JPH08904B2 - カチオン性高分子紫外線吸収剤 - Google Patents
カチオン性高分子紫外線吸収剤Info
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- JPH08904B2 JPH08904B2 JP4248544A JP24854492A JPH08904B2 JP H08904 B2 JPH08904 B2 JP H08904B2 JP 4248544 A JP4248544 A JP 4248544A JP 24854492 A JP24854492 A JP 24854492A JP H08904 B2 JPH08904 B2 JP H08904B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック板、プラス
チックフィルム、ガラス、繊維製品等に処理すること
で、これらの物質に光劣化に対する耐久性を付与した
り、これらの物質を透過してくる紫外線をカットするこ
とができ、紫外線の有害性を緩和することができるカチ
オン性の高分子紫外線吸収剤に関するものである。
チックフィルム、ガラス、繊維製品等に処理すること
で、これらの物質に光劣化に対する耐久性を付与した
り、これらの物質を透過してくる紫外線をカットするこ
とができ、紫外線の有害性を緩和することができるカチ
オン性の高分子紫外線吸収剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック、プラスチックフィルムや
ビーチパラソル、ゴルフウエア等の衣料、カーテンなど
の繊維製品は、屋外で太陽光に曝されて使用される。そ
のため、太陽光の紫外線により、これら自身が光劣化し
たり、これらのものを着色している染料、顔料が光劣化
して退色を起こす。あるいは、繊維を透過する紫外線に
より日焼けや室内装置品の光劣化を招く。
ビーチパラソル、ゴルフウエア等の衣料、カーテンなど
の繊維製品は、屋外で太陽光に曝されて使用される。そ
のため、太陽光の紫外線により、これら自身が光劣化し
たり、これらのものを着色している染料、顔料が光劣化
して退色を起こす。あるいは、繊維を透過する紫外線に
より日焼けや室内装置品の光劣化を招く。
【０００３】また、硝子板やアクリル板などはそれ自身
の光劣化は殆どないが、硝子板やアクリル板を透過して
くる紫外線による日焼けや、内容物の光劣化を招く。従
来から、プラスチック製品の光劣化を防ぐ対策として、
あるいは繊維製品の光劣化および日光堅牢度向上の対策
として、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化
合物などの低分子の紫外線吸収剤などを製品に練り込む
こと、あるいは上記の紫外線吸収剤を繊維に吸着させる
ことが行なわれている。
の光劣化は殆どないが、硝子板やアクリル板を透過して
くる紫外線による日焼けや、内容物の光劣化を招く。従
来から、プラスチック製品の光劣化を防ぐ対策として、
あるいは繊維製品の光劣化および日光堅牢度向上の対策
として、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化
合物などの低分子の紫外線吸収剤などを製品に練り込む
こと、あるいは上記の紫外線吸収剤を繊維に吸着させる
ことが行なわれている。
【０００４】従来から、紫外線吸収剤としては、２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−オクトキシベンゾフェノンといった２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン類；２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロ
キシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ
−３′，５′−ジブチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾールといった２−ヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾール類が広く用いられている。
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−オクトキシベンゾフェノンといった２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン類；２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロ
キシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ
−３′，５′−ジブチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾールといった２−ヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾール類が広く用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の紫外線
吸収剤はいずれも低分子化合物であるため、プラスチッ
クに練り込んだ場合、経時によるブリードアウトにより
長期的な効果の持続性に劣る。また繊維製品に吸着、あ
るいはバインダーと併用して使用した場合も洗濯などで
すぐに流出してしまい、効果の持続が極めて悪い。ま
た、紫外線透過防止の意味で硝子板などに処理する場合
は、これらの紫外線吸収剤はアクリル、ウレタンなどの
バインダーと併用して、硝子板に塗布、皮膜化する必要
があり、操作が煩わしいだけでなく、経時と共にバイン
ダーから紫外線吸収剤がブリードアウトし効果がなくな
るなどの欠点があるのが現状である。
吸収剤はいずれも低分子化合物であるため、プラスチッ
クに練り込んだ場合、経時によるブリードアウトにより
長期的な効果の持続性に劣る。また繊維製品に吸着、あ
るいはバインダーと併用して使用した場合も洗濯などで
すぐに流出してしまい、効果の持続が極めて悪い。ま
た、紫外線透過防止の意味で硝子板などに処理する場合
は、これらの紫外線吸収剤はアクリル、ウレタンなどの
バインダーと併用して、硝子板に塗布、皮膜化する必要
があり、操作が煩わしいだけでなく、経時と共にバイン
ダーから紫外線吸収剤がブリードアウトし効果がなくな
るなどの欠点があるのが現状である。
【０００６】本発明は、高分子であるため、低分子量の
紫外線吸収剤と比較してブリードアウトがなく、また分
子中にカチオン性基を有するため、プラスチック、硝
子、繊維などに強固に吸着し耐久性に優れたカチオン性
高分子紫外線吸収剤を提供するものである。
紫外線吸収剤と比較してブリードアウトがなく、また分
子中にカチオン性基を有するため、プラスチック、硝
子、繊維などに強固に吸着し耐久性に優れたカチオン性
高分子紫外線吸収剤を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のカチオン性高分
子紫外線吸収剤は、紫外線吸収性共重合体単位と、第４
級アンモニウム基を有する共重合体単位とを含む共重合
物からなることを特徴とする。
子紫外線吸収剤は、紫外線吸収性共重合体単位と、第４
級アンモニウム基を有する共重合体単位とを含む共重合
物からなることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施態様】本発明のカチオン性高分子紫外線吸
収剤は、典型的には、下記の化１の如く、紫外線吸収性
化合物残基ＵＶが主鎖に側鎖として結合した重合性ビニ
ル化合物モノマーと、４級アンモニウム基が主鎖に結合
した重合性ビニル化合物モノマーとの共重合物である。
なお、化１の構造は、ＵＶ（紫外線吸収性化合物残基）
および第４級アンモニウム基がビニル化合物の主鎖に直
接結合していていることを必ずしも意味している訳では
なく、一般にはその中間に結合用の構造単位を有してい
る。
収剤は、典型的には、下記の化１の如く、紫外線吸収性
化合物残基ＵＶが主鎖に側鎖として結合した重合性ビニ
ル化合物モノマーと、４級アンモニウム基が主鎖に結合
した重合性ビニル化合物モノマーとの共重合物である。
なお、化１の構造は、ＵＶ（紫外線吸収性化合物残基）
および第４級アンモニウム基がビニル化合物の主鎖に直
接結合していていることを必ずしも意味している訳では
なく、一般にはその中間に結合用の構造単位を有してい
る。
【０００９】
