JPH084422B2 - 脱穀装置の選別部における処理物の層厚さ検出装置 - Google Patents
脱穀装置の選別部における処理物の層厚さ検出装置Info
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- JPH084422B2 JPH084422B2 JP16096090A JP16096090A JPH084422B2 JP H084422 B2 JPH084422 B2 JP H084422B2 JP 16096090 A JP16096090 A JP 16096090A JP 16096090 A JP16096090 A JP 16096090A JP H084422 B2 JPH084422 B2 JP H084422B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、脱穀装置の選別部に存在する処理物の層の
厚さを検出するための装置に関する。
厚さを検出するための装置に関する。
〔従来の技術〕 かかる処理物の層厚さ検出装置としては、選別部の上
方において、上部支点周りで処理物移送方向に沿って揺
動自在な接触子と、その接触子の遊端部が選別部上に存
在する処理物層の上面に常時接触するよう下方へ付勢す
る付勢手段と、選別部の揺動角を検出する角度検出手段
と、角度検出手段の情報に基づいて、処理物層の厚さを
演算する演算手段とが備えられたものが提案されてい
る。
方において、上部支点周りで処理物移送方向に沿って揺
動自在な接触子と、その接触子の遊端部が選別部上に存
在する処理物層の上面に常時接触するよう下方へ付勢す
る付勢手段と、選別部の揺動角を検出する角度検出手段
と、角度検出手段の情報に基づいて、処理物層の厚さを
演算する演算手段とが備えられたものが提案されてい
る。
しかしながら、上述のように接触子が処理物に常時接
触することにより、遊端部が次第に処理物に沈み込んで
層の厚さを正確に検出できなくなることがある。
触することにより、遊端部が次第に処理物に沈み込んで
層の厚さを正確に検出できなくなることがある。
本発明は、かかる実情に着目してなされたものであっ
て、その目的は、接触子の処理物への沈み込みを防止
し、処理物層の厚さをより正確に検出できるようにする
ことにある。
て、その目的は、接触子の処理物への沈み込みを防止
し、処理物層の厚さをより正確に検出できるようにする
ことにある。
本発明に係る脱穀装置の選別部における処理物の層厚
さ検出装置にあっては、選別部の上方において、アクチ
ュエータによって上下動される接触子と、前記接触子の
処理物上面への接触を検出する接触検出手段と、前記接
触子の上下位置を検出する位置検出手段と、前記接触検
出手段が接触を検出した時点での前記位置検出手段の情
報に基づいて、処理物の層の厚さを演算する演算手段と
が備えられた点を特徴構成としている。
さ検出装置にあっては、選別部の上方において、アクチ
ュエータによって上下動される接触子と、前記接触子の
処理物上面への接触を検出する接触検出手段と、前記接
触子の上下位置を検出する位置検出手段と、前記接触検
出手段が接触を検出した時点での前記位置検出手段の情
報に基づいて、処理物の層の厚さを演算する演算手段と
が備えられた点を特徴構成としている。
選別部の上方において、アクチュエータが接触子を上
下動させる。そして接触子が処理物層の上面に接触する
と、接触検出手段が、接触子の処理物上面への接触を検
出する。位置検出手段は接触子の上下位置を検出してお
り、演算手段が、接触検出手段が接触を検出した時点で
の位置検出手段の情報に基づいて、処理物の層の厚さを
演算することになる。
下動させる。そして接触子が処理物層の上面に接触する
と、接触検出手段が、接触子の処理物上面への接触を検
出する。位置検出手段は接触子の上下位置を検出してお
り、演算手段が、接触検出手段が接触を検出した時点で
の位置検出手段の情報に基づいて、処理物の層の厚さを
演算することになる。
この処理物層の厚さを連続で検出しようとする場合に
は、下へ移動した接触子を上へ移動させて、上述した動
作を繰り返して行うことになる。
は、下へ移動した接触子を上へ移動させて、上述した動
作を繰り返して行うことになる。
接触子が処理物に沈み込む前の上下位置に基づいて、
処理物の層の厚さを演算することになるので、従来より
も正確な検出結果を得られるようになる。
処理物の層の厚さを演算することになるので、従来より
も正確な検出結果を得られるようになる。
以下、本発明を、コンバインに搭載される脱穀装置に
適用した場合の実施例を図面に基づいて説明する。
適用した場合の実施例を図面に基づいて説明する。
