JPH0834356B2 - Magnetic shield material - Google Patents
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Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 I 発明の背景 技術分野 本発明は磁気シールド材に関し、特に特定方向の磁界
に対して大きいシールド効果を有する扁平なアモルファ
ス合金軟磁性粒子からなる磁気シールド用軟磁性粉末を
用いた磁気シールド材に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic shield material, and more particularly to a soft magnetic powder for magnetic shield comprising flat amorphous alloy soft magnetic particles having a large shield effect against a magnetic field in a specific direction. The magnetic shield material used.
従来技術とその問題点 磁化物体その他の磁界発生源が他の物体や電気回路等
に影響を生じないようにするために磁気シールド材が用
いられている。磁気シールド材には高透磁率の金属板が
シールド特性からは望ましいが、用途が著しく制限され
る。粉末材料の場合には、これを有機バインダーに分散
して塗料の形でシールドの必要な個所に塗布したり、あ
るいは適当な可撓性支持体などに塗布してシールド板と
したり、様々な利用が可能なので都合が良い。Prior Art and Its Problems Magnetic shield materials are used to prevent magnetized objects and other magnetic field sources from affecting other objects and electric circuits. A metal plate having a high magnetic permeability is desirable for the magnetic shield material from the viewpoint of the shielding property, but its use is extremely limited. In the case of powdered materials, this can be dispersed in an organic binder and applied in the form of paint to the required parts of the shield, or applied to a suitable flexible support, etc. to form a shield plate for various uses. This is convenient because it is possible.
高透磁率の粉末を用いた磁気シールド材には各種の提
案がなされている。例えば特開昭58−59268号には高透
磁率合金の扁平粉を高分子化合物結合剤中に混合した磁
気シールド塗料が、また特開昭59−201493号には軟磁性
アモルファス合金を粉砕した扁平粉を高分子化合物結合
剤中に混合した磁気シールド塗料が示されている。Various proposals have been made for magnetic shield materials using powder of high magnetic permeability. For example, JP-A-58-59268 discloses a magnetic shield coating in which flat powder of a high magnetic permeability alloy is mixed in a polymer compound binder, and JP-A-59-201493 discloses a flat powder obtained by pulverizing a soft magnetic amorphous alloy. Shown is a magnetic shield coating in which the powder is mixed in a polymeric binder.
これらの扁平粉を用いた磁気シールド材は厚さ方向に
垂直な平面間で等方的なシールド特性を有している。ま
た特開昭59−201493号に示されるような合金扁平粉は、
遷移金属−半金属(メタロイド)系の合金を高温溶融状
態から冷却ロール表面に接触させて高速急冷した薄帯を
粉砕して得た粉末を用いるけれども、薄帯の厚さの下限
は10μmであり、通常10〜50μm程度のものしか得られ
ず、これを粉砕して鱗片状の粉末にしても粉末の厚さは
変らないから、この粉末から磁気シールド塗膜を製造し
てもシールド特性が非常に悪い。The magnetic shield material using these flat powders has isotropic shield characteristics between planes perpendicular to the thickness direction. Further, alloy flat powder as shown in JP-A-59-201493,
Although a powder obtained by crushing a ribbon which is obtained by bringing a transition metal-metalloid (metalloid) -based alloy into contact with the surface of a cooling roll from a high temperature molten state and rapidly quenching is used, the lower limit of the thickness of the ribbon is 10 μm. Usually, only about 10 to 50 μm can be obtained. Even if crushed and scale-like powder is used, the thickness of the powder does not change. Bad for
アモルファス合金自体の磁気特性は非常に良いけれど
も、このような鱗片状の粉末ではその磁気特性は充分に
生かされない。Although the magnetic properties of the amorphous alloy itself are very good, the magnetic properties are not fully utilized in such a flaky powder.
高速急冷した合金を粉砕して鱗片状にする方法は特開
昭58−197205号にその1例が示されている。しかしその
粉砕方法は従来公知のスタンプミル、乾式ボールミル、
湿式ボールミル、アトライター、振動ミルのいずれかを
用いるものである。また特開昭60−401号にはシート、
リボン、テープ、ワイヤ状の高速急冷アモルファス合金
をガラス転移点以下の温度で脆化し、次いで粉砕する方
法を示しているが、用いられる手段はロッドミル、ボー
ルミル、衝撃ミル、ディスクミル、スタンプミル、クラ
ッシャーロールである。しかし、これらの粉砕手段では
シート、リボン等の最小厚さ以下に粉砕することはでき
ないし、また等方性の鱗片粉が得られるに過ぎないので
ある。このような比較的大きい粉末は塗料化しても均一
塗布が難しく、また塗布して得た磁気シールドは磁気的
な均一性に欠け、磁界の大きな漏れを生じる。Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-197205 discloses one example of a method of crushing a rapidly quenched alloy into flakes. However, the crushing method is a conventionally known stamp mill, dry ball mill,
Either a wet ball mill, an attritor, or a vibration mill is used. Further, in JP-A-60-401, a sheet,
Ribbon, tape, and wire-shaped rapid-quenching amorphous alloy are embrittled at a temperature below the glass transition point and then pulverized.The means used are rod mill, ball mill, impact mill, disc mill, stamp mill, crusher. It is a roll. However, these pulverizing means cannot pulverize the sheet, ribbon, etc. to the minimum thickness or less, and only give isotropic scale powder. Even if such a relatively large powder is made into a paint, it is difficult to apply it uniformly, and the magnetic shield obtained by applying it lacks magnetic uniformity and causes a large leakage of the magnetic field.
磁気シールドにより遮蔽すべき磁界は等方性の場合も
あるが特定の方向に強いことも多く、このような場合に
はこの特定方向への磁気遮蔽効果を特に大きく設計した
いが、従来の鱗片状粉末を用いて塗布時に磁気配向して
もほとんど効果がない。The magnetic field to be shielded by the magnetic shield may be isotropic, but it is often strong in a specific direction.In such a case, we would like to design a particularly large magnetic shielding effect in this specific direction. Even if magnetic orientation is applied during coating using powder, there is almost no effect.
このような問題点を解決するために、本発明者等は、
特願昭62−215857号で粉末の平均厚さおよび平均外径/
平均厚さ比を規定し、シールド効果が高く、しかも均一
な磁気シールド材を提案している。このものは従来粉末
に比べ、薄膜化した場合でも膜面と平行な方向の磁気シ
ールド効果は向上しているが、磁気シールドに対する要
求は厳しく、さらに効果の高い磁気シールド材が要求さ
れている。In order to solve such a problem, the present inventors have
In Japanese Patent Application No. 62-215857, the average thickness of powder and the average outer diameter /
By defining the average thickness ratio, we have proposed a magnetic shield material that has a high shielding effect and is uniform. Compared with the conventional powder, this material has an improved magnetic shield effect in the direction parallel to the film surface even when it is made thin, but the requirements for the magnetic shield are strict, and a magnetic shield material having a higher effect is required.