【化１】 （ＵＶ：ベンゾフェノン型、ベンゾトリアゾール型など
の紫外線吸収性化合物残基 Ｒ1，Ｒ2：水素または低級アルキル基 Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：置換または無機のアルキル基またはア
ルケニル基であり、 互いに結合して環を形成してもよ
い Ｘ：第４級アンモニウム基の対イオン ｍ／ｎ：共重合比）
の紫外線吸収性化合物残基 Ｒ1，Ｒ2：水素または低級アルキル基 Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：置換または無機のアルキル基またはア
ルケニル基であり、 互いに結合して環を形成してもよ
い Ｘ：第４級アンモニウム基の対イオン ｍ／ｎ：共重合比）
【００１０】共重合比ｍ／ｎは任意に設定することがで
き、共重合体単位の共重合割合を変化させることによ
り、水溶性のものから、自己分散型のものまで任意の性
状のカチオン性高分子紫外線吸収剤が得られる。具体的
には、第４級アンモニウム基を含む共重合体単位の割合
を低めると、水溶性から自己分散性側にシフトする。な
お、本発明における第４級アンモニウム基は、ベタイン
型などのものも包含する。
き、共重合体単位の共重合割合を変化させることによ
り、水溶性のものから、自己分散型のものまで任意の性
状のカチオン性高分子紫外線吸収剤が得られる。具体的
には、第４級アンモニウム基を含む共重合体単位の割合
を低めると、水溶性から自己分散性側にシフトする。な
お、本発明における第４級アンモニウム基は、ベタイン
型などのものも包含する。
【００１１】紫外線吸収性化合物残基としては、２−ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体および２−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール誘導体が代表的である。本発明におけ
る紫外線吸収性共重合体単位を形成するモノマー（紫外
線吸収性モノマー）の具体例としては以下のものが挙げ
られる。また、下記の２−ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体と２−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体の両者
をモノマーとして併用することもできる。このように紫
外線吸収特性の異なる２種以上を組み合わせて使用する
ことにより、紫外線吸収効果がより改善される。
ドロキシベンゾフェノン誘導体および２−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール誘導体が代表的である。本発明におけ
る紫外線吸収性共重合体単位を形成するモノマー（紫外
線吸収性モノマー）の具体例としては以下のものが挙げ
られる。また、下記の２−ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体と２−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体の両者
をモノマーとして併用することもできる。このように紫
外線吸収特性の異なる２種以上を組み合わせて使用する
ことにより、紫外線吸収効果がより改善される。
【００１２】（１） 化２で示される２−ヒドロキシベ
ンゾフェノン誘導体
ンゾフェノン誘導体
【化２】
【００１３】化２で表わされるモノマーは、例えばＢＰ
−Ｒ2−ＯＨ （ＢＰ：２−ヒドロキシベンゾフェノン骨
格）等の官能基を有する紫外線吸収性化合物と、ＣＨ2
＝ＣＲ3 ＣＯＯＨ等の官能基を有する重合性ビニル化合
物とを反応させ、エステル結合Ｘ（−ＣＯＯ−）により
重合性ビニル化合物中に紫外線吸収性化合物残基を結
合、導入することにより得られる。
−Ｒ2−ＯＨ （ＢＰ：２−ヒドロキシベンゾフェノン骨
格）等の官能基を有する紫外線吸収性化合物と、ＣＨ2
＝ＣＲ3 ＣＯＯＨ等の官能基を有する重合性ビニル化合
物とを反応させ、エステル結合Ｘ（−ＣＯＯ−）により
重合性ビニル化合物中に紫外線吸収性化合物残基を結
合、導入することにより得られる。
【００１４】前記化２で表わされるモノマー化合物の具
体例としては、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイ
ルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−
アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メチル−
２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンなど
が挙げられる。
体例としては、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイ
ルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−
アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メチル−
２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンなど
が挙げられる。
【００１５】（２） 化３で表わされる２−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール誘導体
ベンゾトリアゾール誘導体
【化３】
【００１６】前記化３で表わされるモノマー化合物の具
体例としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−(メタ
クリロイルオキシ)フェニル］ベンゾトリアゾール、２
−［２′−ヒドロキシ−５′−(アクリロイルオキシ)フ
ェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ
−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）
フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキ
シ−３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシ）フェ
ニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−
５−クロロベンゾリトリアゾール、２−［２′−ヒドロ
キシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
５′−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾ
トリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシエチル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ
−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロ
キシ−５′−（アクロイルオキシブチル）フェニル］−
５−メチルベンゾトリアゾール、［２−ヒドロキシ−３
−ｔ−ブチル−５−（アクリロイルオキシエトキシカル
ボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙
げられる。
体例としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−(メタ
クリロイルオキシ)フェニル］ベンゾトリアゾール、２
−［２′−ヒドロキシ−５′−(アクリロイルオキシ)フ
ェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ
−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）
フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキ
シ−３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシ）フェ
ニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−
５−クロロベンゾリトリアゾール、２−［２′−ヒドロ
キシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
５′−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾ
トリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−
３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシエチル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ
−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロ
キシ−５′−（アクロイルオキシブチル）フェニル］−
５−メチルベンゾトリアゾール、［２−ヒドロキシ−３
−ｔ−ブチル−５−（アクリロイルオキシエトキシカル
ボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙
げられる。
【００１７】第４級アンモニウム基を有する共重合体単
位は、分子中に第３級アミノ基を有する共重合可能な重
合性ビニル化合物をモノマーとして、紫外線吸収性モノ
マーと共重合させたのちアルキル化剤でこのアミノ基を
４級化することにより、あるいは予めモノマーの第３級
アミノ基をアルキル化剤で第４級アンモニウム塩とした
のち共重合することにより、本発明の高分子紫外線吸収
剤中に導入できる。
位は、分子中に第３級アミノ基を有する共重合可能な重
合性ビニル化合物をモノマーとして、紫外線吸収性モノ
マーと共重合させたのちアルキル化剤でこのアミノ基を
４級化することにより、あるいは予めモノマーの第３級
アミノ基をアルキル化剤で第４級アンモニウム塩とした
のち共重合することにより、本発明の高分子紫外線吸収
剤中に導入できる。
【００１８】分子中に第３級アミノ基を有する共重合可
能なビニル化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレー
ト、アクリロイルモルホリン、Ｎ−２−ヒドロキシ−３
−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ン、Ｎ−３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミンなどが挙げられる。
能なビニル化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレー
ト、アクリロイルモルホリン、Ｎ−２−ヒドロキシ−３
−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ン、Ｎ−３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミンなどが挙げられる。
【００１９】また、上記第３級アミノ基含有共重合性ビ
ニル化合物のアミノ基を第４級アンモニウム塩とするア
ルキル化剤としては、ベンジルクロライド、メチルクロ
ライド等のハロゲン化アルキル類；ジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸等の硫酸エステル類などが挙げられ、またモノ
クロル酢酸、β−プロピオラクトン等と反応させて、ベ
タイン型の第４級アンモニウム基とすることもできる。
ニル化合物のアミノ基を第４級アンモニウム塩とするア
ルキル化剤としては、ベンジルクロライド、メチルクロ
ライド等のハロゲン化アルキル類；ジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸等の硫酸エステル類などが挙げられ、またモノ
クロル酢酸、β−プロピオラクトン等と反応させて、ベ
タイン型の第４級アンモニウム基とすることもできる。
【００２０】第４級アンモニウム塩基含有共重合性ビニ
ル化合物としては、Ｎ−２−ヒドロキシ−３−アクリロ
イルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニ
ウムクロライド、Ｎ−メタクリロイルアミノエチル−
Ｎ，Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、Ｎ−メタクリロオキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルア
ンモニウムエチル硫酸などが挙げられる。
ル化合物としては、Ｎ−２−ヒドロキシ−３−アクリロ
イルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニ
ウムクロライド、Ｎ−メタクリロイルアミノエチル−
Ｎ，Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、Ｎ−メタクリロオキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルア
ンモニウムエチル硫酸などが挙げられる。
【００２１】また、アルキル化剤として、エピクロルビ
ドリン等の分子中にエポキシ基を有するハロヒドリン化
合物を用いると、熱処理により不溶性の高分子となるカ
チオン性の高分子紫外線吸収剤が得られる。この高分子
紫外線吸収剤は、熱処理により分子中のエポキシ基が共
重合体中の水酸基などの活性基と反応、架橋することで
不溶化する。
ドリン等の分子中にエポキシ基を有するハロヒドリン化
合物を用いると、熱処理により不溶性の高分子となるカ
チオン性の高分子紫外線吸収剤が得られる。この高分子
紫外線吸収剤は、熱処理により分子中のエポキシ基が共
重合体中の水酸基などの活性基と反応、架橋することで
不溶化する。
【００２２】したがって、例えば、ガラス板などにこの
カチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を塗布後、乾燥
してさらに熱セットすることにより、ガラス板上に耐久
性のある紫外線吸収性皮膜を形成させることができ、ガ
ラス板を透過してくる紫外線を防止することができるた
め、車の窓ガラスなどへの応用が考えられる。
カチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を塗布後、乾燥
してさらに熱セットすることにより、ガラス板上に耐久
性のある紫外線吸収性皮膜を形成させることができ、ガ
ラス板を透過してくる紫外線を防止することができるた
め、車の窓ガラスなどへの応用が考えられる。
【００２３】さらに、本発明の効果を損なわない範囲
で、第３の共重合体成分を導入することができ、これに
用いられる共重合可能な他のビニル化合物としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリル酸のアルキルエステ
ル、メタクリル酸のアルキルエステル、アルキルビニル
エーテル、アルキルビニルエステルなどが挙げられる。
で、第３の共重合体成分を導入することができ、これに
用いられる共重合可能な他のビニル化合物としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリル酸のアルキルエステ
ル、メタクリル酸のアルキルエステル、アルキルビニル
エーテル、アルキルビニルエステルなどが挙げられる。
【００２４】本発明の高分子紫外線吸収剤としては、重
量平均分子量５０００〜１００万のものが好適であり、
好ましくは１万〜８０万である。
量平均分子量５０００〜１００万のものが好適であり、
好ましくは１万〜８０万である。
【００２５】
【発明の効果】本発明の高分子紫外線吸収剤は、水溶性
であるため、各種水性物質あるいは水性製品に容易に添
加、利用することが可能である。例えば、水性塗料に添
加することで、塗料皮膜の光劣化を防ぐことができる。
であるため、各種水性物質あるいは水性製品に容易に添
加、利用することが可能である。例えば、水性塗料に添
加することで、塗料皮膜の光劣化を防ぐことができる。
【００２６】また、第４級アンモニウム基含有モノマー
の共重合割合を変化させることで容易に水溶性の高分子
紫外線吸収剤から自己分散性の高分子紫外線吸収剤まで
種々の形態のものを得ることができる。そこで、透明水
溶液状の製品に添加する場合も、製品形態の上からも有
利である。
の共重合割合を変化させることで容易に水溶性の高分子
紫外線吸収剤から自己分散性の高分子紫外線吸収剤まで
種々の形態のものを得ることができる。そこで、透明水
溶液状の製品に添加する場合も、製品形態の上からも有
利である。