第6図に示すように、脱穀装置には、フィードチェー
ン(1)にて挟持搬送される刈取穀稈を扱き処理する扱
胴(2)が扱室(A)に収納され、この扱室(A)の下
方に配置された選別部(B)には、その扱室(A)から
の漏下処理物に対して選別作用する揺動選別装置(3)
と、選別風を送風する唐箕(4)とが備えられている。
ン(1)にて挟持搬送される刈取穀稈を扱き処理する扱
胴(2)が扱室(A)に収納され、この扱室(A)の下
方に配置された選別部(B)には、その扱室(A)から
の漏下処理物に対して選別作用する揺動選別装置(3)
と、選別風を送風する唐箕(4)とが備えられている。
前記扱室(A)の下部には、前記扱胴(2)の下側外
周部に沿って脱穀処理物漏下用の受網(5)が設けら
れ、その受網(5)の後方側箇所に、前記扱室(A)内
に残存する脱穀処理物を排出するための送塵口(6)が
形成されている。
周部に沿って脱穀処理物漏下用の受網(5)が設けら
れ、その受網(5)の後方側箇所に、前記扱室(A)内
に残存する脱穀処理物を排出するための送塵口(6)が
形成されている。
前記揺動選別装置(3)は、前方から後方に向かって
順次並ぶように配置されたグレンパン(7)、チャフシ
ーブ(8)、及び、ストローラック(9)の夫々を備
え、前記チャフシーブ(8)の下方には、補助グレンパ
ン(10)とグレンシーブ(11)とが夫々前後方向に順次
並ぶ状態で配置され、そして、それらの各部が左右一対
の側板(12)の間に固定されて一体的に揺動するように
構成されている。
順次並ぶように配置されたグレンパン(7)、チャフシ
ーブ(8)、及び、ストローラック(9)の夫々を備
え、前記チャフシーブ(8)の下方には、補助グレンパ
ン(10)とグレンシーブ(11)とが夫々前後方向に順次
並ぶ状態で配置され、そして、それらの各部が左右一対
の側板(12)の間に固定されて一体的に揺動するように
構成されている。
前記選別装置(B)の下部には、前記グレンシーブ
(11)から漏下する穀粒を一番物として回収する一番物
回収部(13)と、前記ストローラック(9)の終端部や
前記グレンシーブ(11)の終端部を超えて落下する藁屑
等と穀粒とが混入した処理物(以下の説明において二番
物と略称する)を回収して前記扱室(A)に還元するた
めの二番物回収部(14)とが設けられている。尚、図
中、(15)は前記二番物を再処理して前記扱室(A)に
還元するための二番スロワである。
(11)から漏下する穀粒を一番物として回収する一番物
回収部(13)と、前記ストローラック(9)の終端部や
前記グレンシーブ(11)の終端部を超えて落下する藁屑
等と穀粒とが混入した処理物(以下の説明において二番
物と略称する)を回収して前記扱室(A)に還元するた
めの二番物回収部(14)とが設けられている。尚、図
中、(15)は前記二番物を再処理して前記扱室(A)に
還元するための二番スロワである。
前記チャフシーブ(8)について説明すれば、第4図
に示すように、処理物移送方向(第4図中において左右
方向)に並置された複数個の帯板状部材(8a)が、その
上端部を支点として前記左右の側板(8b)に対して回動
自在に取り付けられ、各帯板状部材(8a)の下端部に枢
着された操作ロッド(16)を前後方向に押し引き操作す
ることによって、前記帯板状部材(8a)の隣合うもの同
士の間隔(p)(以下の説明においてチャフ開度と略称
する場合もある)を変更調節できるように構成されてい
る。
に示すように、処理物移送方向(第4図中において左右
方向)に並置された複数個の帯板状部材(8a)が、その
上端部を支点として前記左右の側板(8b)に対して回動
自在に取り付けられ、各帯板状部材(8a)の下端部に枢
着された操作ロッド(16)を前後方向に押し引き操作す
ることによって、前記帯板状部材(8a)の隣合うもの同
士の間隔(p)(以下の説明においてチャフ開度と略称
する場合もある)を変更調節できるように構成されてい
る。
そして、前記チャフ開度を変更調節する間隔調節用の
第1電動モータ(M1)が設けられ、その第1電動モータ
(M1)にギヤ式の連係機構(17)を介して連結される揺
動アーム(17a)と前記操作ロッド(16)とがレリーズ
ワイヤ(18)にて連動連結されている。尚、図中の(1
9)は前記チャフ開度を閉じ側に復帰付勢するスプリン
グ、(PM1)は第1電動モータ(M1)による操作ロッド
(16)の操作量を前記チャフ開度として検出するチャフ
開度検出用の第1ポテンショメータであって、揺動アー
ム(17a)の枢支部に付設されている。
第1電動モータ(M1)が設けられ、その第1電動モータ
(M1)にギヤ式の連係機構(17)を介して連結される揺
動アーム(17a)と前記操作ロッド(16)とがレリーズ
