe 21 and the metal film 12b. Then, the tunnel current output is given to the feedback control system 25 via the A / D converter 24, and the control amount corresponding to the manipulated variable is D /
It is given to the piezo element 22 via the A converter 26, and is controlled so that the space between the probe 21 and the tip of the cantilever 12 becomes a predetermined distance. Here, each block from the probe 21 to the D / A converter 26 constitutes one-dimensional displacement detection means for measuring the displacement of the cantilever 12.

さてA/D変換器24の出力はフィードバック制御系31に
も与えられる。フィードバック制御系31はこの入力を制
御量としてD/A変換器32を介してXYテーブル14のピエゾ
素子33を駆動することによって試料15をZ方向に移動さ
せるものである。又XYテーブル14にはX方向及びY方向
に試料を移動させるためのピエゾ素子34,35が設けられ
る。ピエゾ素子34,35は夫々XYドライバ36の出力がD/A変
換器37,38を介して与えられ、試料をXY方向に移動させ
るものである。XYドライバ36の出力及びフィードバック
制御系31の出力は又データストレージ40に与えられる。
データストレージ40はこの二次元の画像情報を保持する
ものであって、その出力は画像表示器41に直接与えら
れ、更に画像処理装置42にも与えられる。画像処理装置
42は後述するように2つの画像データの減算を行い、そ
の結果を画像表示器41に表示するものである。ここでピ
エゾ素子34,35及びD/A変換器37,38とXYドライバ36とはX
Yテーブル14上の試料15をXY方向に駆動する駆動手段を
構成している。
The output of the A / D converter 24 is also given to the feedback control system 31. The feedback control system 31 moves the sample 15 in the Z direction by driving the piezo element 33 of the XY table 14 via the D / A converter 32 with this input as a control amount. Further, the XY table 14 is provided with piezo elements 34, 35 for moving the sample in the X and Y directions. The outputs of the XY driver 36 are given to the piezo elements 34 and 35 via the D / A converters 37 and 38, respectively, to move the sample in the XY directions. The output of the XY driver 36 and the output of the feedback control system 31 are also provided to the data storage 40.
The data storage 40 holds this two-dimensional image information, and its output is directly given to the image display 41 and further given to the image processing device 42. Image processing device
Reference numeral 42 is for subtracting two pieces of image data, as will be described later, and displaying the result on the image display 41. Here, the piezo elements 34 and 35, the D / A converters 37 and 38, and the XY driver 36
It constitutes a driving means for driving the sample 15 on the Y table 14 in the XY directions.

次に本実施例の動作について説明する。まずAFM動作
時にはスイッチ17を開放しXYドライバ36によってピエゾ
素子48,35に電圧を印加し、XY方向に走査する。そして
試料15の微小な凹凸によってカンチレバー12の先端の導
電性探針13と試料15の表面とが数Åまで接近すると、両
者の間に原子間力が作用し、カンチレバー12に応力が加
わってカンチレバー12は下方にたわむ。このときバイア
ス電源23によって流れるトンネル電流Itを一定にするよ
うにフィードバック制御系25でピエゾ素子22をZ軸に沿
って下方に伸ばすことによって探針21も下方に移動す
る。この電気信号の変化を受けてカンチレバー12に加わ
る原子間力を一定に保つようにフィードバック制御ブロ
ック31によってXYテーブル14のピエゾ素子33への印加電
圧を制御する。こうすればデータストレージ40に試料表
面の微小凹凸に対応した凹凸のプロフィールが得られ
る。このときXYテーブル14に接続されたXYの各ピエゾ素
子34,35に印加される電圧信号によって試料15を二次元
的に移動させることによって第2図(a)に示すような
二次元凹凸プロフィールを得ることができる。この動作
は物質間の原子間力を検知しているため、試料15の表面
にトラップ等による電荷局在領域が存在している場合で
も凹凸プロフィールはその電気特性に影響されることは
ない。
Next, the operation of this embodiment will be described. First, at the time of AFM operation, the switch 17 is opened and a voltage is applied to the piezo elements 48 and 35 by the XY driver 36 to scan in the XY directions. When the conductive probe 13 at the tip of the cantilever 12 and the surface of the sample 15 approach up to several Å due to minute unevenness of the sample 15, an atomic force acts between them and stress is applied to the cantilever 12, causing the cantilever 12 to become stressed. 12 bends down. At this time, the probe 21 is also moved downward by extending the piezo element 22 downward along the Z-axis by the feedback control system 25 so that the tunnel current It flowing by the bias power supply 23 becomes constant. The feedback control block 31 controls the voltage applied to the piezo element 33 of the XY table 14 so that the interatomic force applied to the cantilever 12 in response to the change in the electric signal is kept constant. In this way, the profile of the unevenness corresponding to the minute unevenness on the sample surface can be obtained in the data storage 40. At this time, the sample 15 is two-dimensionally moved by the voltage signal applied to each of the XY piezo elements 34 and 35 connected to the XY table 14, so that a two-dimensional uneven profile as shown in FIG. Obtainable. Since this operation detects the interatomic force between substances, the uneven profile is not affected by the electrical characteristics even if the charge localized region due to the trap or the like exists on the surface of the sample 15.