【００２７】さらに、本発明の高分子紫外線吸収剤は、
分子中に第４級アンモニウム基を有し、カチオン性を示
し、あらゆる物質に対して吸着性を発揮することから種
々の用途に用いることができるが、その一例を挙げれば
衣料等の繊維製品、ヘアケア製品、塗料、顔料への利用
などが挙げられる。
分子中に第４級アンモニウム基を有し、カチオン性を示
し、あらゆる物質に対して吸着性を発揮することから種
々の用途に用いることができるが、その一例を挙げれば
衣料等の繊維製品、ヘアケア製品、塗料、顔料への利用
などが挙げられる。
【００２８】繊維製品は一般的にマイナスの電荷になっ
ているため、カチオン性である本発明の高分子紫外線吸
収剤は、これら繊維に強固に吸着し、耐洗濯性のある強
固な皮膜を形成し、持続性のある紫外線透過防止処理を
行なうことが可能である。
ているため、カチオン性である本発明の高分子紫外線吸
収剤は、これら繊維に強固に吸着し、耐洗濯性のある強
固な皮膜を形成し、持続性のある紫外線透過防止処理を
行なうことが可能である。
【００２９】毛髪は日光（紫外線）によって色焼けし、
この防止には紫外線吸収剤の添加が有効である。本発明
の紫外線吸収剤は水溶性でカチオン性であるため、毛髪
に吸着しやすく効果が長持ちし、毛髪化粧料などの優れ
たヘアケア製品が得られる。
この防止には紫外線吸収剤の添加が有効である。本発明
の紫外線吸収剤は水溶性でカチオン性であるため、毛髪
に吸着しやすく効果が長持ちし、毛髪化粧料などの優れ
たヘアケア製品が得られる。
【００３０】染料や顔料には紫外線によって退色するも
のが多くあるが、本発明の紫外線吸収剤を染料、顔料の
粒子表面に吸着させることにより、耐紫外線効果を持つ
染料、顔料を容易に製造できる。
のが多くあるが、本発明の紫外線吸収剤を染料、顔料の
粒子表面に吸着させることにより、耐紫外線効果を持つ
染料、顔料を容易に製造できる。
【００３１】
【実施例】実施例１：２−ヒドロキシ−４−メタクリロ
イルオキシベンゾフェノンとＮ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チルアクリレートとの共重合物の重合とカチオン化反応 ジムロート、滴下ロート、温度計、窒素導入管、撹拌装
置を備えたセパラブルフラスコに、２−ヒドロキシ−４
−メタクリロイルオキシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエチルアクリレート７０ｇ、エチルセ
ロソルブ１００ｇを加え窒素導入管から窒素を吹き込み
ながら８０℃まで昇温する。その後少量のエチルセロソ
ルブに溶解したアゾビスイソブチロニトリル（以下「Ａ
ＩＢＮ」と略す）０．１ｇを４分割し、３０分間隔で滴
下する。滴下終了後窒素雰囲気下で２時間反応を行な
い、高分子型紫外線吸収剤の溶液を得た。さらにこれに
ジエチル硫酸３０ｇを３０分で滴下し、窒素雰囲気下で
２時間反応を行なう。なお、撹拌速度は１５０ｒｐｍと
した。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し固形分２
０％のカチオン性高分子型紫外線吸収剤の水溶液を得
た。
イルオキシベンゾフェノンとＮ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チルアクリレートとの共重合物の重合とカチオン化反応 ジムロート、滴下ロート、温度計、窒素導入管、撹拌装
置を備えたセパラブルフラスコに、２−ヒドロキシ−４
−メタクリロイルオキシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエチルアクリレート７０ｇ、エチルセ
ロソルブ１００ｇを加え窒素導入管から窒素を吹き込み
ながら８０℃まで昇温する。その後少量のエチルセロソ
ルブに溶解したアゾビスイソブチロニトリル（以下「Ａ
ＩＢＮ」と略す）０．１ｇを４分割し、３０分間隔で滴
下する。滴下終了後窒素雰囲気下で２時間反応を行な
い、高分子型紫外線吸収剤の溶液を得た。さらにこれに
ジエチル硫酸３０ｇを３０分で滴下し、窒素雰囲気下で
２時間反応を行なう。なお、撹拌速度は１５０ｒｐｍと
した。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し固形分２
０％のカチオン性高分子型紫外線吸収剤の水溶液を得
た。
【００３２】実施例２：２−ヒドロキシ−４−アクリロ
イルオキシベンゾフェノンとＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドとの共重合物の重合とカチオン化
反応 ２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノ
ン３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．
１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、ジメチ
ル硫酸３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン
化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈
して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の
水溶液を得た。
イルオキシベンゾフェノンとＮ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドとの共重合物の重合とカチオン化
反応 ２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノ
ン３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．
１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、ジメチ
ル硫酸３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン
化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈
して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の
水溶液を得た。
【００３３】実施例３：２−ヒドロキシ−４−（アクリ
ロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンとＮ−２−ヒド
ロキシ−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミンとの共重合物の重合とカチオン化反応 ２−ヒドロキシ−４−（アクリロイルオキシ）エトキシ
ベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ−２−ヒドロキシ−アクリロ
イルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン７０ｇ、
エチルセロソルブ１０００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用
い実施例１と同様な操作にて重合し、ベンジルクロライ
ド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン化反
応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し
て、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水
溶液を得た。
ロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンとＮ−２−ヒド
ロキシ−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミンとの共重合物の重合とカチオン化反応 ２−ヒドロキシ−４−（アクリロイルオキシ）エトキシ
ベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ−２−ヒドロキシ−アクリロ
イルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン７０ｇ、
エチルセロソルブ１０００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用