ワイヤ(18)にて連動連結されている。尚、図中の(1
9)は前記チャフ開度を閉じ側に復帰付勢するスプリン
グ、(PM1)は第1電動モータ(M1)による操作ロッド
(16)の操作量を前記チャフ開度として検出するチャフ
開度検出用の第1ポテンショメータであって、揺動アー
ム(17a)の枢支部に付設されている。
前記第1電動モータ(M1)用の第1駆動回路(20)と
第1ポテンショメータ(PM1)は制御装置(H)に連絡
されている。制御装置(H)は、チャフシーブ(8)上
に存在する処理物の層が設定された厚さになるべくチャ
フ開度を決定し、第1ポテンショメータ(PM1)から検
出されるチャフ開度と目標のチャフ開度とが一致すべく
第1電動モータ(M1)を駆動することによって、目標間
隔となるよう制御する。
第1ポテンショメータ(PM1)は制御装置(H)に連絡
されている。制御装置(H)は、チャフシーブ(8)上
に存在する処理物の層が設定された厚さになるべくチャ
フ開度を決定し、第1ポテンショメータ(PM1)から検
出されるチャフ開度と目標のチャフ開度とが一致すべく
第1電動モータ(M1)を駆動することによって、目標間
隔となるよう制御する。
基本的には、チャフシーブ(8)上の処理物の層が設
定値より厚くなると、前記チャフ開度が大となる方へ第
1電動モータ(M1)を駆動し、処理物の漏下量を増大さ
せる。また、処理物の層が設定値より薄くなると、前記
チャフ開度が小となるよう第1電動モータ(M1)を駆動
し、処理物の漏下量を減少させる。このようにして処理
物の層を一定の厚さに維持し、効率の高い選別を行える
ようにしているのである。
定値より厚くなると、前記チャフ開度が大となる方へ第
1電動モータ(M1)を駆動し、処理物の漏下量を増大さ
せる。また、処理物の層が設定値より薄くなると、前記
チャフ開度が小となるよう第1電動モータ(M1)を駆動
し、処理物の漏下量を減少させる。このようにして処理
物の層を一定の厚さに維持し、効率の高い選別を行える
ようにしているのである。
前記処理物層の厚みを検出するための構成について説
明すると、第1図に示すように、センサ(S)は、前記
左右側板(12)間に架設された軸(22a)に設けられた
アーム(22)(接触子に相当する)、このアーム(22)
を軸(22a)と共に処理物の移送方向(扱胴軸芯の方
向)に沿って揺動させる小型の第2電動モータ(M2)
(アクチュエータに相当する)と、アーム(22)の揺動
角を検出する第2ポテンショメータ(PM2)(位置検出
手段に相当する)と、アーム(22)が上限位置へ達する
とONする上限スイッチ(SW1)、アーム(22)の遊端部
が処理物層の上面に接触するとONする下限スイッチ(SW
2)(接触検出手段に相当する)とから成る。
明すると、第1図に示すように、センサ(S)は、前記
左右側板(12)間に架設された軸(22a)に設けられた
アーム(22)(接触子に相当する)、このアーム(22)
を軸(22a)と共に処理物の移送方向(扱胴軸芯の方
向)に沿って揺動させる小型の第2電動モータ(M2)
(アクチュエータに相当する)と、アーム(22)の揺動
角を検出する第2ポテンショメータ(PM2)(位置検出
手段に相当する)と、アーム(22)が上限位置へ達する
とONする上限スイッチ(SW1)、アーム(22)の遊端部
が処理物層の上面に接触するとONする下限スイッチ(SW
2)(接触検出手段に相当する)とから成る。
補足説明をすると、前記第2電動モータ(M2)と第2
ポテンショメータ(PM2)は、側板(12)に固設された
箱体(24)に収納されており、ギヤ(23)を介して連動
連結されている。第2ポテンショメータ(PM2)は、第
1図に示す制御装置(H)(演算手段に相当する)に連
絡されており、アーム(22)が上方側へ揺動するほど高
い信号電圧を出力する。また、下限スイッチ(SW2)
は、アーム(22)の遊端部に設けられている。尚、上限
スイッチ(SW1)と下限スイッチ(SW2)は、いずれも接
触して検出部が押圧されている間だけONする常時開放式
である。
ポテンショメータ(PM2)は、側板(12)に固設された
箱体(24)に収納されており、ギヤ(23)を介して連動
連結されている。第2ポテンショメータ(PM2)は、第
1図に示す制御装置(H)(演算手段に相当する)に連
絡されており、アーム(22)が上方側へ揺動するほど高
い信号電圧を出力する。また、下限スイッチ(SW2)
は、アーム(22)の遊端部に設けられている。尚、上限
スイッチ(SW1)と下限スイッチ(SW2)は、いずれも接
触して検出部が押圧されている間だけONする常時開放式
である。
第2ポテンショメータ(PM2)、第2電動モータ(M