こうしてAFMによる凹凸プロフィールを得た後、スイ
ッチ17を閉成しSTMによる動作を行わせる。この場合に
は導電性探針13は導電性材料12aを介してバイアス電源1
6からのバイアス電圧が印加されている。従って試料15
の走査中の導電性探針13が電荷局在領域に到来すると、
電荷局在領域の電荷に基づくクーロン力によって反発
し、導電性探針13は試料15の表面から遠ざかる。従って
微小な凹凸と電荷局在領域の影響を受けた凹凸プロフィ
ールが得られる。ここでAFM動作時と同様に試料をXY方
向に二次元的に移動させることによって、第2図(b)
に示すような二次元凹凸プロフィールを得ることができ
る。このプロフィールはデータストレージ40に保持され
る。
After obtaining the uneven profile by the AFM in this way, the switch 17 is closed and the operation by the STM is performed. In this case, the conductive probe 13 is connected to the bias power source 1 via the conductive material 12a.
Bias voltage from 6 is applied. Therefore sample 15
When the conductive probe 13 during scanning of arrives at the charge localized region,
The conductive probe 13 repels due to the Coulomb force based on the charges in the localized charge region, and the conductive probe 13 moves away from the surface of the sample 15. Therefore, an uneven profile affected by the minute unevenness and the localized charge region can be obtained. Here, by moving the sample two-dimensionally in the XY directions as in the AFM operation, FIG.
It is possible to obtain a two-dimensional uneven profile as shown in. This profile is maintained in data storage 40.

このように1回の走査で第2図(a)に示すAFM像を
得た後2回目の走査で第2図(b)に示すSTM像を得る
ことにより、同一の観察視野で微小凹凸だけの分布とこ
れを含む局在電荷分布のデータを得ることができる。従
って画像処理装置42によって第2図(a)のデータから
第2図(b)に示すデータを減算することによって第2
図(c)で示される電荷局在領域だけに基づく電荷分布
プロフィールを得ることができる。
In this way, by obtaining the AFM image shown in FIG. 2 (a) by one scan and then obtaining the STM image shown in FIG. 2 (b) by the second scan, only minute irregularities can be obtained in the same observation field of view. It is possible to obtain data on the distribution of and the localized charge distribution including it. Therefore, the image processing apparatus 42 subtracts the data shown in FIG. 2B from the data shown in FIG.
It is possible to obtain a charge distribution profile based only on the charge localized region shown in FIG.