い実施例１と同様な操作にて重合し、ベンジルクロライ
ド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン化反
応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し
て、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水
溶液を得た。
【００３４】実施例４：２−ヒドロキシ−４−（２−メ
タクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンとＮ−３
−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミンとの共重合物の重合とカチオン
化反応 ２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エ
トキシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ−３−メタクリロイル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミン８０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．
１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、メチル
クロライド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチ
オン化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で
希釈して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収
剤の水溶液を得た。
タクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンとＮ−３
−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミンとの共重合物の重合とカチオン
化反応 ２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エ
トキシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ−３−メタクリロイル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミン８０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．
１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、メチル
クロライド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチ
オン化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で
希釈して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収
剤の水溶液を得た。
【００３５】実施例５：２−ヒドロキシ−４−（２−メ
チル−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンと
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドとの共
重合物の重合とカチオン化反応 ２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エト
キシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド７０ｇ、エチルセロソルブ１００
ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と同様な操作に
て重合し、モノクロル酢酸３０ｇを用い実施例１と同様
な操作にてカチオン化反応を行なう。反応終了後室温ま
で冷却し、水で希釈して、固形分２０％のカチオン性高
分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
チル−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンと
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドとの共
重合物の重合とカチオン化反応 ２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エト
キシベンゾフェノン３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド７０ｇ、エチルセロソルブ１００
ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と同様な操作に
て重合し、モノクロル酢酸３０ｇを用い実施例１と同様
な操作にてカチオン化反応を行なう。反応終了後室温ま
で冷却し、水で希釈して、固形分２０％のカチオン性高
分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
【００３６】実施例６：２−［２′−ヒドロキシ−５′
−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾ
ールとＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレートと
の共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シ）フェニル］ベンゾトリアゾール３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノプロピルアクリレート７０ｇ、エチルセロ
ソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と
同様な操作にて重合し、β−プロピオラクトン３０ｇを
用い実施例１と同様な操作にてカチオン化反応を行な
う。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分
２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得
た。
−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾ
ールとＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレートと
の共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シ）フェニル］ベンゾトリアゾール３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノプロピルアクリレート７０ｇ、エチルセロ
ソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と
同様な操作にて重合し、β−プロピオラクトン３０ｇを
用い実施例１と同様な操作にてカチオン化反応を行な
う。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分
２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得
た。
【００３７】実施例７：２−［２′−ヒドロキシ−５′
−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾー
ルとＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートとの共
重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキ
シ）フェニル］ベンゾトリアゾール３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート７０ｇ、エチルセロソ
ルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と同
様な操作にて重合し、ジメチル硫酸３０ｇを用い実施例