1)用の第2駆動回路(21)、上限スイッチ(SW1)、下
限スイッチ(SW2)は、前記制御装置(H)に連絡され
ている。制御装置(H)は、第2電動モータ(M2)を駆
動してアーム(22)を上下に揺動させ、アーム(22)の
遊端部がチャフシーブ(8)上に存在する処理物層の上
面に接当して下限スイッチ(SW2)がONしたときに、第
2ポテンショメータ(PM2)からの出力信号を取り入
れ、処理物の層の厚さを演算する。
1)用の第2駆動回路(21)、上限スイッチ(SW1)、下
限スイッチ(SW2)は、前記制御装置(H)に連絡され
ている。制御装置(H)は、第2電動モータ(M2)を駆
動してアーム(22)を上下に揺動させ、アーム(22)の
遊端部がチャフシーブ(8)上に存在する処理物層の上
面に接当して下限スイッチ(SW2)がONしたときに、第
2ポテンショメータ(PM2)からの出力信号を取り入
れ、処理物の層の厚さを演算する。
尚、制御装置(H)に連絡されている警報装置(24)
は、上限スイッチ(SW1)と下限スイッチ(SW2)が一定
時間以上ONしない場合に作動する。
は、上限スイッチ(SW1)と下限スイッチ(SW2)が一定
時間以上ONしない場合に作動する。
次に、制御装置(H)の動作を第2図のフローチャー
トに基づいて簡単に説明する。
トに基づいて簡単に説明する。
先ず、初期設定の処理を実行するとともに、脱穀装置
が作動しているとONとなる脱穀スイッチ(SW3)を調べ
る(ステップ1,2)。そして脱穀スイッチ(SW3)がON
で、上限スイッチ(SW1)がOFFで、下限スイッチ(SW
2)がONであれば、第2ポテンショメータ(PM2)の検出
値から層厚さを演算し、アーム(22)を上揺動すべく第
2電動モータ(M2)を駆動し、更に、演算結果に基づい
て後述するチャフ開度調節を行ってステップ2へ戻る
(ステップ3〜7)。
が作動しているとONとなる脱穀スイッチ(SW3)を調べ
る(ステップ1,2)。そして脱穀スイッチ(SW3)がON
で、上限スイッチ(SW1)がOFFで、下限スイッチ(SW
2)がONであれば、第2ポテンショメータ(PM2)の検出
値から層厚さを演算し、アーム(22)を上揺動すべく第
2電動モータ(M2)を駆動し、更に、演算結果に基づい
て後述するチャフ開度調節を行ってステップ2へ戻る
(ステップ3〜7)。
但し、ステップ3で上限スイッチ(SW1)がONであれ
ば、アーム(22)を下揺動すべく第2電動モータ(M2)
を駆動するとともに(ステップ8)、以前の演算結果に
基づいてチャフ開度調節を行う。また、ステップ4で下
限スイッチ(SW2)がOFFであれば、そのまま以前の演算
結果に基づいてチャフ開度調節を行う。
ば、アーム(22)を下揺動すべく第2電動モータ(M2)
を駆動するとともに(ステップ8)、以前の演算結果に
基づいてチャフ開度調節を行う。また、ステップ4で下
限スイッチ(SW2)がOFFであれば、そのまま以前の演算
結果に基づいてチャフ開度調節を行う。
ステップ2で脱穀スイッチ(SW3)がOFFであり、上限
スイッチ(SW1)がOFFである場合には、アーム(22)を
上揺動して退避させるべく第2電動モータ(M2)を駆動
するが、上限スイッチ(SW1)がONである場合には退避
が完了しているものとしてアーム(22)を停止する。
スイッチ(SW1)がOFFである場合には、アーム(22)を
上揺動して退避させるべく第2電動モータ(M2)を駆動
するが、上限スイッチ(SW1)がONである場合には退避
が完了しているものとしてアーム(22)を停止する。
第3図に示されているのは、チャフ開度調節のサブル
ーチンである。演算された処理物層の厚さが適正範囲よ
りも大である場合には、チャフ開度を大にすべく第1電
動モータ(M1)を駆動する。処理物層の厚さが適正範囲
より大でもなく小でもない場合には、即ち適正範囲内で
あるい場合いはチャフ開度を維持する。処理物層の厚さ
が適正範囲よりも小である場合には、チャフ開度を小に
すべく第1電動モータ(M1)を駆動する。
ーチンである。演算された処理物層の厚さが適正範囲よ
りも大である場合には、チャフ開度を大にすべく第1電
動モータ(M1)を駆動する。処理物層の厚さが適正範囲
より大でもなく小でもない場合には、即ち適正範囲内で
あるい場合いはチャフ開度を維持する。処理物層の厚さ
が適正範囲よりも小である場合には、チャフ開度を小に
すべく第1電動モータ(M1)を駆動する。
先の実施例では、接触子である下限スイッチ(SW2)
を備えたアーム(22)を上下動するに揺動により往復移
動させる構造にしてあるが、鉛直方向に沿わせて直線的
に往復移動させる構造としてもよい。
を備えたアーム(22)を上下動するに揺動により往復移
動させる構造にしてあるが、鉛直方向に沿わせて直線的