尚本実施例ではカンチレバー12の変位の計測を一次元
のトンネル顕微鏡を用いて行っているが、カンチレバー
12たわみの変位量はカンチレバーの表面に金属膜を塗布
し、その上方よりレーザビーム等を照射して反射光の位
置変化から検出するようにすることも可能である。
In this embodiment, the displacement of the cantilever 12 is measured using a one-dimensional tunnel microscope.
It is also possible to detect the displacement amount of the deflection by coating a metal film on the surface of the cantilever and irradiating a laser beam or the like from above to detect it from the position change of the reflected light.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上詳細に説明したように本発明によれば、AFMモー
ドとSTMモードとを電気的に切換えて測定することによ
って、両者の画像データからトラップ等によって試料表
面に局在すると電荷領域と表面の物理的な凹凸とを区別
して認識することができる。従って従来のSTMだけによ
る物質表面の微細凹凸評価結果をより正確に測定するこ
とができるという効果が得られる。
As described in detail above, according to the present invention, by electrically switching between the AFM mode and the STM mode for measurement, it is possible to localize the charge region and the surface physics from the image data of both by localizing on the sample surface by a trap or the like. It can be recognized by distinguishing it from the typical unevenness. Therefore, the effect of being able to more accurately measure the evaluation results of the fine unevenness of the material surface by the conventional STM alone can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例による走査型原子間力トンネ
ル顕微鏡の構成を示すブロック図、第2図はその結果得
られた試料表面の二次元凹凸分布を示す図、第3図は従
来のSTM動作を行う走査型トンネル顕微鏡の構成を示す
概略図、第4図はその電荷分布プロフィールを示す図で
ある。 12……カンチレバー、13……導電性探針、14……XYテー
ブル、15……試料、16,23……バイアス電源、21……探
針、25,31……フィードバック制御系、33,34,35……ピ
エゾ素子、36……XYドライバ、40……データストレー
ジ、41……画像表示器、42……画像処理装置。
FIG. 1 is a block diagram showing the structure of a scanning atomic force tunneling microscope according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the resulting two-dimensional unevenness distribution on the sample surface, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the scanning tunneling microscope that performs the STM operation, and FIG. 4 is a diagram showing the charge distribution profile thereof. 12 …… Cantilever, 13 …… Conductive probe, 14 …… XY table, 15 …… Sample, 16,23 …… Bias power supply, 21 …… Probe, 25,31 …… Feedback control system, 33,34 , 35 ... Piezo element, 36 ... XY driver, 40 ... Data storage, 41 ... Image display, 42 ... Image processing device.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 7735−4M Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H01L 21/66 7735-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】上面がXY面と平行にXYテーブル上に保持さ
れた資料をXY方向に沿って微小区間駆動する駆動手段
と、 前記XYテーブル上に隣接して設けられたベースに一端が
保持されたカンチレバーと、 前記資料に対向して前記カンチレバーの先端部に設けら
れた導電性探針と、 前記カンチレバーの先端の前記XYテーブルに垂直なZ方
向への変位を検出する変位検出手段と、 前記カンチレバーを介して前記導電性探針と前記資料と
の間に所定電圧を印加する電圧印加手段と、 前記電圧印加手段による電圧を断続するスイッチ手段
と、 前記駆動手段による前記資料のXY方向への移動時に前記
変位検出手段による変位を保持するデータストレージ部
と、 前記スイッチ手段のスイッチの開放及び閉成時のそれぞ
れについて前記データストレージ部に得られるXY方向の
二次元画像データを減算し、そのデータを前記データス
トレージ部に与える画像処理装置と、 前記データストレージ部のデータを表示する画像表示器
と、を具備することを特徴とする走査型原子間力トンネ
ル顕微鏡。
1. A driving means for driving a material, which is held on an XY table, whose upper surface is parallel to the XY surface, in a minute section along the XY direction, and one end is held by a base provided adjacently on the XY table. A cantilever, a conductive probe provided at the tip of the cantilever facing the material, a displacement detecting means for detecting the displacement of the tip of the cantilever in the Z direction perpendicular to the XY table, Voltage applying means for applying a predetermined voltage between the conductive probe and the material via the cantilever, switch means for connecting and disconnecting the voltage by the voltage applying means, and XY direction of the material by the driving means. And a data storage unit for holding the displacement by the displacement detection unit when the switch is moved, and a data storage unit for opening and closing the switch of the switch unit. Scanning type, which comprises: an image processing device that subtracts two-dimensional image data in the XY directions and gives the data to the data storage unit; and an image display that displays the data in the data storage unit. Atomic force tunneling microscope.
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