１と同様な操作にてカチオン化反応を行なう。反応終了
後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分２０％のカチ
オン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾー
ルとＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートとの共
重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキ
シ）フェニル］ベンゾトリアゾール３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート７０ｇ、エチルセロソ
ルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と同
様な操作にて重合し、ジメチル硫酸３０ｇを用い実施例
１と同様な操作にてカチオン化反応を行なう。反応終了
後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分２０％のカチ
オン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
【００３８】実施例８：２−［２′−ヒドロキシ−３′
−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニ
ル］ベンゾトリアゾールとアクリロイルモルホリンとの
共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−
（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾー
ル３０ｇ、アクリロイルモルホリン７０ｇ、エチルセロ
ソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と
同様な操作にて重合し、モノクロル酢酸３０ｇを用い実
施例１と同様な操作にてカチオン化反応を行なう。反応
終了後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分２０％の
カチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニ
ル］ベンゾトリアゾールとアクリロイルモルホリンとの
共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−
（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾー
ル３０ｇ、アクリロイルモルホリン７０ｇ、エチルセロ
ソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを用い実施例１と
同様な操作にて重合し、モノクロル酢酸３０ｇを用い実
施例１と同様な操作にてカチオン化反応を行なう。反応
終了後室温まで冷却し、水で希釈して、固形分２０％の
カチオン性高分子紫外線吸収剤の水溶液を得た。
【００３９】実施例９：２−［２′−ヒドロキシ−５′
−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−５−クロロベ
ンゾトリアゾールとＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアク
リレートとの共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シ）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール３０
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート７０
ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを
用い実施例１と同様な操作にて重合し、ベンジルクロラ
イド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン化
反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し
て、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水
溶液を得た。
−（メタクリロイルオキシ）フェニル］−５−クロロベ
ンゾトリアゾールとＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアク
リレートとの共重合物の重合とカチオン化反応 ２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シ）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール３０
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート７０
ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ０．１２ｇを
用い実施例１と同様な操作にて重合し、ベンジルクロラ
イド３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチオン化
反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で希釈し
て、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収剤の水
溶液を得た。
【００４０】実施例１０：２−ヒドロキシ−４−（２−
メタクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンと２−
［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシ）フ
ェニル］ベンゾトリアゾールとＮ，Ｎ−ジエチルアミノ
エチルアクリレートとの共重合物の重合とカチオン化反
応 ２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エ
トキシベンゾフェノン１５ｇ、２−［２′−ヒドロキシ
−５′−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリ
アゾール１５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリ
レート７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ
０．１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、ジ
メチル硫酸３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチ
オン化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で
希釈して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収
剤の水溶液を得た。
メタクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンと２−
［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシ）フ
ェニル］ベンゾトリアゾールとＮ，Ｎ−ジエチルアミノ
エチルアクリレートとの共重合物の重合とカチオン化反
応 ２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エ
トキシベンゾフェノン１５ｇ、２−［２′−ヒドロキシ
−５′−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリ
アゾール１５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリ
レート７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇ、ＡＩＢＮ
０．１２ｇを用い実施例１と同様な操作にて重合し、ジ
メチル硫酸３０ｇを用い実施例１と同様な操作にてカチ
オン化反応を行なう。反応終了後室温まで冷却し、水で