II 発明の目的 本発明の目的は、薄膜化しても膜面と平行な方向の磁
気シールド性のよい磁気シールド材を提供することにあ
る。II Object of the Invention An object of the present invention is to provide a magnetic shield material having a good magnetic shield property in a direction parallel to the film surface even if it is thinned.
III 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成され
る。III Disclosure of the Invention Such an object is achieved by the present invention described below.
すなわち本発明は、軟磁性粉末と結合剤とを含有する
磁気シールド材であって、前記軟磁性粉末が平均厚さ0.
01〜1μm、平均外径/平均厚さ10〜10000のアモルフ
ァス合金軟磁性粒子からなり、 前記アモルファス合金軟磁性粒子の組成が 式 FeuMx(Si,B)w (上記式において、Mは、Crであるか、Crと、Ti、V、
Nb、Ta、Mo、W、Mn、CoおよびNiから選択される少なく
とも1種とであり、at%で表わして、x=2〜10(ただ
し、Crの含有量は2〜10at%)、w=15〜37、u=100
−(x+w)である。) で表され、 直流磁界での最大透磁率が15〜70、保持力が5〜20(O
e)であることを特徴とする磁気シールド材である。That is, the present invention is a magnetic shield material containing a soft magnetic powder and a binder, wherein the soft magnetic powder has an average thickness of 0.
It is composed of amorphous alloy soft magnetic particles having an average outer diameter / average thickness of 10 to 10000 and a composition of the amorphous alloy soft magnetic particles of the formula Fe u M x (Si, B) w (where M is , Cr, or Cr, Ti, V,
At least one selected from Nb, Ta, Mo, W, Mn, Co and Ni, and represented by at%, x = 2 to 10 (however, the content of Cr is 2 to 10 at%), w = 15-37, u = 100
-(X + w). ), The maximum magnetic permeability in a DC magnetic field is 15 to 70, and the coercive force is 5 to 20 (O
e) A magnetic shield material characterized in that
IV 発明の具体的構成 本発明の磁気シールド材に用いる軟磁性粉末は、アモ
ルファス合金軟磁性粒子からなる。IV Specific Structure of the Invention The soft magnetic powder used in the magnetic shield material of the present invention is composed of amorphous alloy soft magnetic particles.
本発明に用いるアモルファス合金軟磁性粒子は一般に
扁平形状であり、平均厚さは0.01〜1μmとされる。The amorphous alloy soft magnetic particles used in the present invention are generally flat and have an average thickness of 0.01 to 1 μm.
平均厚さが0.01μm未満となると、磁気シールド材と
する場合に結合剤への分散性が低下し、透磁率等の磁気
特性が劣化し、シールド特性が低下する。If the average thickness is less than 0.01 μm, the dispersibility in the binder when used as a magnetic shield material is deteriorated, magnetic properties such as magnetic permeability are deteriorated, and the shield property is deteriorated.
一方、1μmを超えると、磁気シールド材の厚さが薄
い場合均一に分散した塗膜が形成できず、また、磁気シ
ールド材の厚さ方向の磁性粒子数が少なく、シールド特
性が不十分となる。On the other hand, if the thickness exceeds 1 μm, a uniformly dispersed coating film cannot be formed when the thickness of the magnetic shield material is thin, and the number of magnetic particles in the thickness direction of the magnetic shield material is small, resulting in insufficient shielding characteristics. .
このような場合、平均厚さが0.01〜0.6μmとなる
と、より好ましい結果を得る。In such a case, more preferable results are obtained when the average thickness is 0.01 to 0.6 μm.
なお、平均厚さは、分析型走査型電子顕微鏡で測定す
ればよい。The average thickness may be measured with an analytical scanning electron microscope.
平均アスペスト比(平均外径/平均厚さ)は10〜1000
0を用いることが好ましい。平均アスペクト比が10未満
では扁平粒子に対する反磁界の影響が大きくなり、透磁
率など実効の磁気特性が低下し、シールド特性が低下す
る。Average aspect ratio (average outer diameter / average thickness) is 10 to 1000
It is preferable to use 0. If the average aspect ratio is less than 10, the influence of the demagnetizing field on the flat particles becomes large, the effective magnetic characteristics such as magnetic permeability deteriorate, and the shield characteristics deteriorate.
一方10000以上では平均外径の小さな粉末の製造が困
難となり、そのため成形性が劣化する。なお、平均アス
ペクト比は、10〜500であるとより好ましい結果を得
る。On the other hand, if it is 10,000 or more, it becomes difficult to produce a powder having a small average outer diameter, and thus the moldability is deteriorated. A more preferable result is obtained when the average aspect ratio is 10 to 500.
この場合の平均外径とは、後述する粒度分析計によっ
て求められた粒径を、粒径の小さい方から重量を累計し
て50%になったときの粒径であり、これはD50として知
られている。The average outer diameter in this case is a particle size when the particle size obtained by the particle size analyzer described below is 50% by cumulative weight from the smaller particle size, and this is D 50. Are known.
このような扁平状粒子の主面形状において、その長軸
(最大径)をa、短軸(最小径)をbとしたとき、軸比
の平均a/bは、磁気シールドの方向性が要求される場合
には1.2以上のできるだけ大きい値が望ましい。磁界源
が方向性を有する場合には、その方向へ配向磁場を作用
させながら磁性塗料を硬化させればその方向の磁性率の
向上ができ、磁気シールド効果を大きくすることができ
る。この場合、a/bが1.2〜5となると、より好ましい結
果を得る。In the main surface shape of such flat particles, when the major axis (maximum diameter) is a and the minor axis (minimum diameter) is b, the average a / b of the axial ratios requires the directionality of the magnetic shield. If this is the case, a maximum value of 1.2 or higher is desirable. When the magnetic field source has directionality, curing the magnetic paint while applying an orientation magnetic field in that direction can improve the magnetic susceptibility in that direction and increase the magnetic shield effect. In this case, more preferable results are obtained when a / b is 1.2 to 5.
粒子の長軸および短軸は、分析型透過型電子顕微鏡に
より測定すればよい。The major axis and the minor axis of the particles may be measured with an analytical transmission electron microscope.
本発明では、このアモルファス合金軟磁性粒子のうち
粒径が10〜50μmであるものが軟磁性粉末全体の35wt%
以上であり、かつ粒径が88μmを超えるものが0.5wt%
以下であり、粒径が3μm未満のものが10wt%以下であ
ることが好ましい。In the present invention, the amorphous alloy soft magnetic particles having a particle size of 10 to 50 μm account for 35 wt% of the entire soft magnetic powder.
0.5 wt% if the particle size exceeds 88 μm
It is below, and it is preferable that the particles having a particle size of less than 3 μm are below 10 wt%.
この場合の粒径とは、光散乱法を用いた粒度分析計で
測定した平均粒径である。The particle size in this case is an average particle size measured by a particle size analyzer using a light scattering method.
より具体的には、光散乱法を用いた粒度分析計は、試
料を例えば循環しながらレーザー光やハロゲンランプ等
を光源としてフランホーファ回析あるいはミィ散乱の散
乱角を測定し、粒度分布を測定するものである。この詳
細は、例えば「粉体と工業」VOL.19No.7(1987)に記載
されている。More specifically, the particle size analyzer using the light scattering method measures the particle size distribution by measuring the scattering angle of Franhofer diffraction or Mie scattering using a laser beam or a halogen lamp as a light source while circulating the sample. It is a thing. The details are described, for example, in “Powder and Industry” VOL.19 No.7 (1987).
このように測定される粒度分布において、粒径が10〜
50μmであるものが軟磁性粉末全体の35wt%未満である
と、結合剤中に分散して磁気シールド材とした場合に分
散性が低く、磁気シールド効果に位置的ムラを生じた
り、あるいは透磁率が減少するため、磁気シールド効果
が不十分となる。In the particle size distribution measured in this way, the particle size of 10 ~
If the content of 50 μm is less than 35 wt% of the whole soft magnetic powder, the dispersibility is low when dispersed in a binder to form a magnetic shield material, and the magnetic shield effect has positional unevenness or magnetic permeability. , The magnetic shield effect becomes insufficient.
このような場合、10〜50μmの粒径のものが40wt%以
上、特に50wt%以上となると、より好ましい結果を得
る。In such a case, more preferable results are obtained when the particle diameter of 10 to 50 μm is 40 wt% or more, particularly 50 wt% or more.
なお、10〜50μmの粒径のものは、通常、90wt%以下
である。The particles having a particle size of 10 to 50 μm are usually 90 wt% or less.
また、粒径が88μmを超えるものが0.5wt%を超える
と、成形むらを生じ磁気シールド特性の位置的むらを生
じやすい。Further, if the particle size exceeds 88 μm and exceeds 0.5 wt%, uneven molding is likely to occur and positional unevenness of the magnetic shield characteristics is likely to occur.
このような場合、88μmを超える粒径のものが0〜0.
3wt%となると、より好ましい結果を得る。In such a case, the particle size exceeding 88 μm is 0 to 0.
When it is 3 wt%, more preferable results are obtained.
さらに、粒径が3μm未満であるものが10wt%以下で
あることが好ましい。Furthermore, it is preferable that the particle size of less than 3 μm is 10 wt% or less.
10wt%を超えると、結合剤中に分散して磁気シールド
材とした場合に透磁率が低下し、磁気シールド効果が不
十分となる。If it exceeds 10 wt%, the magnetic permeability will decrease when dispersed in a binder to form a magnetic shield material, and the magnetic shield effect will be insufficient.
このような場合、3μm未満の粒径のものが0〜7wt
%となると、より好ましい結果を得る。In such a case, the particle size of less than 3 μm is 0 to 7 wt.
%, More preferable results are obtained.
また、このような軟磁性粒子からなる軟磁性粉末は、
以下のような磁気特性を有することが磁気シールド特性
向上のために好ましい。Further, the soft magnetic powder composed of such soft magnetic particles,
It is preferable to have the following magnetic characteristics in order to improve the magnetic shield characteristics.
直流磁界での最大透磁率をμm、保磁力をHcとする
と、20≦μm≦50、より好ましくは25≦μm≦40、2≦
Hc≦13、より好ましくは3≦Hc≦10である。Assuming that the maximum magnetic permeability in a DC magnetic field is μ m and the coercive force is Hc, 20 ≦ μ m ≦ 50, more preferably 25 ≦ μ m ≦ 40, 2 ≦
Hc ≦ 13, more preferably 3 ≦ Hc ≦ 10.
このようなアモルァス合金軟磁性粒子は高速急冷法に
より製造されるリボン、鱗片、シートその他の形状のも
のから粉砕して得られるものである。本発明で使用する
アモルファス合金の組成としては強磁性遷移金属と半金
属より成るもの、あるいはこれらにさらに少量の他元素
を添加したものなど任意の合金組成を使用できる。強磁
性遷移金属としてはFe、Co、Niなど、特にFeを主体とし
たもの、半金属としてはB、Si、あるいはこれにC、
P、Geを加えたもの、特にB、Siを主体としたFe−B−
Si3元系である。そして、これらの成分に10at%以下のC
r、あるいはCrとMn、Mo、Nb、Al、Ti、V、Sn、Zn、Cu
などの少なくとも1種とを添加したものである。Such soft magnetic particles of amorphous alloy are obtained by pulverizing ribbons, scales, sheets and other shapes produced by the rapid quenching method. As the composition of the amorphous alloy used in the present invention, any alloy composition such as a ferromagnetic transition metal and a semimetal, or a composition in which a small amount of another element is further added can be used. Ferromagnetic transition metals such as Fe, Co and Ni, mainly Fe, and semimetals such as B, Si or C,
P- and Ge-added materials, especially Fe-B-, mainly B and Si
Si3 element system. And C of 10at% or less in these ingredients
r, or Cr and Mn, Mo, Nb, Al, Ti, V, Sn, Zn, Cu
And at least one of the above.
特にFe−B−Si系合金の場合には、第1図に○で示し
たものはアモルファス軟磁性合金となるもので、これら
を含む領域にある組成を用いることができる。Particularly in the case of Fe-B-Si based alloys, the ones indicated by ◯ in FIG. 1 are amorphous soft magnetic alloys, and the composition in the region containing them can be used.
なお、第1図は、(Fe+M)−Si−B3元組成図であ
り、Mについては後述する。FIG. 1 is a (Fe + M) -Si-B3 elemental composition diagram, and M will be described later.
この場合の合金組成は、下記式で表わされるものであ
ることが好ましい。In this case, the alloy composition is preferably represented by the following formula.
式 FeuMx(Si,B)w ただし、上記式において、at%で表わして、x=2〜
10、好ましくはx=2〜8、w=15〜37、好ましくはw
=18〜30、u=100−(x+w)である。Formula Fe u M x (Si, B) w However, in the above formula, x = 2
10, preferably x = 2-8, w = 15-37, preferably w
= 18-30, u = 100- (x + w).
そして、Mは(rあるいはCrとTi、V、Nb、Ta、Mo、
W、Mn、CoおよNiから選択される少なくとも1種とであ
るが、耐食性が高く、扁平化が容易である点でCrのみあ
るいはCrを必須として他の1種以上を含むものとする。And M is (r or Cr and Ti, V, Nb, Ta, Mo,
At least one selected from W, Mn, Co, and Ni, but in view of high corrosion resistance and easy flattening, only Cr or one or more of other Cr is essential.
Mは、合金の耐食性や脆さを向上させるために添加さ
せるが、Mの含有量、すなわちxが10を超えると飽和磁
束密度が低下する。M is added to improve the corrosion resistance and brittleness of the alloy, but if the content of M, that is, x exceeds 10, the saturation magnetic flux density decreases.
さらに詳述すると、Crが添加される場合、その添加量
は2〜10at%であり、Nb、Mo、W、Ta、V、Ti、Co、N
i、特にNb、Mo、Niの1種以上が添加される場合、その
添加量は1at%、10at%未満が好ましい。More specifically, when Cr is added, the addition amount is 2 to 10 at%, and Nb, Mo, W, Ta, V, Ti, Co, N
When i, particularly one or more of Nb, Mo and Ni is added, the addition amount is preferably 1 at% or less than 10 at%.
このような範囲の添加量とすることにより、耐食性と
脆さが向上し、しかも飽和磁束密度は低下しない。By setting the addition amount in such a range, corrosion resistance and brittleness are improved, and the saturation magnetic flux density is not lowered.
また、W=15〜37は、非晶質形成域である。 Further, W = 15 to 37 is an amorphous formation region.
このような組成範囲のうち、第1図に示す点E、F、
G、Hを順に結んだ線より上側の部分は、高速急冷法に
より機械的に強靭なアモルファス合金が生成される領域
であるから、本発明のように粉砕を必要とする用途では
粉砕コストが高くなる。Of such composition ranges, points E, F, and
The upper part of the line connecting G and H in order is a region where a mechanically tough amorphous alloy is produced by the rapid quenching method, so that the crushing cost is high in the application requiring crushing as in the present invention. Become.
本発明者等はこの3元合金及び上記したような置換型
合金について広範囲な試験を行ったところ、このような
領域外の点E、F、G、Hを結ぶ線と点A、B、C、D
を結ぶ線との間の領域のアモルファス合金は、脆く粉砕
し易いことが分った。The inventors of the present invention have conducted extensive tests on the ternary alloy and the substitutional alloys as described above. As a result, the line connecting points E, F, G, and H and the points A, B, and C outside the region. , D
It was found that the amorphous alloy in the area between the line connecting the two was brittle and easily crushed.
これを数値で示すと、第1図の3角組成図のFe+M、
B、Siの座標点(Fe+M、B、Si)で表わして好ましい
範囲は A(63、62、5)、 B(62、23、15)、 C(63、15、22)、 D(68、5、27)、 E(80、5、15)、 F(77、7、16)、 G(75、13、12)、 及びH(77、18、5)を順に結んだ範囲内となる。ただ
し数値はat%である。この領域から得た合金の磁気シー
ルド特性は申し分のないことが分った。This is shown numerically, Fe + M in the triangular composition diagram of Fig. 1,
The preferred range represented by the coordinate points of B and Si (Fe + M, B, Si) is A (63, 62, 5), B (62, 23, 15), C (63, 15, 22), D (68, 5, 27), E (80, 5, 15), F (77, 7, 16), G (75, 13, 12), and H (77, 18, 5) are connected in this order. However, the value is at%. The magnetic shielding properties of the alloys obtained from this region have been found to be satisfactory.
また、この領域から得られる合金は、脆さも十分であ
る。脆さはアモルファス薄帯を一定厚に形成し、それを
直径rの棒の周りに曲げたときに薄帯が折れるときのr
で表わした場合、第1図の線E−F−G−Hの部分で0m
mに近く、また線A−B−C−Dのところで約5mm程度で
ある。The alloys obtained from this region are also sufficiently brittle. The brittleness is r when the amorphous ribbon is formed to have a constant thickness and the ribbon is broken when it is bent around a rod of diameter r.
When expressed by, 0 m at the line E-F-G-H in FIG.
It is close to m and is about 5 mm at the line ABCD.
このようなアモルファス合金は従来公知の任意の高速
急冷法によって製造しうる。このような製造方法の例は
特公昭61−4302号などに記載されている。例えば所定の
合金組成のインゴットを高温で溶融し、それを回転して
いる鋼製単ロールなどに吹きつけて高速冷却し、得られ
た薄帯または鱗片状体を粗粉砕して粗大粒子とする。Such an amorphous alloy can be manufactured by any conventionally known rapid quenching method. An example of such a manufacturing method is described in Japanese Patent Publication No. 61-4302. For example, an ingot of a predetermined alloy composition is melted at a high temperature, sprayed on a rotating steel single roll or the like and rapidly cooled, and the obtained ribbon or scale is coarsely crushed to obtain coarse particles. .
粗粉砕は公知の任意の方法で行って良く、平均粒径数
μm〜約50μm直径の粒状粉あるいは水アトマイズ法等
公知の粉末製造法により作った同様寸法の粉末を用い
る。The coarse pulverization may be carried out by any known method, and a granular powder having an average particle diameter of several μm to about 50 μm or a powder of the same size produced by a known powder manufacturing method such as a water atomizing method is used.
高速急冷合金は次いで粉砕処理にかけられる。 The fast-quenched alloy is then subjected to a grinding process.
粉砕は、ピン型ミル、ビーズミル等の媒体撹拌ミル、
特にピン型ミルを使用することが好ましい。ピン型ミル
については、例えば特開昭61−259739号などに記載があ
る。ピン型ミルは内外円筒の対向面に多数のピンが植立
してあり、媒体としてビーうが充填され、内外円筒が相
対的に高速回転されるものである。Grinding is performed with a medium stirring mill such as a pin type mill or a bead mill,
It is particularly preferable to use a pin type mill. The pin type mill is described, for example, in JP-A-61-259739. In the pin type mill, a large number of pins are erected on the opposing surfaces of the inner and outer cylinders, the medium is filled with beads, and the inner and outer cylinders are rotated at a relatively high speed.
アモルファス合金をピン型ミルで粉砕すると、前記し
たような粒度分布が容易に得られる。しかもピン型ミル
による強力なせん断作用によりアモルファス合金薄帯の
平均厚さを0.01〜1μm程度に減じることができる。When the amorphous alloy is crushed with a pin type mill, the particle size distribution as described above can be easily obtained. Moreover, the strong shearing action of the pin type mill can reduce the average thickness of the amorphous alloy ribbon to about 0.01 to 1 μm.
従って、得られる合金粒子の形状は扁平体である。こ
うした扁平粒子を面の方向から見ると、不定形ではなく
て長軸を有する粒子形を示す。ピン型ミルによる粉砕に
より、長軸をa、短軸をbとするときa/bの平均を1.2以
上とすることができる。Therefore, the shape of the obtained alloy particles is a flat body. When such flat particles are viewed from the surface direction, they show a particle shape having a long axis rather than an indefinite shape. By crushing with a pin-type mill, the average of a / b can be 1.2 or more when the major axis is a and the minor axis is b.
このようにして得られたアモルファス合金粒子に対し
ては、磁気特性向上のため、熱処理を施すことが好まし
い。これにより、後述の磁気特性を有する磁気シールド
材が、良好に得られるものである。The amorphous alloy particles thus obtained are preferably heat-treated in order to improve the magnetic properties. As a result, the magnetic shield material having the magnetic characteristics described later can be obtained well.
熱処理条件は、通常、350〜500℃にて10分〜5時間程
度である。また、熱処理は、N2、Ar等の不活性ガス雰囲
気にて行なうことが好ましいが、空気中あるいはH2を用
いない還元性雰囲気にて行なうこともできる。本発明の
磁気シールド材は、このようなアモルファス軟磁性合金
からなる軟磁性粉末と結合剤とを含有するものである。The heat treatment condition is usually at 350 to 500 ° C. for about 10 minutes to 5 hours. Further, the heat treatment is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as N 2 or Ar, but it may be carried out in air or in a reducing atmosphere which does not use H 2 . The magnetic shield material of the present invention contains a soft magnetic powder made of such an amorphous soft magnetic alloy and a binder.
本発明の磁気シールド材は、直流磁界での最大透磁率
をμm.保磁力をHcとしたとき、15≦μm≦70であり、5
(Oe)≦Hc≦20(Oe)とされる。The magnetic shield material of the present invention has a maximum magnetic permeability of μ m in a DC magnetic field and a coercive force of Hc of 15 ≦ μ m ≦ 70.
(Oe) ≦ Hc ≦ 20 (Oe).
μmが15未満であると磁気シールド効果が不十分であ
る。また、70を超える粒子は大粒子化して膜の均一性が
低下し、やはりシールド効果が低下する。magnetic shielding effect and mu m is less than 15 is insufficient. In addition, the particles exceeding 70 make the particles large and the uniformity of the film deteriorates, and the shielding effect also deteriorates.
Hcが20(Oe)を超えると磁気シールド効果が不十分と
なり、また、5(Oe)未満であると上記と同様に粒子は
大粒子化して膜の均一性が低下し、やはりシールド効果
が低下する。When Hc exceeds 20 (Oe), the magnetic shield effect becomes insufficient, and when it is less than 5 (Oe), the particles become large and the film uniformity deteriorates in the same manner as above, and the shielding effect also decreases. To do.
なお、18≦μm≦60、特に、25≦μm≦60、7(Oe)
≦Hc≦18(Oe)、特に、7≦Hc≦15となると、さらに良
好な結果を得る。Note that 18 ≦ μ m ≦ 60, especially 25 ≦ μ m ≦ 60, 7 (Oe)
Even better results are obtained when ≦ Hc ≦ 18 (Oe), particularly 7 ≦ Hc ≦ 15.
また、本発明では、軟磁性粉末の磁気シールド材中で
充填率が60〜95wt%であることが好ましい。Further, in the present invention, the filling rate in the magnetic shield material of soft magnetic powder is preferably 60 to 95 wt%.
充填率が60wt%未満であると磁気シールド効果が急激
に減少し、95wt%を超えると軟磁性粉末が結合剤によっ
て強固に結び付くことができず、磁気シールド材の強度
が低下する。If the filling ratio is less than 60 wt%, the magnetic shielding effect is sharply reduced, and if it exceeds 95 wt%, the soft magnetic powder cannot be firmly bound by the binder, and the strength of the magnetic shielding material decreases.
充填率が70〜90wt%であると、特に良好な磁気シール
ド効果が得られ、シールド材の強度も十分である。When the filling rate is 70 to 90 wt%, a particularly good magnetic shield effect is obtained, and the strength of the shield material is sufficient.
本発明に用いる結合剤は、ポリウレタンを含有するこ
とが好ましい。The binder used in the present invention preferably contains polyurethane.
ポリウレタンとしては、多価イソシアネートとポリオ
ール化合物の縮重合物いずれも使用可能である。As the polyurethane, any polycondensation product of a polyvalent isocyanate and a polyol compound can be used.
この場合、多価イソシアネートとしては、2,4−トル
エンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネー
ト、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジ
イソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニレンジイソシ
アネート、4,4′−ビフェニレンジイシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシア
ネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジュールL、デスモジュールN等の各種多価イソシ
アネートは、いずれも使用可能である。また、ポリオー
ル化合物としては、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4
−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、
1,4−シクロヘキサンジメタノールの様な多価アルコー
ルは、いずれも使用可能である。この他、これら多価ア
ルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な多塩基酸との
縮重合によるポリエステルポリオールや、ポリエチレン
グリコール、ポリロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール等のポリエーテルポリオールや、カプロ
ラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒド
ロキシル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステ
ルポリオール等も使用可能である。In this case, as the polyvalent isocyanate, 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate,
m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenylene diisocyanate, 4,4'-biphenylene diisocyanate , Hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, Desmodur L, Desmodur N and the like can be used. Further, as the polyol compound, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,4
-Butanediol, 1,6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol,
Any polyhydric alcohol such as 1,4-cyclohexanedimethanol can be used. In addition to these polyhydric alcohols, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid,
Polyester polyol by polycondensation with polybasic acid such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, polyether polyol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, caprolactam, hydroxyl-containing acrylate ester, hydroxyl Various polyester polyols such as contained methacrylic acid ester can also be used.
これらポリウレタンの数平均分子量に特に制限はない
が、通常5,000〜100,000程度である。The number average molecular weight of these polyurethanes is not particularly limited, but is usually about 5,000 to 100,000.
本発明で用いる結合剤は、このようなポリウレタンの
みからなっていてもよく、また、以下に示す他の熱可塑
性樹脂を併用しても良い。The binder used in the present invention may be made of only such polyurethane, or may be used in combination with other thermoplastic resins shown below.
(1)塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共
重合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、
塩化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニ
ール共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン
酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアル
コール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニ
ール−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社製V
ROH、VYNC、VYEGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG5
20、UCARMAG528等が挙げられる。(1) Vinyl chloride copolymer Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl alcohol copolymer,
Vinyl chloride-vinyl alcohol-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol-maleic acid copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-terminal OH side chain Alkyl group copolymer, for example V manufactured by UCC
ROH, VYNC, VYEGX, VERR, VYES, VMCA, VAGH, UCARMAG5
20, UCARMAG 528 and the like.
これらはカルボン酸を含有してもよい。 These may contain carboxylic acids.
(2)ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、
1,3ブタンジオール、ジプロピグリコール、1,4ブタンジ
オール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、
ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、
1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アルコー
ルとのエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹
脂またはこれらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変性し
た樹脂(例えばバイロン53S)が例として挙げられる。(2) Polyester resin phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid,
Saturated polybasic acids such as adipic acid and sebacic acid, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin,
Trimethylolpropane, 1,2 propylene glycol,
1,3 butanediol, dipropyglycol, 1,4 butanediol, 1,6 hexanediol, pentaerythritol,
Sorbitol, glycerin, neopentyl glycol,
Examples thereof include a saturated polyester resin obtained by an ester bond with a polyhydric alcohol such as 1,4 cyclohexanedimethanol, or a resin obtained by modifying these polyester resins with SO 3 Na or the like (for example, Vylon 53S).
(3)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール
樹脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体が
挙げられる。(3) Polyvinyl alcohol-based resin Examples include polyvinyl alcohol, butyral resin, acetal resin, formal resin, and copolymers of these components.
(4)エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂 ビスフェノールAとエピクロルヒドリン、メチルエピ
クロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂、例えばシェ
ル化学製(エピコート152、154、828、1001、1004、100
7)、ダウケミカル製(DEN431、DER732、DER511、DER33
1)、大日本インキ製(エピクロン400、800)、さらに
上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂(PKHA、PKHC、PKHH)、臭素化ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製(エピクロン145、152、153、1120)等があり、ま
たこれらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。(4) Epoxy resin, phenoxy resin Epoxy resin obtained by reaction of bisphenol A with epichlorohydrin, methyl epichlorohydrin, for example, Shell Chemical (Epicoat 152, 154, 828, 1001, 1004, 100
7), made by Dow Chemical (DEN431, DER732, DER511, DER33
1), made by Dainippon Ink (Epiclon 400, 800), and phenoxy resin (PKHA, PKHC, PKHH) made by UCC, which is a high-polymerization resin of the above epoxy, a copolymer of brominated bisphenol A and epichlorohydrin, large Products manufactured by Nippon Ink Chemical Co., Ltd. (Epiclon 145, 152, 153, 1120) are available, and those containing a carboxylic acid group are also included.
(5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチセルローズ等が好適である。(5) Fibrin derivatives Various types are used, but particularly effective ones are nitrification cotton, cellulose acetobutyrate, ethyl cellulose,
Butyl cellulose, acetyl cellulose and the like are preferable.
その他、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PV
Pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。In addition, polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PV
P-olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenol resins, spiroacetal resins, acrylic resins containing at least one hydroxyl group-containing acrylic ester and methacrylic ester as polymerization components are also effective.
以下にエラストマーもしくはプレポリマーないしオリ
ゴマーの例を挙げる。Examples of the elastomer, prepolymer or oligomer will be given below.
(1)アクリロニトリル−ブタジエン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー1432J等のエラストマー。(1) Acrylonitrile-Butadiene Copolymer Elastomer Acrylonitrile butadiene copolymer prepolymer having a terminal hydroxyl group, which is commercially available as poly BD retied resin manufactured by Sinclair Petrochemical, or an elastomer such as Hiker 1432J manufactured by Nippon Zeon.
(2)ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマー
が特に熱可塑性樹脂との相溶姓の点で好適である。(2) Polybutadiene Elastomer A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group such as poly BD retied resin R-15 manufactured by Sinclair Petrochemical Co. is particularly preferable in terms of compatibility with a thermoplastic resin.
またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR−M
901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有
している。Also cyclized polybutadiene, CBR-M made by Japan Synthetic Rubber
901 also has excellent properties when combined with a thermoplastic resin.
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマ
ーの系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびそ
の環化物(日本合成ゴム製CIR701)があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン#300)等のエラストマーも有効に利用できる。Other suitable thermoplastic elastomers and prepolymers thereof include styrene-butadiene rubber, chlorinated rubber, acrylic rubber, isoprene rubber and cyclized products thereof (CIR701 manufactured by Japan Synthetic Rubber), epoxy-modified rubber, internal Elastomers such as plasticized saturated linear polyester (Toyobo Byron # 300) can also be effectively used.
なお、ポリウレタンと併用されるこれらの樹脂の含有
量は、結合剤中において80wt%以下であることが好まし
い。The content of these resins used in combination with polyurethane is preferably 80 wt% or less in the binder.
本発明の磁気シールド材には、通常、さらに硬化剤と
して前記した−NCO基を有する多価イソシアネートが含
有される。硬化剤は、結合剤に対し5〜30wt%程度であ
る。The magnetic shield material of the present invention usually further contains the above-mentioned polyvalent isocyanate having a —NCO group as a curing agent. The curing agent is about 5 to 30 wt% with respect to the binder.
なお、磁気シールド材は、軟磁性粉末、結合剤および
硬化剤の他に、分散剤、安定剤、カップリング剤等を含
有してもよい。The magnetic shield material may contain a dispersant, a stabilizer, a coupling agent and the like in addition to the soft magnetic powder, the binder and the curing agent.
このような磁気シールド材は、通常、必要な溶媒を用
いて成形ないし塗布用組成物とされた後に、所要の形状
に成形され、加熱硬化されて用いられる。Such a magnetic shield material is usually formed into a desired shape after being formed into a composition for molding or coating using a necessary solvent, and then heat-cured before use.
なお、硬化は、一般に、加熱オーブン中で50〜80℃に
て6〜100時間加熱すればよい。The curing may be generally carried out by heating in a heating oven at 50 to 80 ° C. for 6 to 100 hours.
本発明の磁気シールド材を、膜状あるいは薄板状に成
形して磁気シールド用に用いる場合、磁気シールド材の
厚さは5〜200μmであることが好ましい。When the magnetic shield material of the present invention is formed into a film or a thin plate and used for magnetic shield, the thickness of the magnetic shield material is preferably 5 to 200 μm.
これは、本発明の磁気シールド材は前記したような磁
気特性を有するため、5μmの厚さでも高い磁気シール
ド効果を示し、シールド材が磁気飽和しない程度の強度
の磁界のシールドには、200μmを超える厚さに形成し
ても磁気シールド効果は顕著には向上せず、200μm以
下とすればコスト的にも有利であるからである。This is because the magnetic shield material of the present invention has the magnetic characteristics as described above, and thus exhibits a high magnetic shield effect even with a thickness of 5 μm, and 200 μm is required for shielding a magnetic field having a strength such that the shield material is not magnetically saturated. This is because the magnetic shield effect is not significantly improved even if the thickness is increased, and it is also advantageous in terms of cost if the thickness is 200 μm or less.
なお、本発明の磁気シールド材を所要の形状に成形あ
るいは塗布する際に、配向磁界をかけたりあるいは機械
的に配向することにより、方向性の高い磁気シールド材
とすることができ、特に、磁気シールド材を板状あるい
は膜状としたときには、膜面と平行な方向の磁界に対し
て高い磁気シールド効果を有し、上記のような厚さ範囲
にて十分な効果を示すものである。When the magnetic shield material of the present invention is molded or applied in a desired shape, a magnetic field having a high directionality can be obtained by applying an orientation magnetic field or mechanically orienting the magnetic shield material. When the shield material is plate-shaped or film-shaped, it has a high magnetic shield effect against a magnetic field in a direction parallel to the film surface, and exhibits a sufficient effect in the above-mentioned thickness range.
V 発明の具体的効果 本発明の磁気シールド材は、所定の平均厚さおよびア
スペクト比を有するアモルファス合金軟磁性粒子からな
る軟磁性粉末を含有し、所定の最大透磁率および保磁力
を有する。V. Specific Effect of the Invention The magnetic shield material of the present invention contains a soft magnetic powder composed of amorphous alloy soft magnetic particles having a predetermined average thickness and aspect ratio, and has a predetermined maximum magnetic permeability and coercive force.
このため、本発明の磁気シールド材は磁気シールド効
果が高く、磁気シールド材を板状あるいは膜状としたと
きに、特に膜面と平行な方向の磁界に対しては5〜200
μm程度の厚さで所期の効果を得ることができ、スピー
カ、CRT等の磁気シールドの他、極めて適用範囲が広
く、また、コストも低くできる。Therefore, the magnetic shield material of the present invention has a high magnetic shield effect, and when the magnetic shield material is formed into a plate shape or a film shape, it is 5 to 200 especially for a magnetic field in a direction parallel to the film surface.
The desired effect can be obtained with a thickness of about μm, and in addition to magnetic shields for speakers, CRTs, etc., it has a very wide range of application and can be manufactured at low cost.
VI 発明の具体的実施例 以下、本発明を実施例を挙げて詳細に説明する。VI Specific Examples of the Invention Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples.
[実施例1] 下記表1に示す組成のアモルファス軟磁性合金を振動
ボールミルで粉砕して平均粒径32μmの粗粒粉を得、こ
れをピン型ミルで粉砕し、さらに熱処理を施して磁気シ
ールド用軟磁性粉末サンプルを作製した。[Example 1] Amorphous soft magnetic alloy having the composition shown in Table 1 below was crushed by a vibrating ball mill to obtain coarse powder having an average particle size of 32 µm, which was crushed by a pin-type mill and further heat-treated to obtain a magnetic shield. A soft magnetic powder sample was prepared.
ただし、ピン型ミルでの粉砕条件および熱処理条件
は、表1に示されるとおりである。However, the pulverization conditions and heat treatment conditions in the pin type mill are as shown in Table 1.
なお、表1にA、B、Cで示す熱処理条件の温度およ
び時間は下記のものである。The temperature and time of the heat treatment conditions shown by A, B and C in Table 1 are as follows.
A:450℃、1時間 B:400℃、1時間 C:350℃、1時間 また、熱処理はN2雰囲気にて行なった。A: 450 ° C., 1 hour B: 400 ° C., 1 hour C: 350 ° C., 1 hour Further, the heat treatment was performed in a N 2 atmosphere.
表1に各サンプルの性状を示す。 Table 1 shows the properties of each sample.
ただし、表1において、 A:粒径10〜50μmの粉末量 B:粒径88μmを超える粉末量 C:粒径3μm未満の粉末量 である。 However, in Table 1, A: the amount of powder having a particle size of 10 to 50 μm, B: the amount of powder having a particle size of more than 88 μm, C: the amount of powder having a particle size of less than 3 μm.
なお、平均厚さは分析型走査型電子顕微鏡により測定
し、平均外径は粒度分析計により測定した。The average thickness was measured with an analytical scanning electron microscope, and the average outer diameter was measured with a particle size analyzer.
また、軟磁性粉末サンプルの磁気特性として、直流磁
界での最大透磁率(μm)および保持力(Hc)を、表1
に併記する。As the magnetic characteristics of the soft magnetic powder sample, the maximum magnetic permeability (μm) and the coercive force (Hc) in a DC magnetic field are shown in Table 1.
Also described in.
このようにして得らた軟磁性粉末サンプルを下記の結
合剤、硬化剤および溶剤と混合し、磁気シールド材サン
プルを作製した。The soft magnetic powder sample thus obtained was mixed with the following binder, curing agent and solvent to prepare a magnetic shield material sample.
(結合剤) 塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体 [エスレックA(積水化学社製)] 100重量部 ポリウレタン[ニッポラン2304(日本ポリウレタン社
製)] 100重量部 (固型分換算) (硬化材) ポリイソシアネート[コロネートHL(日本ポリウレタン
社製)] 10重量部 (溶 剤) MEK 850重量部 磁気シールド材サンプル中の軟磁性粉末の充填率を表
1に併記する。(Binder) Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer [S-REC A (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)] 100 parts by weight Polyurethane [Nipporan 2304 (manufactured by Nippon Polyurethane Co.)] 100 parts by weight (solid component conversion) (curing material) Polyisocyanate [Coronate HL (manufactured by Nippon Polyurethane Co.)] 10 parts by weight (solvent) MEK 850 parts by weight Table 1 also shows the filling ratio of the soft magnetic powder in the magnetic shield material sample.
これらの磁気シールド材を、厚さ75μmのPET基板に1
00μm厚に塗布し、60℃にて60分間加熱して硬化し、シ
ールド板サンプルとした。These magnetic shielding materials are applied to a 75μm thick PET substrate.
It was applied to a thickness of 00 μm and cured by heating at 60 ° C. for 60 minutes to obtain a shield plate sample.
これらのシールド板サンプルについて、シールド比を
測定し、サンプルNo.5を1として相対値で表した。The shield ratio of each of these shield plate samples was measured, and sample No. 5 was designated as 1 and expressed as a relative value.
結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.
なお、シールド比は、シールド板サンプルを磁石上に
設置し、シールド板サンプルから0.5cmの位置での漏れ
磁束φを測定し、これとシールド板がない場合の磁束φ
0とを比較した比φ/φ0である。The shield ratio is measured by setting the shield plate sample on the magnet and measuring the leakage magnetic flux φ at the 0.5 cm position from the shield plate sample, and the magnetic flux φ when there is no shield plate.
The ratio φ / φ 0 compared with 0 .
また、シールド板サンプルの磁気特性として、直流磁
界での最大透磁率(μm)および保磁力(Hc)を、表1
に併記する。Further, as the magnetic properties of the shield plate samples, the maximum permeability at DC magnetic field (mu m) and coercive force (Hc), Table 1
Also described in.
なお、サンプルNo.6ではシールド比のバラつきがみら
れた。 In addition, in Sample No. 6, there was a variation in the shield ratio.
以上の実施例から本発明の効果が明らかである。 The effects of the present invention are apparent from the above examples.
なお、本発明の組成のアモルファス合金は7〜11時間
程度で粉砕できた。The amorphous alloy having the composition of the present invention could be crushed in about 7 to 11 hours.
第1図は、アモルファス合金組成を示す3元図である。 FIG. 1 is a ternary diagram showing the composition of an amorphous alloy.
フロントページの続き (72)発明者 清水 宏純 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 平井 一法 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 三村 升平 東京都台東区台東1丁目5番1号 東京磁 気印刷株式会社内 (72)発明者 牧村 篤 東京都台東区台東1丁目5番1号 東京磁 気印刷株式会社内 (72)発明者 保坂 洋 東京都台東区台東1丁目5番1号 東京磁 気印刷株式会社内Front page continuation (72) Inventor Hirosumi Shimizu 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Inc. (72) Inventor Ichiho Hirai 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation (72) Inventor Ryohei Mimura 1-5-1 Taito, Taito-ku, Tokyo Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. (72) Inventor Atsushi Makimura 1-5-1 Taito, Taito-ku, Tokyo Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Hosaka 1-5-1 Taito, Taito-ku, Tokyo Within Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd.
Claims (3)
ルド材であって、前記軟磁性粉末が平均厚さ0.01〜1μ
m、平均外径/平均厚さ比10〜10000のアモルファス合
金軟磁性粒子からなり、 前記アモルファス合金軟磁性粒子の組成が 式 FeuMx(Si,B)w (上記式において、Mは、Crであるか、Crと、Ti、V、
Nb、Ta、Mo、W、Mn、CoおよびNiから選択される少なく
とも1種とであり、at%で表わして、x=2〜10(ただ
し、Crの含有量は2〜10at%)、w=15〜37、u=100
−(x+w)である。) で表わされ、 直流磁界での最大透磁率が15〜70、保磁力が5〜20(O
e)であることを特徴とする磁気シールド材。1. A magnetic shield material containing soft magnetic powder and a binder, wherein the soft magnetic powder has an average thickness of 0.01 to 1 μm.
m, an average outer diameter / average thickness ratio of 10 to 10000 of amorphous alloy soft magnetic particles, and the composition of the amorphous alloy soft magnetic particles is represented by the formula Fe u M x (Si, B) w (where M is Cr, Cr, Ti, V,
At least one selected from Nb, Ta, Mo, W, Mn, Co and Ni, and represented by at%, x = 2 to 10 (however, the content of Cr is 2 to 10 at%), w = 15-37, u = 100
-(X + w). ), The maximum permeability in a DC magnetic field is 15 to 70, and the coercive force is 5 to 20 (O
e) A magnetic shield material characterized in that
ールド材中での充填率が60〜95wt%以上であり、前記結
合剤がポリウレタンを含有する特許請求の範囲第1項に
記載の磁気シールド材。2. The magnetic shield material according to claim 1, wherein the filling rate of the amorphous alloy soft magnetic particles in the magnetic shield material is 60 to 95 wt% or more, and the binder contains polyurethane. .
粒径が10〜50μmであるアモルファス合金軟磁性粒子が
35wt%以上であり、かつ粒径が88μmを超えるアモルフ
ァス合金軟磁性粒子が0.5wt%以下であり、粒径が3μ
m未満であるアモルファス合金軟磁性粒子が10wt%以下
である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気
シールド材。3. Among the amorphous alloy soft magnetic particles,
Amorphous alloy soft magnetic particles with a particle size of 10-50 μm
Amorphous alloy soft magnetic particles with a particle size of 35 wt% or more and a particle size exceeding 88 μm are 0.5 wt% or less and a particle size is 3 μm.
The magnetic shield material according to claim 1 or 2, wherein the amount of the amorphous alloy soft magnetic particles having a size less than m is 10 wt% or less.
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|---|---|---|---|
| JP62332526A JPH0834356B2 (en) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | Magnetic shield material |
| EP88112305A EP0301561B1 (en) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | Magnetic shield-forming magnetically soft powder, composition thereof, and process of making |
| DE8888112305T DE3876529T2 (en) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | MAGNETIC SOFT IRON POWDER FOR SHAPING MAGNETIC SHIELDING, CONNECTION AND METHOD FOR PRODUCING IT. |
| US07/225,836 US4923533A (en) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | Magnetic shield-forming magnetically soft powder, composition thereof, and process of making |
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| JP62332526A JPH0834356B2 (en) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | Magnetic shield material |
Publications (2)
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| JPH01175300A JPH01175300A (en) | 1989-07-11 |
| JPH0834356B2 true JPH0834356B2 (en) | 1996-03-29 |
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ID=18255906
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| JP5248065B2 (en) * | 2007-08-31 | 2013-07-31 | 株式会社タムラ製作所 | Core material and core using the same, choke coil using the core |
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-
1987
- 1987-12-29 JP JP62332526A patent/JPH0834356B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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