に往復移動させる構造としてもよい。
尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を便利にする
ために符号を記すが、該記入により本発明は添付図面の
構造に限定されるものではない。
ために符号を記すが、該記入により本発明は添付図面の
構造に限定されるものではない。
図面は本発明に係る脱穀装置の選別部における処理物の
層厚さ検出装置の実施例を示し、第1図は制御構成を示
すブロック図、第2図は制御動作を示すフローチャー
ト、第3図はチャフ開度調節のサブルーチン、第4図は
チャフ開度の調節構造を示す側面図、第5図はセンサの
斜視図、第6図は脱穀装置の概略的な切欠側面図であ
る。 (B)……選別部、(H)……演算手段、(M2)……ア
クチュエータ、(PM2)……位置検出手段、(SW2)……
接触検出手段、(22)……接触子。
層厚さ検出装置の実施例を示し、第1図は制御構成を示
すブロック図、第2図は制御動作を示すフローチャー
ト、第3図はチャフ開度調節のサブルーチン、第4図は
チャフ開度の調節構造を示す側面図、第5図はセンサの
斜視図、第6図は脱穀装置の概略的な切欠側面図であ
る。 (B)……選別部、(H)……演算手段、(M2)……ア
クチュエータ、(PM2)……位置検出手段、(SW2)……
接触検出手段、(22)……接触子。
フロントページの続き (72)発明者 林 繁樹 大阪府堺市石津北町64番地 株式会社クボ タ堺製造所内 (72)発明者 織田 信 大阪府堺市石津北町64番地 株式会社クボ タ堺製造所内 (72)発明者 上田 末蔵 大阪府堺市石津北町64番地 株式会社クボ タ堺製造所内 (72)発明者 溝口 隆雄 大阪府堺市石津北町64番地 株式会社クボ タ堺製造所内 (72)発明者 冨永 俊夫 大阪府堺市石津北町64番地 株式会社クボ タ堺製造所内 (56)参考文献 実開 昭63−66449(JP,U) 実開 昭59−136927(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】選別部(B)の上方において、アクチュエ
ータ(M2)によって上下動される接触子(22)と、前記
接触子(22)の処理物上面への接触を検出する接触検出
手段(SW2)と、前記接触子(22)の上下位置を検出す
る位置検出手段(PM2)と、前記接触検出手段(SW2)が
接触を検出した時点での前記位置検出手段(PM2)の情
報に基づいて、処理物の層の厚さを演算する演算手段
(H)とが備えられた脱穀装置の選別部における処理物
の層厚さ検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16096090A JPH084422B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 脱穀装置の選別部における処理物の層厚さ検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16096090A JPH084422B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 脱穀装置の選別部における処理物の層厚さ検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453411A JPH0453411A (ja) | 1992-02-21 |
| JPH084422B2 true JPH084422B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=15725906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16096090A Expired - Lifetime JPH084422B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 脱穀装置の選別部における処理物の層厚さ検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084422B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-19 JP JP16096090A patent/JPH084422B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0453411A (ja) | 1992-02-21 |
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