希釈して、固形分２０％のカチオン性高分子紫外線吸収
剤の水溶液を得た。
【００４１】実施例１１：Ｎ−２−ヒドロキシ−３−ア
クリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミンの
カチオン化反応物と２−ヒドロキシ−４−メタクリロイ
ルオキシベンゾフェノンとの重合 ジムロート、滴下ロート、温度計、窒素導入管、撹拌装
置を備えたセパラブルフラスコにＮ−２−ヒドロキシ−
３−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミン７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇを加え、これに
エピクロロヒドリン３０ｇを３０分で滴下し、さらに、
２時間撹拌を行なう。そして、あらかじめ加熱溶解した
２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェ
ノン３０ｇ、エチルセロソルブ５０ｇ溶液を加え、３０
分間窒素導入管から窒素を吹き込む。その後少量のエチ
ルセロソルブに溶解したＡＩＢＮ０．１ｇを４分割し、
３０分間隔で滴下する。滴下終了後窒素雰囲気で２時間
反応を行なう。なお、撹拌速度は１５０ｒｐｍとした。
反応終了後室温まで冷却し、水で固形分２０％になるよ
うに希釈し、カチオン性高分子型紫外線吸収剤の水溶液
を得た。
クリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミンの
カチオン化反応物と２−ヒドロキシ−４−メタクリロイ
ルオキシベンゾフェノンとの重合 ジムロート、滴下ロート、温度計、窒素導入管、撹拌装
置を備えたセパラブルフラスコにＮ−２−ヒドロキシ−
３−アクリロイルオキシプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミン７０ｇ、エチルセロソルブ１００ｇを加え、これに
エピクロロヒドリン３０ｇを３０分で滴下し、さらに、
２時間撹拌を行なう。そして、あらかじめ加熱溶解した
２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェ
ノン３０ｇ、エチルセロソルブ５０ｇ溶液を加え、３０
分間窒素導入管から窒素を吹き込む。その後少量のエチ
ルセロソルブに溶解したＡＩＢＮ０．１ｇを４分割し、
３０分間隔で滴下する。滴下終了後窒素雰囲気で２時間
反応を行なう。なお、撹拌速度は１５０ｒｐｍとした。
反応終了後室温まで冷却し、水で固形分２０％になるよ
うに希釈し、カチオン性高分子型紫外線吸収剤の水溶液
を得た。
【００４２】比較例１ ２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール５００
ｇ、水１５００ｇ、ナフタレンスルホン酸ナトリウムの
ホルムアルデヒド縮合物５０ｇを、メガギャッパーグレ
ンミル（浅田鉄工（株）製）で１時間分散撹拌を行な
い、紫外線吸収剤の分散溶液を得た。
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール５００
ｇ、水１５００ｇ、ナフタレンスルホン酸ナトリウムの
ホルムアルデヒド縮合物５０ｇを、メガギャッパーグレ
ンミル（浅田鉄工（株）製）で１時間分散撹拌を行な
い、紫外線吸収剤の分散溶液を得た。
【００４３】比較例２ ２，２，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン５
００ｇ、水１５００ｇ、ナフタレンスルホン酸ナトリウ
ムのホルムアルデヒド縮合物３５ｇを、メガギャッパー
グレンミル（浅田鉄工（株）製）で１時間分散撹拌を行
ない、紫外線吸収剤の分散溶液を得た。
００ｇ、水１５００ｇ、ナフタレンスルホン酸ナトリウ
ムのホルムアルデヒド縮合物３５ｇを、メガギャッパー
グレンミル（浅田鉄工（株）製）で１時間分散撹拌を行
ない、紫外線吸収剤の分散溶液を得た。
【００４４】試験例１ 実施例１〜１１のカチオン性高分子紫外線吸収剤を３ｗ
ｔ％になるように水で希釈した溶液に、綿ブロード、綿
タフタ、綿ニットの３種類の繊維に浸漬して、１００％
絞りとした後、１００℃で２分間乾燥した試料の紫外線
透過率を分光光度計にて測定した。実施例１〜１１の３
０５ｎｍおよび３６０ｎｍの透過率（Ｔ％）の測定結果
は表１に示す。また、測定例として、実施例１の分光透
過率を図１に示す。測定装置としては、積分球（直径６
０ｍｍ）付き自己分光光度計Ｕ−３３００形（株式会社
日立製作所）を用いた。
ｔ％になるように水で希釈した溶液に、綿ブロード、綿
タフタ、綿ニットの３種類の繊維に浸漬して、１００％
絞りとした後、１００℃で２分間乾燥した試料の紫外線
透過率を分光光度計にて測定した。実施例１〜１１の３
０５ｎｍおよび３６０ｎｍの透過率（Ｔ％）の測定結果
は表１に示す。また、測定例として、実施例１の分光透
過率を図１に示す。測定装置としては、積分球（直径６
０ｍｍ）付き自己分光光度計Ｕ−３３００形（株式会社
日立製作所）を用いた。
【００４５】
【表１】表１：透過率（Ｔ％） 実施例No. １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 11 未処理 綿ブロード： T%(305nm) 3.1 3.0 2.9 3.2 3.0 3.1 3.0 3.3 3.0 2.9 2.9 17.9 T%(360nm) 9.2 9.0 8.9 9.2 9.1 9.0 9.0 9.2 8.9 8.7 8.9 22.8 綿タフタ： T%(305nm) 3.0 3.5 3.4 3.3 3.5 3.1 3.2 3.3 3.0 3.0 3.0 18.9 T%(360nm) 10.5 10.0 10.5 10.6 10.8 10.4 9.9 9.8 9.7 10.0 10.8 23.5 綿ニット： T%(305nm) 2.9 2.9 3.0 2.8 3.0 3.1 2.9 2.8 3.0 2.8 2.8 15.6 T%(360nm) 9.7 9.6 9.9 9.5 9.9 9.7 9.8 9.5 9.8 9.5 9.8 20.5
【００４６】試験例２ 実施例１〜１１のカチオン性高分子紫外線吸収剤および
比較例１〜２を０．０５ｗｔ％になるように水で希釈し
た溶液に、綿ブロードを２分間浸漬した後、１００℃で
２分間乾燥した試料の紫外線透過率を分光光度計にて測
定した。実施例１〜１１および比較例１〜２の３０５ｎ
ｍおよび３６０ｎｍの透過率（Ｔ％）の測定結果を表２
及び表３に示す。また、測定例として、実施例１の分光
透過率を図１に示す。測定装置としては、積分球（直径
６０ｍｍ）付き自己分光光度計Ｕ−３３００形（株式会
社日立製作所）を用いた。
比較例１〜２を０．０５ｗｔ％になるように水で希釈し
た溶液に、綿ブロードを２分間浸漬した後、１００℃で
２分間乾燥した試料の紫外線透過率を分光光度計にて測
定した。実施例１〜１１および比較例１〜２の３０５ｎ
ｍおよび３６０ｎｍの透過率（Ｔ％）の測定結果を表２
及び表３に示す。また、測定例として、実施例１の分光
透過率を図１に示す。測定装置としては、積分球（直径
６０ｍｍ）付き自己分光光度計Ｕ−３３００形（株式会
社日立製作所）を用いた。
【００４７】
【表２】表２：透過率（Ｔ％） 実施例No. １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 11 未処理 綿ブロード： T%(305nm) 6.6 6.5 6.7 6.4 6.5 6.6 6.4 6.7 6.5 6.5 6.3 17.9 T%(360nm) 16.1 16.0 16.1 15.9 16.0 16.1 15.8 16.2 16.0 15.8 15.7 22.8
【００４８】
【表３】表３：透過率（Ｔ％） 比較例No. １ ２ 綿ブロード： T%(305nm) 15.5 14.8T%(360nm) 20.9 20.0
【００４９】試験例３ アクリル繊維を以下の条件にて染色した後、実施例１〜
１１および比較例１〜２を固型分１％となるように、水
で希釈して処理浴とする。この処理浴に閉色したアクリ
ル繊維を浸漬、絞り率８０％となるようにマングルにて
処理後、１２０℃、２分間乾乾した。以上の互作により
得られたアクリル繊維試料の耐光性をＪＩＳ Ｌ ０８
０４（カーボンアーク光に対する染色堅牢度試験方法）
にしたがって試験した結果を表４に示す。 染色条件 染料 Ｃ．Ｉ．ＢＡＳＩＣ ＲＥＤ５６ 1％owf 酢酸 0.2cc/l 酢酸ナトリウム 0.4g/l カチボンＬＫ 1％owf （均染剤：一方社油脂工業株式会社製） 浴比：２０ 染色温度・時間：１００℃×３０分
１１および比較例１〜２を固型分１％となるように、水
で希釈して処理浴とする。この処理浴に閉色したアクリ
ル繊維を浸漬、絞り率８０％となるようにマングルにて
処理後、１２０℃、２分間乾乾した。以上の互作により
得られたアクリル繊維試料の耐光性をＪＩＳ Ｌ ０８
０４（カーボンアーク光に対する染色堅牢度試験方法）
にしたがって試験した結果を表４に示す。 染色条件 染料 Ｃ．Ｉ．ＢＡＳＩＣ ＲＥＤ５６ 1％owf 酢酸 0.2cc/l 酢酸ナトリウム 0.4g/l カチボンＬＫ 1％owf （均染剤：一方社油脂工業株式会社製） 浴比：２０ 染色温度・時間：１００℃×３０分
【００５０】
【表４】表４ 実 施 例 比較例 １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 11 １ ２ 耐光性 5 5 5〜4 5〜4 5 5 5〜4 5 5〜4 5 5〜4 2〜3 3 (級)
【００５１】試験例４ メタクリル酸メチル１００ｇ、メタクリル酸ｎ−ブチル
６０ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３５ｇ、メ
タクリル酸５ｇ、酢酸エチル１５０ｇをとり、７０℃に
加熱撹拌しながらＡＩＢＮ２ｇ、ドデシルメルカプタン
０．４ｇおよび酢酸エチル５０ｇからなる溶液を１時間
で滴下した。その後、同温度で７時間撹拌し、樹脂固形
分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。このアクリル
樹脂溶液１００ｇ、ブトキシ化メチロールメラミン（三
井東圧化学社製；ユーバン２０ＳＥ６０；樹脂固形分６
０％）３０ｇ、セルロースアセテート（２０％酢酸ブチ
ル溶液）５００ｇ、そして、あらかじめ実施例１〜１１
および比較例１〜２の３ｗｔ％水溶液に顔料（ＢＡＳＦ
社製；Ｌｉｔｈｏｌ Ｓｃａｒｌｅｔ Ｋ ４３００）
１００ｇ浸漬させた後、脱水乾燥し、粉砕したものを５
０ｇとキシレン１００ｇを混合し、試験試料とした。プ
ライマー処理した鋼板にこの試験試料を乾燥膜厚が３０
μになるようスプレーし、１５分間放置後、１４０℃で
３０分間焼付けし試片を作成した。この試片をウエザオ
メターに入れ顔料の耐光性を試験した。耐光性の評価結
果を表５に示す。
６０ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３５ｇ、メ
タクリル酸５ｇ、酢酸エチル１５０ｇをとり、７０℃に
加熱撹拌しながらＡＩＢＮ２ｇ、ドデシルメルカプタン
０．４ｇおよび酢酸エチル５０ｇからなる溶液を１時間
で滴下した。その後、同温度で７時間撹拌し、樹脂固形
分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。このアクリル
樹脂溶液１００ｇ、ブトキシ化メチロールメラミン（三
井東圧化学社製；ユーバン２０ＳＥ６０；樹脂固形分６
０％）３０ｇ、セルロースアセテート（２０％酢酸ブチ
ル溶液）５００ｇ、そして、あらかじめ実施例１〜１１
および比較例１〜２の３ｗｔ％水溶液に顔料（ＢＡＳＦ
社製；Ｌｉｔｈｏｌ Ｓｃａｒｌｅｔ Ｋ ４３００）
１００ｇ浸漬させた後、脱水乾燥し、粉砕したものを５
０ｇとキシレン１００ｇを混合し、試験試料とした。プ
ライマー処理した鋼板にこの試験試料を乾燥膜厚が３０
μになるようスプレーし、１５分間放置後、１４０℃で
３０分間焼付けし試片を作成した。この試片をウエザオ
メターに入れ顔料の耐光性を試験した。耐光性の評価結
果を表５に示す。
【００５２】
【表５】表５ 実 施 例 比較例 １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 11 １ ２ 耐光性 5 5 5 5 5〜4 5 5 5〜4 5 5 5〜4 2 3 (級)
【００５３】試験例５ 実施例１１および比較例１〜２のカチオン性高分子紫外
線吸収剤をガラス板（厚さ１．２〜１．５ｍｍ）上に、
この試験試料を乾燥膜厚が５μになるようキャストし、
３０分間放置後、１５０℃で５分間乾燥し試片を作成し
た。試片の紫外線透過率を測定し図３に示した。また、
この試片を水に２時間浸漬した時の皮膜の白化状態を観
察し、その結果を表６に示した。
線吸収剤をガラス板（厚さ１．２〜１．５ｍｍ）上に、
この試験試料を乾燥膜厚が５μになるようキャストし、
３０分間放置後、１５０℃で５分間乾燥し試片を作成し
た。試片の紫外線透過率を測定し図３に示した。また、
この試片を水に２時間浸漬した時の皮膜の白化状態を観
察し、その結果を表６に示した。
【００５４】
【表６】
【図１】試験例の分光透過率を示すグラフである。
【図２】試験例の分光透過率を示すグラフである。
【図３】試験例の分光透過率を示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】 紫外線吸収性共重合体単位と、第４級ア
ンモニウム基を有する共重合体単位とを含む共重合物か
らなることを特徴とするカチオン性高分子紫外線吸収
剤。 - 【請求項２】 紫外線吸収性共重合体単位が、紫外線吸
収性を示す２−ヒドロキシベンゾフェノン残基が結合し
た重合性ビニル化合物および／または２−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール残基が結合した重合性ビニル化合物に
由来する請求項１に記載のカチオン性高分子紫外線吸収
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248544A JPH08904B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | カチオン性高分子紫外線吸収剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248544A JPH08904B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | カチオン性高分子紫外線吸収剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673367A JPH0673367A (ja) | 1994-03-15 |
| JPH08904B2 true JPH08904B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=17179762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4248544A Expired - Fee Related JPH08904B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | カチオン性高分子紫外線吸収剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08904B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4771596B2 (ja) * | 2001-01-15 | 2011-09-14 | 一方社油脂工業株式会社 | コーティング剤及びそれを用いた構造体 |
| CN118932724B (zh) * | 2024-07-25 | 2025-02-07 | 福懋兴业（中山）有限公司 | 一种抗紫外线面料的制作工艺 |
| CN119752003A (zh) * | 2024-11-19 | 2025-04-04 | 西北农林科技大学 | 一种保温保墒pe复合地膜及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2647950B2 (ja) * | 1989-02-17 | 1997-08-27 | 花王株式会社 | 糊料組成物 |
| JP2858940B2 (ja) * | 1990-11-26 | 1999-02-17 | シプロ化成株式会社 | 新規ベンゾトリアゾール化合物の製造方法 |
-
1992
- 1992-08-25 JP JP4248544A patent/JPH08904B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0673367A (ja) | 1994-03-15 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |