JPH11228698A - Fine particles of organopolysiloxane, production of the same and liquid crystal display - Google Patents
Fine particles of organopolysiloxane, production of the same and liquid crystal displayInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の技術分野】本発明は、オルガノポリシロキサン
微粒子、その製造方法および該オルガノポリシロキサン
微粒子を液晶セルの電極間にスペーサーとして介在させ
た液晶表示装置に関する。さらに詳しくは、散布性に優
れたオルガノポリシロキサン微粒子とその製造方法、お
よび該オルガノポリシロキサン微粒子を液晶セルの電極
間にスペーサーとして介在させた液晶表示装置に関す
る。The present invention relates to organopolysiloxane fine particles, a method for producing the same, and a liquid crystal display device in which the organopolysiloxane fine particles are interposed as spacers between electrodes of a liquid crystal cell. More specifically, the present invention relates to organopolysiloxane fine particles having excellent dispersibility, a method for producing the same, and a liquid crystal display device in which the organopolysiloxane fine particles are interposed as spacers between electrodes of a liquid crystal cell.
【0002】[0002]
【発明の技術的背景】液晶表示装置用液晶セルに備えら
れた一対の電極間にはスペーサーが介設され、かつ液晶
物質が封入されて液晶層を形成しているが、この液晶層
の厚さが均一でないと、液晶セルに表示された画像に色
むらや点灯時のコントラストの低下を引き起こすことが
ある。また、高速で表示画像を切り替える場合、あるい
は視野角の広い画像を表示する場合にも、液晶セル内部
の液晶層の厚さが均一であることが要求されている。BACKGROUND OF THE INVENTION A spacer is interposed between a pair of electrodes provided in a liquid crystal cell for a liquid crystal display device, and a liquid crystal material is sealed to form a liquid crystal layer. If it is not uniform, the image displayed on the liquid crystal cell may cause color unevenness or decrease in contrast at the time of lighting. Also, when switching the display image at a high speed or displaying an image with a wide viewing angle, it is required that the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell be uniform.
【0003】さらに、現在用いられているSTNモード
の大画面液晶表示装置で色むらのない大画面を表示する
ためには、より一層液晶セル内部の液晶層の厚さを均一
にすることが要求されている。Further, in order to display a large screen without color unevenness in a currently used STN mode large screen liquid crystal display device, it is necessary to further uniform the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell. Have been.
【0004】この液晶セル内部の液晶層の厚さを均一に
するため、従来より、粒径の揃った球状粒子を液晶セル
の電極間に散在して介在させること、すなわち液晶セル
の電極間スペーサーとして用いることが行われ、このよ
うな粒子としてポリスチレンなどのような有機樹脂粒
子、シリカ微粒子などが用いられている。Conventionally, in order to make the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell uniform, spherical particles having a uniform particle size are scattered and interposed between the electrodes of the liquid crystal cell, that is, a spacer between the electrodes of the liquid crystal cell. Organic particles such as polystyrene, silica fine particles, and the like are used as such particles.
【0005】しかしながら、ポリスチレンなどのような
有機樹脂粒子を液晶セルの電極間スペーサーとして用い
た場合、これらの有機樹脂粒子は、柔らかすぎて液晶セ
ル内部の液晶層の厚さを均一に保持することが困難であ
るという問題点があった。たとえば、液晶セル内部の液
晶層に不均一な圧力が負荷されると、この圧力のばらつ
きに応じてスペーサーが変形し、液晶セル内部の液晶層
の厚さを均一に維持することはできない。However, when organic resin particles such as polystyrene are used as spacers between electrodes of a liquid crystal cell, these organic resin particles are too soft to maintain a uniform thickness of a liquid crystal layer inside the liquid crystal cell. There was a problem that it was difficult. For example, when a non-uniform pressure is applied to the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell, the spacer is deformed in accordance with the variation in the pressure, and the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell cannot be maintained uniform.
【0006】また、シリカ微粒子を液晶セルの電極間ス
ペーサーとして用いた場合、シリカ微粒子の粒度分布が
シャープでないと、シリカ微粒子の圧縮変形が小さいこ
とに起因して、液晶セル内部の液晶層の厚さが不均一と
なるという問題もあった。さらに、液晶表示装置を低温
に曝した場合、液晶セル内部で液晶層の熱膨張係数とス
ペーサーの熱膨張係数とが異なるため、液晶セルの電極
と液晶層との間に空隙が生じて、所謂、低温気泡が発生
するという問題もあった。When silica fine particles are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, if the particle size distribution of the silica fine particles is not sharp, the compression deformation of the silica fine particles is small, and the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell is reduced. However, there is also a problem that the non-uniformity is obtained. Further, when the liquid crystal display device is exposed to a low temperature, since the thermal expansion coefficient of the liquid crystal layer and the thermal expansion coefficient of the spacer are different inside the liquid crystal cell, a gap is formed between the electrode of the liquid crystal cell and the liquid crystal layer, so-called. There is also a problem that low-temperature bubbles are generated.
【0007】上記のような問題点を解決するため、特開
平6−250193号公報には、加水分解可能なシリコ
ン化合物、例えばテトラエトキシシランなどを加水分解
してシリカ微粒子を調製し、このシリカ微粒子表面のシ
ラノール基を有機化合物でエステル化したシリカ微粒子
を液晶セルの電極間スペーサーとして用いることが提案
されている。In order to solve the above problems, JP-A-6-250193 discloses that silica particles are prepared by hydrolyzing a hydrolyzable silicon compound, for example, tetraethoxysilane. It has been proposed to use silica fine particles in which silanol groups on the surface are esterified with an organic compound as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell.
【0008】この方法で製造したシリカ微粒子は、適度
の硬さと機械的復元性とを有しているため、液晶セルの
電極間スペーサーとして好適であるが、機械的復元性の
点で液晶セルの電極間スペーサーとしては不充分であっ
た。The silica fine particles produced by this method have appropriate hardness and mechanical resilience, and thus are suitable as spacers between electrodes of a liquid crystal cell. It was insufficient as a spacer between electrodes.
【0009】また、これらのような従来からスペーサー
粒子として用いられてきた微粒子は、ポリスチレンなど
の有機質からなる微粒子であるか、あるいはシリカなど
の無機質であって、実質的に疎水性か親水性かのどちら
かであり、このため、このような微粒子のなかには、電
極用基板に湿式散布する際に、溶媒によっては微粒子が
単分散せず、均一に散布することができないものがあっ
た。また、このような微粒子には、電極用基板に乾式散
布する際に、微粒子が帯電して均一に散布できないもの
もあり、さらにこのような微粒子が電極基板以外の部分
に微粒子が付着しやすいといった問題があった。The fine particles conventionally used as the spacer particles are organic fine particles such as polystyrene, or inorganic particles such as silica, and are substantially hydrophobic or hydrophilic. For this reason, among such fine particles, when wet-spraying on the electrode substrate, there were some solvents in which the fine particles did not monodisperse depending on the solvent and could not be uniformly sprayed. Further, among such fine particles, when dry-spraying on the electrode substrate, there are also particles that are not charged uniformly due to charging of the fine particles, and furthermore, such fine particles tend to adhere to portions other than the electrode substrate. There was a problem.
【0010】上記のように、粒径が均一で優れた弾性特
性を有したスペーサー粒子であっても、均一に散布でき
ない場合があり、その特性に基づく効果を充分発揮でき
ない場合があった。As described above, even in the case of spacer particles having a uniform particle size and excellent elastic properties, the spacer particles may not be uniformly dispersed, and the effect based on the characteristics may not be sufficiently exhibited.
【0011】ところで、特開平7−140472号公報
には、R'mSi(OR2)4-m(式中のR'、R2は、それぞ
れ特定の有機基を表し、mは0〜3の整数である。)で
表される有機ケイ素化合物を加水分解、縮重合したの
ち、100〜1000℃の温度で熱処理して、特定の圧
縮弾性率を有する液晶セル用スペーサー粒子を得ること
が開示されている。このスペーサー粒子の圧縮弾性率
は、熱処理工程で粒子内部に存在する有機基の一部を熱
分解した後の残存有機基量で制御されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-140472 discloses that R ′ m Si (OR 2 ) 4-m (wherein R ′ and R 2 each represent a specific organic group, and m represents 0 to 3). Is obtained by hydrolyzing and polycondensing the organosilicon compound represented by the formula (1), followed by heat treatment at a temperature of 100 to 1000 ° C. to obtain spacer particles for a liquid crystal cell having a specific compression modulus. Have been. The compression modulus of the spacer particles is controlled by the amount of residual organic groups after a part of the organic groups present inside the particles are thermally decomposed in the heat treatment step.
【0012】しかしながら、粒子径が異なると上記熱処
理工程後に粒子内部に残存する有機基量が異なるため、
残存有機基量の制御は難しく、そのため、粒子毎の圧縮
変形率のバラツキが大きく、したがって、粒子内部に残
存する有機基量で液晶セル用スペーサー粒子の圧縮弾性
率を制御するのは難しいといった問題点があった。ま
た、粒子の表面と内部とでは、残存有機基量が異なるこ
とから粒子全体にわたって圧縮弾性率は一様ではなく、
さらに、上記熱処理工程で熱分解された粒子内部の有機
基部分にボイドが発生し、この結果、得られた液晶セル
用スペーサー粒子の圧縮強度が低下するといった問題点
があった。However, if the particle diameter is different, the amount of organic groups remaining inside the particles after the above heat treatment step is different.
It is difficult to control the amount of residual organic groups, and therefore, there is a large variation in the compressive deformation rate of each particle. Therefore, it is difficult to control the compression elastic modulus of spacer particles for liquid crystal cells by the amount of organic groups remaining inside the particles. There was a point. Also, since the amount of residual organic groups is different between the surface and the inside of the particle, the compression modulus is not uniform over the entire particle,
Further, voids are generated in the organic group portions inside the particles thermally decomposed in the heat treatment step, and as a result, there is a problem that the compressive strength of the obtained spacer particles for a liquid crystal cell is reduced.
【0013】このため、本発明者らは、有機ケイ素化合
物を用いて特定の方法でオルガノポリシロキサン微粒子
を製造したところ、上記のような熱処理工程を経ないで
も微粒子内部の有機基量が制御され、高い弾性復元率を
有し、かつ粒径が揃ったオルガノポリシロキサン微粒子
が得られることを見出し、提案している(特願平7−2
13800号)。For this reason, the present inventors produced organopolysiloxane fine particles by a specific method using an organosilicon compound. As a result, the amount of organic groups inside the fine particles was controlled without the heat treatment step as described above. And found that organopolysiloxane microparticles having a high elastic recovery rate and a uniform particle size can be obtained (Japanese Patent Application No. 7-2).
No. 13800).
【0014】しかしながら、得られたオルガノポリシロ
キサン微粒子は疎水性であるため、電極間スペーサーと
して用いる際に、基材上に均一に散布できない場合があ
った。このため、用途によっては、得られた疎水性のオ
ルガノポリシロキサン微粒子の一部を親水性化する必要
があった。このため、新たな親水性化などの処理工程が
必要であり、また処理によってはオルガノポリシロキサ
ン微粒子の圧縮強度を損なう場合があった。However, since the obtained organopolysiloxane fine particles are hydrophobic, when they are used as spacers between electrodes, they may not be uniformly dispersed on the substrate in some cases. For this reason, depending on the application, it was necessary to make a part of the obtained hydrophobic organopolysiloxane fine particles hydrophilic. For this reason, a new treatment step such as hydrophilicity is required, and depending on the treatment, the compressive strength of the organopolysiloxane fine particles may be impaired.
【0015】[0015]
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術におけ
る問題点を解決するものであって、基板に均一に散布す
ることが可能であり、優れた弾性特性を有し、かつ、粒
径の揃ったスペーサー用微粒子を提供することを目的と
するとともに、該スペーサー用微粒子の製造方法、およ
び該スペーサー用微粒子を液晶セルの電極間にスペーサ
ーとして介在させた液晶表示装置を提供することを目的
としている。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the prior art, which can be uniformly dispersed on a substrate, has excellent elastic properties, and has a particle size. The object of the present invention is to provide a spacer fine particle having uniformity, a method for producing the spacer fine particle, and a liquid crystal display device in which the spacer fine particle is interposed as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell. And
【0016】[0016]
【発明の概要】本発明に係るオルガノポリシロキサン微
粒子は、粒子内に、珪素原子に直接結合した炭化水素基
(a)と、珪素原子に直接結合したOH基(b)を有するポリ
シロキサンを主成分とするオルガノポリシロキサン微粒
子であって、(i) 珪素原子に直接結合した炭化水素基
(a)中に含まれる炭素の量が、微粒子重量に対し5〜3
5重量%の範囲にあり、(ii)珪素原子に直接結合したO
H基(b)の量が微粒子に対して1〜8meq/gであり、(ii
i) 10%圧縮弾性率が150〜900Kg/mm2、(iv)平
均圧縮変形率(Cr)m が20〜60%、(v) 平均弾性復
元率(Rr)m が60〜90%、(vi)平均粒子径が0.5
〜50μm、であることを特徴としている。SUMMARY OF THE INVENTION The organopolysiloxane fine particles according to the present invention contain, in the particles, hydrocarbon groups directly bonded to silicon atoms.
(a) and an organopolysiloxane fine particle mainly composed of a polysiloxane having an OH group (b) directly bonded to a silicon atom, wherein (i) a hydrocarbon group directly bonded to a silicon atom
The amount of carbon contained in (a) is 5 to 3 with respect to the weight of the fine particles.
(Ii) O directly bonded to silicon atoms
The amount of the H group (b) is 1 to 8 meq / g with respect to the fine particles, and (ii)
i) 10% compression modulus is 150 to 900 kg / mm 2 , (iv) average compression deformation (C r ) m is 20 to 60%, and (v) average elastic recovery (R r ) m is 60 to 90%. (Vi) the average particle size is 0.5
5050 μm.
【0017】本発明に係るポリオルガノシロキサン微粒
子の製造方法は、下記(a)〜(e)の工程からなることを特
徴としている。 (a) 式(1):Si(OR1)4で表される有機ケイ素化合物
と、式(2):R'Si(OR 2)3で表される有機ケイ素化合
物との混合物を、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分
解、縮重合することによりシード粒子の分散液を調製す
る工程、(式中、R1およびR2は、水素原子またはアル
キル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ば
れる炭素数1〜10の有機基であり、R'は、置換また
は非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有
機基である。) (b) 前記シード粒子分散液にアルカリを添加してシード
液を安定化させる工程、 (c) 前記シード粒子の分散液のpHを6〜9に維持しな
がら、分散液に下記式(3)または(4)で表される化合物の
1種または2種以上、および必要に応じて(5)で表され
る化合物を加え、加水分解・縮重合してシード粒子を成
長させて球状微粒子分散液を調製する工程、 R'Si(OR2)3 (3) R'R"Si(OR3)2 (4)The polyorganosiloxane fine particles according to the present invention
The method for manufacturing a child comprises the following steps (a) to (e).
It is a sign. (a) Equation (1): Si (OR1)FourOrganosilicon compound represented by
And equation (2): R'Si (OR Two)ThreeOrganosilicon compound represented by
Mixture in a mixed solvent of water and an organic solvent.
Preparation of seed particle dispersion by disassembly and condensation polymerization
Where R1And RTwoIs a hydrogen atom or
Selected from kill, alkoxyalkyl and acyl groups
Wherein R ′ is a substituted or substituted organic group having 1 to 10 carbon atoms.
Is a group having 1 to 10 carbon atoms selected from unsubstituted hydrocarbon groups.
It is a machine base. (B) adding an alkali to the seed particle dispersion to form a seed;
(C) maintaining the pH of the seed particle dispersion at 6 to 9;
Meanwhile, the dispersion of the compound represented by the following formula (3) or (4)
One or more, and if necessary, represented by (5)
Compound and hydrolyze / condensate to form seed particles.
R′Si (OR)Two)Three (3) R'R "Si (ORThree)Two (Four)
【0018】[0018]
【化2】 Embedded image
【0019】(式中、R2、R'は、前記と同様の基であ
り、R"は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれ
る炭素数1〜10の有機基であり、R3は、水素原子ま
たはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基
から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、R4は、
プロピルまたはブチル基であり、Yは、メチル基、メト
キシ基、エチル基およびエトキシ基から選ばれる有機基
であり、Mは、周期律表第2〜15族から選ばれる元素
であり、mは0〜3の整数であり、nは1〜4の整数で
あり、m+nは2〜4の整数である。) (d) 前記球状微粒子の分散液を加熱して熟成する工程、 (e) 球状微粒子を水分含有雰囲気で、100〜600℃
で処理する工程。[0019] (wherein, R 2, R 'is the same groups, R "is an organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from substituted or unsubstituted hydrocarbon group, R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group, an organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from alkoxyalkyl groups and acyl groups, R 4 is,
A propyl or butyl group, Y is an organic group selected from a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group; M is an element selected from Groups 2 to 15 of the periodic table; N is an integer of 1 to 4, and m + n is an integer of 2 to 4. (D) a step of heating and aging the dispersion of the spherical fine particles, and (e) heating the spherical fine particles in a water-containing atmosphere at 100 to 600 ° C.
Process.
【0020】前記方法により、前記物性を有するオルガ
ノポリシロキサン微粒子を製造することができる。本発
明に係る液晶表示装置は、一対の電極を備えた液晶セル
を有し、該電極間にスペーサーとして上記本発明に係る
オルガノポリシロキサン微粒子が介在していることを特
徴としている。According to the above-mentioned method, organopolysiloxane fine particles having the above-mentioned properties can be produced. The liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal cell provided with a pair of electrodes, and the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are interposed as spacers between the electrodes.
【0021】[0021]
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るオルガノポリ
シロキサン微粒子およびその製造方法について説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The organopolysiloxane fine particles according to the present invention and a method for producing the same will be described below.
【0022】[オルガノポリシロキサン微粒子]まず、
本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子について具
体的に説明する。[Organopolysiloxane Fine Particles] First,
The organopolysiloxane fine particles according to the present invention will be specifically described.
【0023】本発明に係る微粒子は、粒子内に、珪素原
子に直接結合した炭化水素基(a)とOH基(b)とを有する
ポリシロキサンを主成分とするオルガノポリシロキサン
微粒子である。このようなオルガノポリシロキサン微粒
子中のケイ素含有量は、SiO2換算で、好ましくは50
〜90重量%、より好ましくは60〜80重量%である
ことが望ましい。このような微粒子は、所謂、ラダー構
造を基本とした三次元網目構造を有していると考えられ
る。The fine particles according to the present invention are organopolysiloxane fine particles mainly composed of a polysiloxane having a hydrocarbon group (a) and an OH group (b) directly bonded to a silicon atom in the particles. The silicon content in such organopolysiloxane fine particles is preferably 50% in terms of SiO 2.
It is desirable that the content be from 90 to 90% by weight, more preferably from 60 to 80% by weight. Such fine particles are considered to have a so-called three-dimensional network structure based on a ladder structure.
【0024】珪素原子に直接結合した炭化水素基(a)と
しては、炭素原子数1〜10の置換または非置換の炭化
水素基が挙げられる。非置換炭化水素基としては、アル
キル基(鎖状アルキル基または環状アルキル基)、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基などが挙げられ、
置換炭化水素基とは、前記非置換炭化水素基の水素原子
の一部または全部が非炭化水素基または水素以外の元素
で置換された基で、具体的にはCH2Cl基、CH2F
基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシ
プロピル基、アミノプロピル基、3,4-エポキシシクロヘ
キシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基、トリフル
オロプロピル基などが挙げられる。このような炭化水素
基(a)は、オルガノポリシロキサン微粒子を製造する際
に原料として用いられるR'Si(OR2)3またはR'R"S
i(OR3)2で表される有機珪素化合物における、珪素原
子と直接結合したR'およびR"に由来する基である。こ
のような有機珪素化合物については後述する。The hydrocarbon group (a) directly bonded to a silicon atom includes a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the unsubstituted hydrocarbon group include an alkyl group (chain alkyl group or cyclic alkyl group), an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like.
The substituted hydrocarbon group is a group in which part or all of the hydrogen atoms of the unsubstituted hydrocarbon group is substituted with a non-hydrocarbon group or an element other than hydrogen, and specifically, a CH 2 Cl group, CH 2 F
Groups, γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, aminopropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group, γ-mercaptopropyl group, trifluoropropyl group and the like. Such a hydrocarbon group (a) can be used as R'Si (OR 2 ) 3 or R'R "S used as a raw material when producing organopolysiloxane fine particles.
It is a group derived from R ′ and R ″ directly bonded to a silicon atom in the organosilicon compound represented by i (OR 3 ) 2. Such an organosilicon compound will be described later.
【0025】本発明では、このようなオルガノポリシロ
キサン微粒子中の珪素原子に直接結合した炭化水素基
(a)中の炭素の量は、5〜35重量%、好ましくは10
〜30重量%であることが望ましい。In the present invention, the hydrocarbon group directly bonded to the silicon atom in the organopolysiloxane fine particles is used.
The amount of carbon in (a) is from 5 to 35% by weight, preferably 10%.
It is desirably about 30% by weight.
【0026】炭素量が5重量%未満の場合は、充分な弾
性特性を有する微粒子が得られず、後述する10%圧縮
弾性率が900Kg/mm2を越えて高くなり、かつ平均弾性
復元率が低いオルガノポリシロキサン微粒子となること
がある。また炭素量が35重量%を越えて高い場合は、
10%圧縮弾性率が150Kg/mm2より低くなり、かつ平
均弾性復元率が低いオルガノポリシロキサン微粒子とな
ることがある。If the amount of carbon is less than 5% by weight, fine particles having sufficient elastic properties cannot be obtained, the 10% compression elastic modulus described later exceeds 900 kg / mm 2 , and the average elastic recovery rate increases. Low organopolysiloxane fine particles may result. If the carbon content is higher than 35% by weight,
In some cases, the organopolysiloxane fine particles have a 10% compression modulus lower than 150 kg / mm 2 and a low average elastic recovery.
【0027】このような炭素量の定量は、通常、原料と
して用いられるR'Si(OR2)3またはR'R"Si(OR3)
2で表される有機珪素化合物に含まれているR'および
R"の量から算出される。The determination of the amount of carbon is usually performed by using R'Si (OR 2 ) 3 or R'R "Si (OR 3 ),
It is calculated from the amounts of R ′ and R ″ contained in the organosilicon compound represented by 2 .
【0028】また本発明では、珪素原子に直接結合した
OH基(b)の量は、粒子に対して1〜8meq/g、好ましく
は2〜6meq/gであることが望ましい。OH基(b)の量
が、1meq/g未満の場合は、乾式での散布性が低下し、
8meq/gを越えると、微粒子の弾性特性が不充分になる
ことがある。このようなOH基(b)量は、示差熱分析装
置を用い、前記オルガノポリシロキサン微粒子における
100〜350℃の重量減少をOH基の脱離による水の
発生と仮定して算出される。In the present invention, the amount of the OH group (b) directly bonded to the silicon atom is desirably 1 to 8 meq / g, preferably 2 to 6 meq / g, based on the particle. When the amount of the OH group (b) is less than 1 meq / g, the sprayability in a dry system is reduced,
If it exceeds 8 meq / g, the elastic properties of the fine particles may be insufficient. The amount of the OH group (b) is calculated using a differential thermal analyzer, assuming that the weight loss of the organopolysiloxane fine particles at 100 to 350 ° C. is the generation of water due to the elimination of the OH group.
【0029】このような本発明に係るオルガノポリシロ
キサン微粒子の10%圧縮弾性率は、150〜900Kg
/mm2であり、好ましくは200〜700Kg/mm2の範囲に
あることが望ましい。The 10% compression modulus of the organopolysiloxane fine particles according to the present invention is 150 to 900 kg.
/ mm 2 , and preferably in the range of 200 to 700 kg / mm 2 .
【0030】10%圧縮弾性率が150Kg/mm2未満で
は、粒子が柔らかいために、液晶セル内部の液晶層の厚
さを均一に保持できないことがあり、また個々の粒子に
かかる圧力を減少させて粒子の変形を抑制するために散
布個数を増加させる必要が生じ、これに伴い品質および
経済性が低下することがある。また、900Kg/mm2を超
えて高い場合は前述した低温気泡が発生することがあ
る。If the 10% compression modulus is less than 150 kg / mm 2 , the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell may not be kept uniform due to the softness of the particles, and the pressure applied to each particle may be reduced. As a result, it is necessary to increase the number of sprays in order to suppress the deformation of the particles, and accordingly, quality and economic efficiency may decrease. On the other hand, when it is higher than 900 kg / mm 2 , the above-mentioned low-temperature bubbles may be generated.
【0031】なお、10%圧縮弾性率の評価方法は下記
の通りである。10%圧縮弾性率は、測定器として微小
圧縮試験機(島津製作所製 MCTM−200)を用
い、試料として粒径がDである1個の微粒子を用いて、
試料に一定の負荷速度で荷重を負荷し、圧縮変位が粒子
径の10%となるまで粒子を変形させ、10%変位時の
荷重と圧縮変位(mm)を求め、粒径および求めた圧縮荷
重、圧縮変位を次式に代入して計算によって求める。The method of evaluating the 10% compression modulus is as follows. The 10% compression modulus was measured using a micro compression tester (MCTM-200 manufactured by Shimadzu Corporation) as a measuring device, and using one fine particle having a particle size of D as a sample.
A load is applied to the sample at a constant loading speed, the particles are deformed until the compression displacement becomes 10% of the particle diameter, the load at 10% displacement and the compression displacement (mm) are obtained, and the particle size and the obtained compression load are obtained. , And the compression displacement are substituted into the following equation to determine by calculation.
【0032】K=(3/√2)×F×S-3/2×D-1/2 ここで、 K:10%圧縮弾性率(Kg/mm2) F:圧縮荷重(Kg) S:圧縮変位(mm) D:粒子径(mm) である。K = (3 / √2) × F × S −3/2 × D −1/2 where K: 10% compression modulus (Kg / mm 2 ) F: Compression load (Kg) S: Compressive displacement (mm) D: Particle diameter (mm)
【0033】本明細書では、10個の粒子について、そ
れぞれ10%圧縮弾性率を測定し、これらの平均値で粒
子の10%圧縮弾性率を評価した。また本発明に係るオ
ルガノポリシロキサン微粒子は、平均弾性復元率(Rr)m
が40〜90%であり、好ましくは70〜90%の範囲
にあることが望ましい。平均弾性復元率が40%未満の
場合は所定の液晶層を均一な厚さに保持することができ
ず、画像ムラを起こすことがある。平均弾性復元率が9
0%を超えて高いと、液晶表示装置が衝撃を受け、振動
した際などに表示ムラを起こしやすいなどの問題があ
る。In the present specification, 10% compression modulus was measured for each of 10 particles, and the average value of these values was used to evaluate the 10% compression modulus of the particles. The organopolysiloxane fine particles according to the present invention have an average elastic recovery (R r ) m
Is in the range of 40 to 90%, preferably 70 to 90%. When the average elastic recovery is less than 40%, a predetermined liquid crystal layer cannot be maintained at a uniform thickness, and image unevenness may occur. 9 average elastic recovery
If it is higher than 0%, there is a problem that the liquid crystal display device is liable to cause display unevenness when receiving a shock and vibrating.
【0034】さらに、本発明に係るオルガノポリシロキ
サン微粒子は、平均圧縮変形率(Cr)mが20〜60%で
あり、好ましくは25〜50%の範囲にあることが望ま
しい。平均圧縮変形率が20%未満の場合は、粒子が硬
すぎるために前述した低温気泡が発生することがある。
平均圧縮変形率が60%を超えて高い場合は、粒子が柔
らかいために、液晶セル内部の液晶層の厚さを均一に保
持できないことがあり、また個々の粒子にかかる圧力を
減少させて粒子の変形を抑制するために散布個数を増加
させる必要が生じ、これに伴い品質および経済性が低下
することがある。Further, the organopolysiloxane fine particles according to the present invention have an average compressive deformation (C r ) m of 20 to 60%, preferably 25 to 50%. When the average compressive deformation ratio is less than 20%, the above-mentioned low-temperature bubbles may be generated because the particles are too hard.
If the average compressive deformation rate is higher than 60%, the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell may not be kept uniform because the particles are soft, and the pressure applied to the individual particles may be reduced. It is necessary to increase the number of sprays in order to suppress the deformation of, and the quality and economy may be reduced accordingly.
【0035】平均弾性復元率および平均圧縮変形率は、
以下のようにして求められる。前記微小圧縮試験機(島
津製作所製 MCTM−200)を用い、試料として粒
径がDである1個の微粒子を用いて、試料に一定の負荷
速度で所定の荷重値(反転荷重値)まで荷重を負荷し、
粒子を変形させると、図1に示すように荷重が増加する
につれて曲線Aに従って変位がゼロから増大する。The average elastic recovery rate and the average compressive deformation rate are as follows:
It is determined as follows. Using the micro compression tester (MCTM-200 manufactured by Shimadzu Corporation), using a single fine particle having a particle size of D as a sample, load the sample at a constant load speed to a predetermined load value (reversal load value). Load,
When the particles are deformed, the displacement increases from zero according to curve A as the load increases, as shown in FIG.
【0036】次いで、上記負荷速度と同じ除荷速度で一
定の荷重値(原点用荷重値)まで除荷すると曲線Bに従
って変位は徐々に減少する。負荷時の原点用荷重値の変
位量と反転荷重値の変位量との差をL1とし、負荷時と
除荷時のそれぞれの原点用荷重値の変位量の差をL2と
すると、試料の平均弾性復元率Rrおよび圧縮変形率Cr
は、次式: Rr =〔(L1−L2)/L1〕×100 Cr =(L1/D)×100 で計算される。Next, when the load is unloaded to a constant load value (origin load value) at the same unloading speed as the above-mentioned loading speed, the displacement gradually decreases according to the curve B. When the difference between the amount of displacement of the origin load value when the load and the displacement of the inverted load value and L 1, the difference in the amount of displacement of the load and each of the origin load value at the time of unloading and L 2, the sample Average elastic recovery rate R r and compressive deformation rate C r
Is calculated by the following formula: R r = [(L 1 −L 2 ) / L 1 ] × 100 Cr = (L 1 / D) × 100
【0037】本明細書では、10個の粒子について、原
点用荷重値を0.1g、反転荷重値を1.0gとしたとき
のそれぞれの粒子の弾性復元率および圧縮変形率を上記
式に従って求め、これらの平均値で粒子の平均弾性復元
率および平均圧縮変形率を評価した。In the present specification, the elastic recovery rate and the compressive deformation rate of each of the particles when the load value for the origin is set to 0.1 g and the reversal load value is set to 1.0 g for the ten particles are determined according to the above equations. The average elastic recovery rate and average compressive deformation rate of the particles were evaluated based on these average values.
【0038】また、上記反転荷重値を越えて荷重し、粒
子が破壊した時の荷重値を圧縮強度とする。また、本発
明に係るオルガノポリシロキサン微粒子の平均粒子径
は、0.5〜50μmであり、好ましくは1〜20μm
の範囲にあることが望ましい。このような平均粒子径
は、液晶表示装置の種類、必要とする液晶層の厚さ、お
よび弾性特性を考慮して設定される。平均粒子径は走査
型電子顕微鏡写真の観察によって測定される。Further, a load exceeding the above-mentioned reversal load value and the load value when the particles are broken are defined as the compressive strength. The average particle size of the organopolysiloxane fine particles according to the present invention is 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 20 μm.
Is desirably within the range. Such an average particle diameter is set in consideration of the type of the liquid crystal display device, the required thickness of the liquid crystal layer, and the elastic characteristics. The average particle size is measured by observing a scanning electron micrograph.
【0039】また、このような粒子は、粒子径の変動係
数CV値が、5%以下、好ましくは1〜3%の範囲にあ
ることが望ましい。粒子径の変動係数が5%を超える
と、液晶層の厚さを均一に保持することができないた
め、画像ムラなどを起こすことがある。なお、このよう
な変動係数CV値は、下記式によって計算される。It is desirable that such particles have a coefficient of variation CV of the particle diameter of 5% or less, preferably 1 to 3%. If the variation coefficient of the particle size exceeds 5%, the thickness of the liquid crystal layer cannot be kept uniform, which may cause image unevenness. Note that such a variation coefficient CV value is calculated by the following equation.
【0040】CV=(粒子径標準偏差(σ)/平均粒子径
(Dn))×100CV = (standard deviation of particle size (σ) / average particle size)
(Dn)) × 100
【0041】[0041]
【数1】 (Equation 1)
【0042】Di:個々の粒子の粒子径 さらにまた、オルガノポリシロキサン微粒子の凝集率
は、5%以下、好ましくは3%以下であることが望まし
い。このような凝集率は、走査型電子顕微鏡(SEM)
写真の観察により、複数の粒子が凝集した粒子も1個の
粒子として、合計100個の粒子中の凝集粒子の割合で
表わされる。凝集率が5%より大きいと均一に散布する
ことが困難となり、散布効率も低下し、均一なセルギャ
ップのセルが得られないことがある。Di: Particle size of individual particles Further, the agglomeration rate of the organopolysiloxane fine particles is desirably 5% or less, preferably 3% or less. Such agglomeration rate can be measured by a scanning electron microscope (SEM).
According to the observation of the photograph, a particle obtained by aggregating a plurality of particles is also represented as one particle, which is represented by a ratio of agglomerated particles in a total of 100 particles. If the agglomeration rate is more than 5%, it becomes difficult to uniformly spray, the spraying efficiency decreases, and cells with a uniform cell gap may not be obtained.
【0043】[オルガノポリシロキサン微粒子の製造方
法]次に、本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒子
の製造方法について説明する。[Method for Producing Organopolysiloxane Fine Particles] Next, a method for producing the organopolysiloxane fine particles according to the present invention will be described.
【0044】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子は、以下の工程で製造される。(a)シード粒子分散液の調製工程 本発明では、まず、式(1):Si(OR1)4で表される有機
ケイ素化合物(a-1)と、式(2):R'Si(OR2)3で表され
る有機ケイ素化合物(a-2)との混合物を、水と有機溶媒
との混合溶媒中で加水分解、縮重合することによりシー
ド粒子の分散液を調製する。The organopolysiloxane fine particles according to the present invention are produced by the following steps. (a) Step of preparing seed particle dispersion In the present invention, first, an organosilicon compound (a-1) represented by the formula (1): Si (OR 1 ) 4 and a formula (2): R′Si ( A mixture of the organosilicon compound (a-2) represented by OR 2 ) 3 is hydrolyzed and polycondensed in a mixed solvent of water and an organic solvent to prepare a dispersion of seed particles.
【0045】このようなシード粒子の調製法としては、
従来公知の方法が採用できる。上記式中のR1およびR2
は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基
およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を
表す。有機ケイ素化合物(a-1)と、有機ケイ素化合物(a-
2)とを、水と有機溶媒との混合溶媒中で同時に加水分解
し、これら加水分解物を共縮重合させる点から、互いに
同一の基であることが好ましい。As a method for preparing such seed particles,
A conventionally known method can be adopted. R 1 and R 2 in the above formula
Represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from an alkyl group, an alkoxyalkyl group and an acyl group. The organosilicon compound (a-1) and the organosilicon compound (a-
And 2) are preferably the same group from the viewpoint that they are simultaneously hydrolyzed in a mixed solvent of water and an organic solvent, and co-condensation-polymerizes these hydrolysates.
【0046】また、上記式中のR'は、置換または非置
換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の炭化水素
基を表す。このうち、非置換炭化水素基としては、アル
キル基(鎖状アルキル基または環状アルキル基)、アル
ケニル基、アラルキル基、アリール基などが挙げられ、
置換炭化水素基とは、炭化水素の水素原子の一部または
全部が非炭化水素基または水素以外の元素で置換された
基で、具体的にはCH2Cl基、CH2F基、クロロメチ
ル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキ
シプロピル基、アミノプロピル基、3,4-エポキシシクロ
ヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基、トリフ
ルオロプロピル基などが挙げられる。R ′ in the above formula represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Among them, examples of the unsubstituted hydrocarbon group include an alkyl group (chain alkyl group or cyclic alkyl group), an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like.
The substituted hydrocarbon group is a group in which part or all of the hydrogen atoms of a hydrocarbon are substituted with a non-hydrocarbon group or an element other than hydrogen, specifically, a CH 2 Cl group, a CH 2 F group, a chloromethyl group. Groups, γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, aminopropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group, γ-mercaptopropyl group, trifluoropropyl group and the like.
【0047】有機ケイ素化合物(a-1)の具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラプロポキシシラン、テトラメチルメトキシシラン、
テトラエチルエトキシシラン、テトラアセトキシシラン
などが挙げられる。Specific examples of the organosilicon compound (a-1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetramethylmethoxysilane,
Examples include tetraethylethoxysilane and tetraacetoxysilane.
【0048】有機ケイ素化合物(a-2)の具体例として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリス
(メトキシエトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシランなど
が挙げられる。Specific examples of the organosilicon compound (a-2) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltris (methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane and the like can be mentioned.
【0049】工程(a)では、有機ケイ素化合物(a-1)と有
機ケイ素化合物(a-2)との混合比率は、有機ケイ素化合
物(a-1)1モル当り、有機ケイ素化合物(a-2)0.1〜3.
0モルが混合されていることが好ましい。In the step (a), the mixing ratio of the organosilicon compound (a-1) and the organosilicon compound (a-2) is determined based on 1 mol of the organosilicon compound (a-1). 2) 0.1 to 3.
Preferably, 0 moles are mixed.
【0050】工程(a)では、溶媒として水と有機溶媒と
の混合溶媒が用いらる。水は、有機溶媒100重量部に
対し、10〜100重量部の割合で含まれていることが
好ましい。In the step (a), a mixed solvent of water and an organic solvent is used as a solvent. It is preferable that water is contained at a ratio of 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the organic solvent.
【0051】有機溶媒としては、水と相溶性の有機溶媒
であれば特に制限されることなく使用することが可能で
あり、例えば、アルコール類、グリコール類、グリコー
ルエーテル類、ケトン類などから選ばれる1種または2
種以上が用いられる。As the organic solvent, any organic solvent compatible with water can be used without any particular limitation. For example, it is selected from alcohols, glycols, glycol ethers, ketones and the like. One or two
More than one species is used.
【0052】工程(a)では、有機ケイ素化合物(a-1)およ
び(a-2)の加水分解用触媒として溶媒中にアンモニアな
どのアルカリが添加され、これら化合物の加水分解中に
水と有機溶媒との混合溶媒がアルカリ性に保持されてい
ることが好ましい。In step (a), an alkali such as ammonia is added to a solvent as a catalyst for hydrolysis of the organosilicon compounds (a-1) and (a-2). It is preferable that the mixed solvent with the solvent is kept alkaline.
【0053】有機ケイ素化合物(a-1)および(a-2)は、水
と有機溶媒との混合溶媒中で同時に加水分解し、これら
の加水分解物が共重縮合してシード粒子が調製される
が、水と有機溶媒との混合溶媒がアルカリ性に保持され
ていると、これらの反応が促進される。The organosilicon compounds (a-1) and (a-2) are simultaneously hydrolyzed in a mixed solvent of water and an organic solvent, and these hydrolysates are copolycondensed to prepare seed particles. However, when the mixed solvent of water and the organic solvent is kept alkaline, these reactions are promoted.
【0054】上記反応温度は、約10〜20℃であるこ
とが好ましい。また、上記のようにして得られるシード
粒子分散液中のシード粒子の濃度は、SiO2換算で約
0.05〜5重量%であることが好ましい。The above reaction temperature is preferably about 10 to 20 ° C. The concentration of the seed particles in the seed particle dispersion liquid obtained as described above is preferably about 0.05 to 5% by weight in terms of SiO 2 .
【0055】また、得られるシード粒子の平均粒径は
0.05〜2.0μmであることが好ましい。(b)シード粒子の安定化工程 本発明では、工程(a)で得られたシード粒子分散液に、
アルカリを添加してシード粒子を安定化させる(なお、
本明細書では、このようにアルカリを添加して安定化さ
れたシード粒子の分散液をヒールゾルと称することがあ
る)。The average particle size of the obtained seed particles is preferably 0.05 to 2.0 μm. (b) seed particle stabilization stepIn the present invention, the seed particle dispersion obtained in step (a),
Stabilize the seed particles by adding alkali (note that
In the present specification, the dispersion liquid of the seed particles stabilized by adding the alkali is sometimes referred to as a heel sol).
【0056】このようにアルカリを加えて分散液の安定
化を図ると、シード粒子同士の凝集による沈殿を防止で
きる。なお、シード粒子同士が凝集していると、後工程
(c)で、凝集粒子の接合部分に有機ケイ素化合物の加水
分解物が付着し、接合部分から粒子成長することがあ
り、均一な粒子径を有する粒子が得られないことがあ
る。When the dispersion is stabilized by adding an alkali as described above, precipitation due to aggregation of the seed particles can be prevented. Note that if the seed particles are aggregated,
In (c), the hydrolyzate of the organosilicon compound adheres to the joints of the aggregated particles, and the particles may grow from the joints, so that particles having a uniform particle diameter may not be obtained.
【0057】分散液の安定化を図るために添加されるア
ルカリとしては、アンモニアガス、アンモニア水、水酸
化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物、第四級アン
モニウム塩、アミン類等が用いられる。これらは、単独
であるいは組み合わせて使用することができる。また、
分散液の安定化を図るため、分散液に超音波を照射して
もよい。さらに、安定化した分散液は、陽イオン交換樹
脂と接触させてアルカリおよびアンモニアを低減するこ
とが望ましく、このときのアルカリは、最終的に製造さ
れる微粒子中のアルカリ濃度が100ppm以下、好ま
しくは50ppm以下、特に好ましくは10ppm以下
となるように低減されていることが望ましい。As the alkali added to stabilize the dispersion, ammonia gas, aqueous ammonia, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, quaternary ammonium salts, amines and the like are used. These can be used alone or in combination. Also,
In order to stabilize the dispersion, the dispersion may be irradiated with ultrasonic waves. Furthermore, it is desirable that the stabilized dispersion is brought into contact with a cation exchange resin to reduce alkali and ammonia, and the alkali at this time has an alkali concentration in the finally produced fine particles of 100 ppm or less, preferably It is desirable that the content be reduced to 50 ppm or less, particularly preferably 10 ppm or less.
【0058】(c)シード粒子の成長工程 次いで、上記工程(b)で得られたヒールゾルに、アルカ
リと下記式(3)または(4)で表される有機ケイ素化合物の
1種または2種以上、および必要に応じて下記式(5)で
表されるアセチルアセトナトキレート化合物を加えて加
水分解・縮重合することにより、シード粒子を成長させ
て任意の粒径を有する球状微粒子の分散液を調製する。 (C) Step of Growing Seed Particles Next, the heel sol obtained in the above step (b) is added to an alkali and one or more kinds of organosilicon compounds represented by the following formula (3) or (4). , And, if necessary, by adding an acetylacetonato chelate compound represented by the following formula (5) and subjecting it to hydrolysis and polycondensation, to grow seed particles to form a dispersion of spherical fine particles having an arbitrary particle size. Prepare.
【0059】式(3):R'Si(OR2)3 (式(3)中、R2、R'は、前記と同様の基であり、式(2)
で表される有機ケイ素化合物を工程(c)では、有機ケイ
素化合物(c-1)という。) 式(4):R'R"Si(OR3)2 (式(4)中、R'、R"は、互いに同一であっても異なっ
ていてもよく、置換または非置換の炭化水素基から選ば
れる炭素数1〜10の基であり、R3は、前記R1と同様
の基であり、式(4)で表される有機ケイ素化合物を、有
機ケイ素化合物(c-2)という。) 式(5):Formula (3): R′Si (OR 2 ) 3 (In the formula (3), R 2 and R ′ are the same groups as described above, and the formula (2)
In the step (c), the organosilicon compound represented by is referred to as an organosilicon compound (c-1). Formula (4): R′R ″ Si (OR 3 ) 2 (In Formula (4), R ′ and R ″ may be the same or different, and each represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. And R 3 is the same group as R 1, and the organosilicon compound represented by the formula (4) is referred to as an organosilicon compound (c-2). Equation (5):
【0060】[0060]
【化3】 Embedded image
【0061】(式(5)中、R4は、プロピルまたはブチル
基であり、Yは、メチル基、メトキシ基、エチル基およ
びエトキシ基から選ばれる1種の有機基であり、Mは、
周期律表第2〜15族から選ばれる元素であり、また、
mは0〜3の整数であり、nは1〜4の整数であり、m
+nは2〜4の整数である。) この工程(c)で用いられる有機ケイ素化合物(c-1)および
(c-2)中のR'、有機ケイ素化合物(c-2)中のR"は、いず
れも炭素原子数が大きくなると、有機ケイ素化合物(c-
1)および/または(c-2)をシード粒子分散液に添加した
際にシード粒子分散液にゲルが生じ易く、また、シード
粒子の成長が困難になる。(In the formula (5), R 4 is a propyl or butyl group, Y is one kind of an organic group selected from a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group, and M is
An element selected from Groups 2 to 15 of the periodic table,
m is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4;
+ N is an integer of 2 to 4. ) The organosilicon compound (c-1) used in this step (c) and
When R ′ in (c-2) and R ″ in the organosilicon compound (c-2) both have a large number of carbon atoms, the organosilicon compound (c-
When 1) and / or (c-2) are added to the seed particle dispersion, a gel is easily generated in the seed particle dispersion, and the growth of the seed particles becomes difficult.
【0062】このため、R'およびR"は、いずれもメチ
ル基、ビニル基、トリフルオロメチル基、フェニルアミ
ノ基などの炭素原子数の少ない基であることが好まし
い。有機ケイ素化合物(c-1)としては、前記工程(a)で用
いられる有機ケイ素化合物(a-2)を用いることができ
る。Accordingly, R ′ and R ″ are each preferably a group having a small number of carbon atoms such as a methyl group, a vinyl group, a trifluoromethyl group, a phenylamino group, etc. The organosilicon compound (c-1) )), The organosilicon compound (a-2) used in the step (a) can be used.
【0063】有機ケイ素化合物(c-2)の具体例として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、ジメチルアセトキシシランなどが挙げられ
る。Specific examples of the organosilicon compound (c-2) include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, dimethylacetoxysilane and the like. Is mentioned.
【0064】また、上記式(5)で表されるアセチルアセ
トナトキレート化合物の具体例としては、ジブトキシ−
ビスアセチルアセトナトジルコニウム、トリブトキシ−
モノアセチルアセトナトジルコニウム、トリイソプロポ
キシ−モノアセチルアセトナトチタン、ジブトキシ−ビ
スアセチルアセトナトチタン、ビスアセチルアセトナト
鉛、トリスアセチルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビスア
セチルアセトハフニウム、トリブトキシ−モノアセチル
アセトナトハフニウムなどが挙げられる。As a specific example of the acetylacetonato chelate compound represented by the above formula (5), dibutoxy-
Bisacetylacetonatozirconium, tributoxy
Monoacetylacetonatozirconium, triisopropoxy-monoacetylacetonatotitanium, dibutoxy-bisacetylacetonatotitanium, lead bisacetylacetonato, trisacetylacetonatoiron, dibutoxy-bisacetylacetohafnium, tributoxy-monoacetylacetonatohafnium And the like.
【0065】工程(c)では、シード粒子分散液に有機ケ
イ素化合物(c-2)のみを添加してもよいが、少なくとも
約50モル%以上の有機ケイ素化合物(c-1)を添加する
ことが好ましい。In the step (c), only the organosilicon compound (c-2) may be added to the seed particle dispersion, but at least about 50 mol% or more of the organosilicon compound (c-1) should be added. Is preferred.
【0066】また、工程(c)では、上記(3)〜(5)の化合
物の他に、前述した式(1):Si(OR 1)4で表される有機
ケイ素化合物を少量添加してもよい。上記工程(c)で、
ヒールゾルに前記化合物を添加する際、化合物の添加速
度が速すぎると、ヒールゾル中でシード粒子同士が凝集
したり、あるいはシード粒子の成長が不均一になり、最
終的に粒径分布がシャープなオルガノポリシロキサン微
粒子が得られないことがある。このため、化合物の添加
速度は、分散媒に含まれている水1g当り0.001〜
0.05g/時間とすることが好ましい。In the step (c), the compound of the above (3) to (5)
In addition to the product, the above formula (1): Si (OR 1)FourOrganic represented by
A small amount of a silicon compound may be added. In the above step (c),
When adding the compound to the heel sol, the addition speed of the compound
If the temperature is too fast, the seed particles will aggregate in the heel sol
Or the seed particles grow unevenly,
An organopolysiloxane fine particle with a sharp particle size distribution
Particles may not be obtained. Therefore, the addition of compounds
The rate is 0.001 to 1 g of water contained in the dispersion medium.
It is preferably 0.05 g / hour.
【0067】本発明では、工程(c)において、シード粒
子分散液のpHを6〜9の範囲に維持しながら、前記化
合物を添加してシード粒子を成長させる。分散液のpH
が6未満、または9を超えて高い場合は、得られた微粒
子の散布性が低下することがある。In the present invention, in the step (c), the compound is added to grow the seed particles while maintaining the pH of the seed particle dispersion in the range of 6 to 9. Dispersion pH
Is smaller than 6 or higher than 9, the dispersibility of the obtained fine particles may be reduced.
【0068】このようなpHの調整には、通常、アンモ
ニアなどのアルカリが用いられる。本発明では、とく
に、このような成長段階でのpHの変動を、化合物添加
初期のpHに対して、±30%、好ましくは±10%の
範囲にすることが望ましい。このため、シード粒子分散
液に、前記化合物を添加する際、アルカリ水溶液を同時
に、かつ連続的に添加することが望ましい。For such pH adjustment, an alkali such as ammonia is usually used. In the present invention, in particular, it is desirable that such a fluctuation in pH at the growth stage be in a range of ± 30%, preferably ± 10% with respect to the pH at the initial stage of compound addition. For this reason, when adding the compound to the seed particle dispersion, it is desirable to simultaneously and continuously add an alkaline aqueous solution.
【0069】このようにしてシード粒子分散液にアルカ
リと上記式(3)または(4)で表される化合物の1種または
2種以上、および必要に応じて上記式(5)を添加する
と、これらの化合物が加水分解し、次いでこの加水分解
物あるいは加水分解物同士が縮重合したものが、シード
粒子表面に重縮合して積層し、これによりシード粒子が
成長する。As described above, when the alkali and one or more of the compounds represented by the above formula (3) or (4) and, if necessary, the above formula (5) are added to the seed particle dispersion, These compounds are hydrolyzed and then the hydrolysates or hydrolysates are polycondensed on the surface of the seed particles to be laminated, whereby the seed particles grow.
【0070】工程(c)の反応温度は、上記工程(a)におけ
る反応温度よりも低く、好ましくは約−10〜20℃の
範囲にあることが望ましい。(d)熟成工程 次いで、前記工程(c)で得られた微粒子分散液を、工程
(c)の温度と同じ温度、あるいは高い温度に維持して球
状微粒子を熟成する。この工程によって、得られる微粒
子の粒子径がさらに均一となる。熟成時の温度および時
間は、約20〜90℃、好ましくは50〜80℃の温度
で、約0.5〜24時間維持することが好ましい。The reaction temperature in step (c) is lower than the reaction temperature in step (a), and is preferably in the range of about -10 to 20 ° C. (d) aging step Then, the fine particle dispersion obtained in the step (c) is subjected to a step
The spherical fine particles are aged while maintaining the same temperature as (c) or a higher temperature. By this step, the particle diameter of the obtained fine particles becomes more uniform. The aging temperature and time are preferably maintained at a temperature of about 20 to 90 ° C, preferably 50 to 80 ° C, for about 0.5 to 24 hours.
【0071】熟成温度が20℃未満では微小粒子径の粒
子が新たに生成したり、またシリカ成分が充分析出しな
いために溶解して残留するシリカ成分が多くなり、単分
散した粒子が得にくくなることがある。熟成温度が90
℃以上では、粒子同士が凝集したり、さらには溶着した
粒子が生成することがある。When the aging temperature is lower than 20 ° C., particles having a fine particle diameter are newly formed, and since the silica component is not sufficiently precipitated, a large amount of the silica component remains after being dissolved, making it difficult to obtain monodispersed particles. Sometimes. Aging temperature is 90
If the temperature is higher than ° C., the particles may aggregate with each other or may form fused particles.
【0072】熟成後の球状微粒子は、遠心分離法などで
球状微粒子分散液から分離され、必要に応じて乾燥され
る。(e)水分含有雰囲気処理工程 分離後、球状微粒子を水分含有雰囲気下で加熱処理す
る。この時の加熱温度は100〜600℃、好ましくは
150〜500℃の範囲にあることが好ましい。The matured spherical fine particles are separated from the spherical fine particle dispersion by a centrifugation method or the like, and dried if necessary. (e) Water-containing atmosphere treatment step After the separation, the spherical fine particles are subjected to a heat treatment in a water-containing atmosphere. The heating temperature at this time is preferably in the range of 100 to 600C, preferably 150 to 500C.
【0073】加熱温度が、100℃未満では、微粒子の
弾性が低下することがあり、加熱温度が600℃を越え
ると、微粒子の散布性が低下することがある。また、水
分含有雰囲気としては、水分を含む空気および/または
不活性ガスなどが用いられるが、このときの水分の割合
は、相対湿度で20〜90%の範囲が好ましく、特に好
ましくは50〜80%の範囲にあることが望ましい。If the heating temperature is lower than 100 ° C., the elasticity of the fine particles may decrease, and if the heating temperature exceeds 600 ° C., the dispersibility of the fine particles may decrease. As the moisture-containing atmosphere, air containing moisture and / or an inert gas is used, and the proportion of moisture at this time is preferably in the range of 20 to 90% in terms of relative humidity, and particularly preferably 50 to 80%. % Is desirable.
【0074】このような水分含有雰囲気処理に際して、
球状微粒子中のオルガノポリシロキサンの重縮合を促
進、完了させるため、必要に応じて球状粒子を焼成した
り、あるいは該球状微粒子に紫外線などの電磁波を照射
するなどの処理を行ってもよい。In such a moisture-containing atmosphere treatment,
In order to promote and complete the polycondensation of the organopolysiloxane in the spherical fine particles, if necessary, the spherical particles may be calcined, or the spherical fine particles may be irradiated with electromagnetic waves such as ultraviolet rays.
【0075】以上のような工程を経ることにより、粒子
内に、珪素原子に直接結合した炭化水素基(a)と、珪素
原子に直接結合したOH基(b)とを有するポリシロキサ
ンを主成分とし、前記(i)〜(vi)の特徴を有するオルガ
ノポリシロキサン微粒子を製造することができる。Through the steps described above, polysiloxane having a hydrocarbon group (a) directly bonded to a silicon atom and an OH group (b) directly bonded to a silicon atom is contained in the particles as a main component. Then, organopolysiloxane fine particles having the characteristics (i) to (vi) can be produced.
【0076】液晶表示装置 最後に、本発明に係る液晶表示装置について具体的に説
明する。Finally, the liquid crystal display device according to the present invention will be specifically described.
【0077】本発明に係る液晶表示装置は、一対の電極
を備えた液晶セルを有し、前記電極間に前記オルガノポ
リシロキサン微粒子がスペーサーとして介在しているこ
とを特徴としている。The liquid crystal display device according to the present invention has a liquid crystal cell having a pair of electrodes, wherein the organopolysiloxane fine particles are interposed as spacers between the electrodes.
【0078】上記液晶セルは、本発明に係るオルガノポ
リシロキサン微粒子が介在し、該微粒子により液晶セル
の電極間距離が一定に保持されていることを除いて、公
知の液晶セルと同様に構成されている。The liquid crystal cell has the same structure as a known liquid crystal cell except that the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are interposed and the distance between the electrodes of the liquid crystal cell is kept constant by the fine particles. ing.
【0079】本発明に係る液晶表示装置では、オルガノ
ポリシロキサン微粒子が、液晶セルの電極間スペーサー
として、電極面全面にわたって介在していてもよいが、
電極間周縁部の接着剤層中に介在していてもよい。In the liquid crystal display device according to the present invention, organopolysiloxane fine particles may be interposed as spacers between the electrodes of the liquid crystal cell over the entire electrode surface.
It may be interposed in the adhesive layer at the peripheral portion between the electrodes.
【0080】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサーとして用いると、散布
個数が少なくてすむとともに、電極面あるいは保護膜な
どの損傷を低減できる。さらに、本発明に係るオルガノ
ポリシロキサン微粒子を用いると、スペーサー粒子の圧
縮変形が小さいことに起因して発生する液晶セル内部液
晶層の厚さの不均一化、および液晶セル内部で液晶層の
熱膨張係数とスペーサーの熱膨張係数とが異なるために
発生する低温気泡を低減できる。When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the number of sprays can be reduced, and damage to the electrode surface or the protective film can be reduced. Further, when the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used, the thickness of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell caused by the small compression deformation of the spacer particles becomes nonuniform, and the heat of the liquid crystal layer inside the liquid crystal cell is reduced. Low-temperature bubbles generated due to the difference between the expansion coefficient and the thermal expansion coefficient of the spacer can be reduced.
【0081】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサーとして用いる場合、必
要とされるセルギャップの大きさ、均一性などに応じて
オルガノポリシロキサン微粒子の粒径およびCV値が選
択される。このように電極間スペーサーとして用いる場
合、特に粒径の均一性が重要で、その指標であるCV値
は、5%以下、特に1〜3%の範囲であることが望まし
い。When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the particle size and CV value of the organopolysiloxane fine particles are selected according to the required cell gap size and uniformity. Is done. When used as an interelectrode spacer in this way, the uniformity of the particle size is particularly important, and the CV value as an index thereof is desirably 5% or less, particularly preferably in the range of 1 to 3%.
【0082】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサーとして用いる場合、オ
ルガノポリシロキサン微粒子を一方の電極面(電極面上
に保護膜が形成されている場合には保護膜の表面)に湿
式法または乾式法で均一に散布し、次いで一方の電極面
(または保護膜の表面)に散布されたオルガノポリシロ
キサン微粒子上に他方の電極面(または保護膜の表面)
を載置して重ね合わせ、これにより形成されたセルギャ
ップ中に液晶材料を充填し、両電極面の周縁部をシール
用樹脂で貼り合わせ、密閉することによって、本発明に
係る液晶表示装置で用いられる液晶セルが得られる。こ
の場合、シール用樹脂中に本発明に係るオルガノポリシ
ロキサン微粒子が混合されていてもよい。When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the organopolysiloxane fine particles are applied to one of the electrode surfaces (if a protective film is formed on the electrode surface, the surface of the protective film is protected). ) Is uniformly dispersed by a wet method or a dry method, and then on the organopolysiloxane fine particles dispersed on one electrode surface (or the surface of the protective film), and on the other electrode surface (or the surface of the protective film).
The liquid crystal material is filled in the cell gap formed by this, and the peripheral portions of both electrode surfaces are bonded with a sealing resin, and sealed, thereby providing a liquid crystal display device according to the present invention. The liquid crystal cell used is obtained. In this case, the organopolysiloxane fine particles according to the present invention may be mixed in the sealing resin.
【0083】また、本発明に係る液晶表示装置で用いら
れる液晶セルは、本発明に係るオルガノポリシロキサン
微粒子が混合されているシール用樹脂を一方の電極面
(または保護膜の表面)の周縁部に液晶材料の注入口を
除いて塗布し、次いで他方の電極面(または保護膜の表
面)を載置して重ね合わせ、液晶材料の注入口から液晶
材料を注入した後、この液晶材料の注入口をシール用樹
脂で密閉する方法でも得られる。In the liquid crystal cell used in the liquid crystal display device according to the present invention, the sealing resin in which the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are mixed is applied to the periphery of one electrode surface (or the surface of the protective film). Is applied except for the liquid crystal material injection port, and then the other electrode surface (or the surface of the protective film) is placed and overlapped. After the liquid crystal material is injected from the liquid crystal material injection port, the liquid crystal material is injected. It can also be obtained by sealing the inlet with a sealing resin.
【0084】[0084]
【発明の効果】本発明によれば、凝集率が低く粒度分布
が極めてシャープであって、しかも圧縮弾性率、弾性復
元率および圧縮変形率が高いオルガノポリシロキサン微
粒子が提供される。According to the present invention, organopolysiloxane fine particles having a low agglomeration rate, a very sharp particle size distribution, and a high compression modulus, elastic recovery rate and compression deformation rate are provided.
【0085】このようなオルガノポリシロキサン微粒子
は、疎水性基と併せて親水性基を有するために、特に水
などを含む溶媒にも均一に分散し、このため散布性に優
れたオルガノポリシロキサン微粒子が提供される。Since such organopolysiloxane fine particles have a hydrophilic group in addition to a hydrophobic group, they are uniformly dispersed in a solvent containing water and the like in particular, and thus have excellent dispersibility. Is provided.
【0086】また、特に親水性基を有するために乾式散
布では微粒子の帯電が抑制され、電極面あるいは保護膜
以外の部分に付着することの少ないオルガノポリシロキ
サン微粒子が提供される。In addition, since the fine particles have a hydrophilic group, the charge of the fine particles is suppressed by the dry spraying, and the organopolysiloxane fine particles which are less likely to adhere to portions other than the electrode surface or the protective film are provided.
【0087】本発明に係るオルガノポリシロキサン微粒
子を液晶セルの電極間スペーサーとして用いると、該微
粒子の粒度分布がシャープであるので、液晶セルの電極
間に形成された液晶層の厚さを均一に保持することがで
きる。また、圧縮弾性率が高いので単位面積あたりの散
布個数が少なくすることができる。さらに、該微粒子の
弾性復元率および圧縮変形率が高いため、液晶セル内部
に発生する低温気泡を防止し、画像ムラなどのない高性
能の液晶表示装置を提供できる。When the organopolysiloxane fine particles according to the present invention are used as a spacer between electrodes of a liquid crystal cell, the particle size distribution of the fine particles is sharp, so that the thickness of the liquid crystal layer formed between the electrodes of the liquid crystal cell is made uniform. Can be held. Also, since the compression modulus is high, the number of sprays per unit area can be reduced. Further, since the fine particles have a high elastic recovery rate and a high compressive deformation rate, low-temperature bubbles generated inside the liquid crystal cell can be prevented, and a high-performance liquid crystal display device without image unevenness can be provided.
【0088】[0088]
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0089】[0089]
【実施例1】[シード粒子の調製]メチルトリメトキシ
シラン8gと、テトラメトキシシラン8gとを、エタノ
ール350gに溶解した溶液(A液)を調製した。他
方、純水6gと、28%アンモニア水78gと、エタノ
ール350gの混合溶液(B液)を調製した。Example 1 [Preparation of Seed Particles] A solution (solution A) was prepared by dissolving 8 g of methyltrimethoxysilane and 8 g of tetramethoxysilane in 350 g of ethanol. On the other hand, a mixed solution (solution B) of 6 g of pure water, 78 g of 28% ammonia water, and 350 g of ethanol was prepared.
【0090】上記A液とB液とを混合し、20℃で3時
間攪拌し、アルコキシシランを加水分解・縮重合を行
い、シード粒子分散液を調製した。得られたシード粒子
分散液に、濃度1重量%の水酸化カリウム水溶液3.3
gを添加して、シード粒子の安定化(ヒールゾル化)を
行った。このときのpHは12であった。このシード粒
子分散液中のシード粒子の平均粒径は、遠心式粒度分布
装置(堀場製作所製、CAPA-500)で測定したところ、
0.15μmであった。The above solution A and solution B were mixed and stirred at 20 ° C. for 3 hours to carry out hydrolysis and polycondensation of alkoxysilane to prepare a seed particle dispersion. 3.3% aqueous 1% by weight potassium hydroxide solution was added to the resulting seed particle dispersion.
g was added to stabilize the seed particles (a heel sol). The pH at this time was 12. The average particle size of the seed particles in this seed particle dispersion was measured using a centrifugal particle size distribution analyzer (CAPA-500, manufactured by Horiba, Ltd.).
It was 0.15 μm.
【0091】[シード粒子の成長]得られたシード粒子
分散液が160gになるまでシード粒子分散液を加熱濃
縮した後、陽イオン交換樹脂10ccを用いてアルカリお
よびアンモニアの量を低減させた。このシード粒子分散
液に純水5000gおよびブタノール250gを加え
た。こうして希釈されたシード粒子分散液を0℃に冷却
し、この温度を保持しながら、このシード粒子分散液に
メチルトリメトキシシラン500gを0.005g/純
水-g・時間の添加速度で滴下した。この際メチルトリメ
トキシシランとともに、濃度0.028%のアンモニア
水溶液を約0.012g/純水-g・時間の添加速度で添
加し、かつシード粒子分散液のpHを8.5に維持しな
がら、メチルトリメトキシシランをシード粒子上に加水
分解・縮重合させてシード粒子を成長させた。[Growth of Seed Particles] The seed particle dispersion was heated and concentrated until the obtained seed particle dispersion reached 160 g, and then the amounts of alkali and ammonia were reduced using 10 cc of a cation exchange resin. 5000 g of pure water and 250 g of butanol were added to the seed particle dispersion. The seed particle dispersion thus diluted was cooled to 0 ° C., and while maintaining this temperature, 500 g of methyltrimethoxysilane was added dropwise to the seed particle dispersion at a rate of 0.005 g / pure water-g · hour. . At this time, together with methyltrimethoxysilane, an aqueous ammonia solution having a concentration of 0.028% was added at an addition rate of about 0.012 g / pure water-g · hour, and while maintaining the pH of the seed particle dispersion at 8.5. Then, methyltrimethoxysilane was hydrolyzed and polycondensed on the seed particles to grow the seed particles.
【0092】その後、20℃で2時間攪拌した後、さら
に80℃に加温して5時間熟成を行った。熟成後、微粒
子を液から分離し、乾燥した後、相対湿度50%の空気
を供給しながら、250℃で加熱処理した。After stirring at 20 ° C. for 2 hours, the mixture was further heated to 80 ° C. and aged for 5 hours. After aging, the fine particles were separated from the liquid, dried, and heated at 250 ° C. while supplying air at a relative humidity of 50%.
【0093】得られたオルガノポリシロキサン微粒子に
ついて、珪素と直接結合したOH基の量および炭素の
量、平均粒径、CV値、10%圧縮弾性率、平均弾性復
元率 (Rr)m および平均圧縮変形率 (Cr)m を測定し
た。With respect to the obtained organopolysiloxane fine particles, the amount of OH groups and carbon directly bonded to silicon, the average particle size, the CV value, the 10% compression modulus, the average elastic recovery (R r ) m and the average The compression deformation rate (C r ) m was measured.
【0094】OH基の量は、前記したように示差熱分析
による100〜350℃の温度範囲における重量減少から算出
した。その結果、OH基量は、粒子に対して、6重量%
(5.3meq/g)であった。また炭素量は、化学分析等によっ
て正確に定量できないため、製造に使用したアルコキシ
シランの量から、以下のように計算して算出した。The amount of the OH group was calculated from the weight loss in the temperature range of 100 to 350 ° C. by the differential thermal analysis as described above. As a result, the OH group content was 6% by weight based on the particles.
(5.3 meq / g). In addition, since the amount of carbon cannot be accurately determined by chemical analysis or the like, it was calculated from the amount of alkoxysilane used in the production as follows.
【0095】実施例1の場合、シード粒子の製造工程
で、アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン
8gとテトラメトキシシラン8gを使用し、粒子成長工
程ではメチルトリメトキシシラン500gを使用してい
るので、炭素量は以下のように算出される。In the case of Example 1, since 8 g of methyltrimethoxysilane and 8 g of tetramethoxysilane were used as alkoxysilane in the production process of seed particles and 500 g of methyltrimethoxysilane were used in the particle growth process, The amount is calculated as follows.
【0096】シード粒子中の珪素原子に直接結合した
炭化水素基中の炭素量:CH3-Si-(OCH3)3 8gは、CH3-S
iO3/2に換算すると、3.94gとなり、炭素量は、3.94×1
2/(15+28+24) =0.71gとなる。Amount of carbon in hydrocarbon groups directly bonded to silicon atoms in seed particles: 8 g of CH 3 —Si— (OCH 3 ) 3 is converted to CH 3 —S
When converted to iO 3/2 , it is 3.94 g, and the carbon content is 3.94 x 1
2 / (15 + 28 + 24) = 0.71g.
【0097】Si-(OCH3)4 8gは、SiO2に換算すると、
3.16gとなり、炭素量は0gである。 粒子成長時に使用されるメチルトリメトキシシラン中
の炭素量:CH3-Si-(OCH3)3 500gは、CH3-SiO3/2に換算
すると、246.32gとなり、炭素量は、246.32×12/(15+2
8+24) =44.11 gとなる。When 8 g of Si— (OCH 3 ) 4 is converted into SiO 2 ,
3.16 g, and the carbon content is 0 g. Carbon amount in methyltrimethoxysilane used during grain growth: 500 g of CH 3 —Si— (OCH 3 ) 3 is 246.32 g in terms of CH 3 —SiO 3/2 , and the carbon amount is 246.32 × 12 / (15 + 2
8 + 24) = 44.11 g.
【0098】全炭素量は、シード粒子中の炭素量と成長
時の使用されたメチルトリメトキシシラン中の炭素量と
の合計量であり、0.71+44.11=44.82gとなる。この全
炭素量は、全微粒子重量(3.94+3.16+246.32=253.42g)
に対して、17.7重量%となる。前記測定したOH基
含有量(H2O換算で4.8重量%)を考慮し、粒子中
の珪素と直接結合した炭素の量は、(1-0.048)×0.177=
0.169であり、すなわち16.9重量%である。The total carbon amount is the total amount of the carbon amount in the seed particles and the carbon amount in the methyltrimethoxysilane used during growth, and is 0.71 + 44.11 = 44.82 g. This total carbon amount is the total fine particle weight (3.94 + 3.16 + 246.32 = 253.42 g)
To 17.7% by weight. In consideration of the measured OH group content (4.8% by weight in terms of H 2 O), the amount of carbon directly bonded to silicon in the particles is (1-0.048) × 0.177 =
0.169, ie 16.9% by weight.
【0099】また、オルガノポリシロキサン微粒子の平
均粒径は走査型電子顕微鏡写真による観察によって測定
し、CV値は該平均粒径から算出した。なお、10%圧
縮弾性率、平均弾性復元率 (Rr)mおよび平均圧縮変形
率 (Cr)mは、前記の方法で測定した。The average particle size of the organopolysiloxane fine particles was measured by observation with a scanning electron microscope photograph, and the CV value was calculated from the average particle size. The 10% compressive modulus, the average elastic recovery (R r ) m and the average compressive deformation (C r ) m were measured by the methods described above.
【0100】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.
【0101】[0101]
【実施例2】[シード粒子の調製]実施例1で調製した
A液とB液とを混合し、25℃で3時間攪拌し、アルコ
キシシランを加水分解・縮重合を行いシード粒子分散液
を調製した。さらに、濃度1重量%の水酸化カリウム水
溶液3.3gを添加し、さらに10分間超音波処理をし
て、シードの安定化を行った。このときのpHは12で
あった。シード粒子分散液中のシード粒子の平均粒径
は、遠心式粒度分布測定法で測定したところ0.15μ
mであった。[Example 2] [Preparation of seed particles] Liquid A and liquid B prepared in Example 1 were mixed, stirred at 25 ° C for 3 hours, and hydrolyzed and polycondensed with alkoxysilane to obtain a seed particle dispersion. Prepared. Further, 3.3 g of a 1% by weight aqueous solution of potassium hydroxide was added, and ultrasonic treatment was further performed for 10 minutes to stabilize the seed. The pH at this time was 12. The average particle size of the seed particles in the seed particle dispersion was 0.15 μm as measured by a centrifugal particle size distribution measuring method.
m.
【0102】[シード粒子の成長]得られたシード粒子
分散液を、160gになるまで加熱濃縮した後、陽イオ
ン交換樹脂10ccを用いてアルカリおよびアンモニア
の量を低減させた。このシード粒子分散液に、純水50
00gおよびブタノール250gを加えたのち、シード
粒子分散液を0℃に冷却し、この温度を保持しながら、
このシード粒子分散液にメチルトリメトキシシラン40
0gとビニルトリメトキシシラン100gの混合溶液を
0.005g/純水-g・時間の添加速度で滴下した。こ
のとき、濃度0.028%のアンモニア水溶液を約0.0
12g/純水-g・時間の添加速度で添加しながらシード
粒子分散液のpHを8.0に維持して、メチルトリメト
キシシランとビニルトリメトキシシランをシード粒子上
に加水分解・縮重合させてシード粒子を成長させた。[Growth of Seed Particles] The obtained seed particle dispersion was concentrated by heating to 160 g, and then the amount of alkali and ammonia was reduced using 10 cc of a cation exchange resin. Pure water 50 was added to the seed particle dispersion.
After the addition of 00 g and 250 g of butanol, the seed particle dispersion was cooled to 0 ° C. and, while maintaining this temperature,
Methyltrimethoxysilane 40 was added to this seed particle dispersion.
A mixed solution of 0 g and 100 g of vinyltrimethoxysilane was added dropwise at an addition rate of 0.005 g / pure water-g · hour. At this time, an ammonia aqueous solution having a concentration of 0.028% was added to about 0.02%.
The pH of the seed particle dispersion was maintained at 8.0 while adding at a rate of 12 g / pure water-g · hour, and methyltrimethoxysilane and vinyltrimethoxysilane were hydrolyzed and polycondensed on the seed particles. To grow the seed particles.
【0103】次いで、20℃で2時間攪拌した後、さら
に80℃に加温して5時間熟成を行った。熟成後、微粒
子を液から分離し、乾燥した後、相対湿度60%の空気
を供給しながら、220℃で加熱処理した。Next, after stirring at 20 ° C. for 2 hours, the mixture was further heated to 80 ° C. and aged for 5 hours. After aging, the fine particles were separated from the liquid, dried, and then heated at 220 ° C. while supplying air at a relative humidity of 60%.
【0104】得られたオルガノポリシロキサン微粒子に
ついて、珪素と直接結合した炭化水素基中の炭素の量、
珪素と結合したOH基の量、平均粒径、CV値、10%
圧縮弾性率、平均弾性復元率 (Rr)m および平均圧縮変
形率 (Cr)m を測定した。For the obtained organopolysiloxane fine particles, the amount of carbon in the hydrocarbon group directly bonded to silicon,
Amount of OH groups bonded to silicon, average particle size, CV value, 10%
The compression modulus, the average elastic recovery (R r ) m and the average compression deformation (C r ) m were measured.
【0105】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.
【0106】[0106]
【実施例3】実施例1と同様にして得られた微粒子を、
微粒子分散液から分離し、乾燥後、相対湿度70%の空
気を供給しながら400℃で加熱処理してオルガノポリ
シロキサン微粒子を得た。Example 3 Fine particles obtained in the same manner as in Example 1 were
Separated from the fine particle dispersion, dried, and heated at 400 ° C. while supplying air at a relative humidity of 70% to obtain organopolysiloxane fine particles.
【0107】得られたオルガノポリシロキサン微粒子に
ついて、珪素と直接結合した炭化水素基中の炭素の量、
珪素と直接結合したOH基の量、平均粒径、CV値、1
0%圧縮弾性率、平均弾性復元率(Rr)m および平均圧
縮変形率(Cr)m を測定した。For the obtained organopolysiloxane fine particles, the amount of carbon in the hydrocarbon group directly bonded to silicon,
Amount of OH groups directly bonded to silicon, average particle size, CV value, 1
The 0% compression modulus, the average elastic recovery (R r ) m and the average compression deformation (C r ) m were measured.
【0108】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.
【0109】[0109]
【比較例1】[シード粒子の調製]メチルトリメトキシ
シラン8gと、テトラメトキシシラン8gとを、エタノ
ール350gに溶解した溶液(A液)を調製した。他
方、純水6gと、28%アンモニア水78gと、エタノ
ール350gの混合溶液(B液)を調製した。Comparative Example 1 [Preparation of Seed Particles] A solution (solution A) was prepared by dissolving 8 g of methyltrimethoxysilane and 8 g of tetramethoxysilane in 350 g of ethanol. On the other hand, a mixed solution (solution B) of 6 g of pure water, 78 g of 28% ammonia water, and 350 g of ethanol was prepared.
【0110】上記A液とB液とを混合し、20℃で3時
間攪拌し、アルコキシシランを加水分解・縮重合するこ
とにより、シード粒子分散液を得た。このシード粒子分
散液中のシード粒子の平均粒径は、遠心式粒度分布測定
法で測定した結果、0.15μmであった。The liquids A and B were mixed, stirred at 20 ° C. for 3 hours, and the alkoxysilane was hydrolyzed and polycondensed to obtain a seed particle dispersion. The average particle size of the seed particles in the seed particle dispersion was 0.15 μm as measured by a centrifugal particle size distribution measuring method.
【0111】[シード粒子の成長]得られたシード粒子
分散液が160gになるまでシード粒子分散液を加熱濃
縮した後、濃縮されたシード粒子分散液に純水5000
gおよびブタノール250gを加えた。こうして希釈さ
れたシード粒子分散液に0.28%アンモニア水100
gを添加した。このときのpHは10.5であった。こ
のアンモニア水が添加されたシード粒子分散液を−5℃
に冷却し、この温度を保持しながら、このシード粒子分
散液にメチルトリメトキシシラン500gを0.005
g/純水-g・時間の添加速度で滴下し、メチルトリメト
キシシランをシード粒子上に加水分解・縮重合させてシ
ード粒子を成長させた。滴下終了後のpHは8.5であ
った。[Growth of Seed Particles] After the seed particle dispersion was heated and concentrated until the obtained seed particle dispersion reached 160 g, pure water 5000 was added to the concentrated seed particle dispersion.
g and 250 g of butanol were added. 0.28% aqueous ammonia 100 was added to the seed particle dispersion thus diluted.
g was added. The pH at this time was 10.5. The seed particle dispersion to which the aqueous ammonia was added was cooled to -5 ° C.
While maintaining the temperature, 500 g of methyltrimethoxysilane was added to the seed particle dispersion in an amount of 0.005.
g / pure water-g · hour was added dropwise, and methyltrimethoxysilane was hydrolyzed and polycondensed on the seed particles to grow the seed particles. The pH after dropping was 8.5.
【0112】滴下終了後の液を60℃まで加温し、この
温度で5時間攪拌して成長したシード粒子を熟成した。
熟成後、微粒子を液から分離し、乾燥後、空気中、30
0℃で焼成した。After completion of the dropwise addition, the liquid was heated to 60 ° C., and stirred at this temperature for 5 hours to ripen the grown seed particles.
After aging, the fine particles are separated from the liquid, dried, and dried in air for 30 minutes.
Baking at 0 ° C.
【0113】得られたオルガノポリシロキサン微粒子に
ついて、珪素と直接結合した炭化水素基中の炭素の量、
珪素と結合したOH基の量、平均粒径、CV値、10%
圧縮弾性率、平均弾性復元率(Rr)m および平均圧縮変
形率(Cr)m を測定し、結果を表1に示す。For the obtained organopolysiloxane fine particles, the amount of carbon in the hydrocarbon group directly bonded to silicon,
Amount of OH groups bonded to silicon, average particle size, CV value, 10%
The compression modulus, the average elastic recovery (R r ) m and the average compression deformation (C r ) m were measured, and the results are shown in Table 1.
【0114】[0114]
【比較例2】[シード粒子の成長]比較例1で得られた
シード粒子分散液を、160gになるまで加熱濃縮した
後、濃縮されたシード粒子分散液に純水5000gおよ
びブタノール250gを加えた。こうして希釈されたシ
ード粒子分散液に28%アンモニア水10gを添加し
た。このときのpHは13であった。このアンモニア水
が添加されたシード粒子分散液を−5℃に冷却し、この
温度を保持しながら、このシード粒子分散液にメチルト
リメトキシシラン450gとジメチルメトキシシラン5
0gの混合溶液を0.005g/純水-g・時間の添加速
度で滴下し、メチルトリメトキシシランとジメチルメト
キシシランをシード粒子上に加水分解・縮重合させてシ
ード粒子を成長させた。滴下終了後のpHは10であっ
た。Comparative Example 2 [Growth of Seed Particles] The seed particle dispersion obtained in Comparative Example 1 was heated and concentrated to 160 g, and 5000 g of pure water and 250 g of butanol were added to the concentrated seed particle dispersion. . 10 g of 28% aqueous ammonia was added to the seed particle dispersion thus diluted. The pH at this time was 13. The seed particle dispersion to which the aqueous ammonia was added was cooled to −5 ° C., and while maintaining this temperature, 450 g of methyltrimethoxysilane and dimethylmethoxysilane 5 were added to the seed particle dispersion.
0 g of the mixed solution was added dropwise at an addition rate of 0.005 g / pure water-g · hour, and methyltrimethoxysilane and dimethylmethoxysilane were hydrolyzed and polycondensed on the seed particles to grow the seed particles. The pH after completion of the dropwise addition was 10.
【0115】滴下終了後の液を60℃まで加温し、この
温度で5時間攪拌して成長したシード粒子を熟成した。
得られた微粒子を液から分離し、乾燥後、空気中、30
0℃で焼成した。After the completion of the dropwise addition, the liquid was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature for 5 hours to ripen the grown seed particles.
The obtained fine particles are separated from the liquid, dried, and then dried in air.
Baking at 0 ° C.
【0116】得られたオルガノポリシロキサン微粒子に
ついて、珪素と直接結合した炭化水素基中の炭素の量、
珪素と結合したOH基の量、平均粒径、CV値、10%
圧縮弾性率、平均弾性復元率(Rr)m および平均圧縮変
形率(Cr)m を測定した。For the obtained organopolysiloxane fine particles, the amount of carbon in the hydrocarbon group directly bonded to silicon,
Amount of OH groups bonded to silicon, average particle size, CV value, 10%
The compression modulus, average elastic recovery (R r ) m and average compression deformation (C r ) m were measured.
【0117】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.
【0118】[0118]
【表1】 [Table 1]
【0119】[0119]
【実施例4】液晶表示装置の液晶セルに用いられる一対
の透明電極付透明基板を準備した。この透明電極付透明
基板は、ガラス基板の片面に透明電極としてのITO薄
膜、液晶材料に含まれている液晶性化合物分子を所定方
向に配向させる配向膜がこの順序で形成されている。Embodiment 4 A pair of transparent substrates with transparent electrodes used for a liquid crystal cell of a liquid crystal display device were prepared. In this transparent substrate with a transparent electrode, an ITO thin film as a transparent electrode and an alignment film for aligning liquid crystal compound molecules contained in a liquid crystal material in a predetermined direction are formed on one surface of a glass substrate in this order.
【0120】次いで、一方の透明電極付透明基板に形成
された配向膜面に実施例1で得られたオルガノポリシロ
キサン微粒子を散布した。散布方法は、純水350cc、
イソプロピルアルコール120cc、エチルアルコール3
0ccの混合溶媒中に、濃度が1重量%となるように実施
例1で得られたオルガノポリシロキサン微粒子を、攪拌
しながら超音波を照射して分散させた散布液を調製し
た。この散布液を、ノズル径0.5mmφの散布ノズル
(ルミナPR−10)を用いて、ノズルと配向膜面との
距離を70cmにして、圧力3Kg/cm2で噴霧して散布し
た。Next, the organopolysiloxane fine particles obtained in Example 1 were sprayed on the surface of the alignment film formed on one of the transparent substrates with a transparent electrode. Spraying method is pure water 350cc,
120 cc of isopropyl alcohol, ethyl alcohol 3
A dispersion liquid was prepared by dispersing the organopolysiloxane fine particles obtained in Example 1 in a 0 cc mixed solvent so as to have a concentration of 1% by weight while irradiating ultrasonic waves with stirring. Using a spray nozzle (Lumina PR-10) having a nozzle diameter of 0.5 mmφ, the spray liquid was sprayed at a pressure of 3 kg / cm 2 at a distance of 70 cm between the nozzle and the alignment film surface.
【0121】このときの平均粒子散布密度は130個/
mm2であり、散布密度の最高値は147個/mm2、最小値
は114個/mm2であり、バラツキは13%であった。
また、散布密度を測定した各面内には複数の粒子の凝集
体(密着粒子)は観察されなかった。なお、散布密度
は、液晶スペーサーカウンタ装置(株式会社エデック
製:ED−7510)によって、以下のように測定し
た。具体的には、散布面上に均等間隔で仮想横線および
仮想縦線を各々10本設け、この交点100カ所の散布
密度を求め、求めた値の平均をとり平均粒子散布密度と
した。散布密度のバラツキは、上記で算出した平均粒子
散布密度から算出した。At this time, the average particle scattering density was 130 particles /
a mm 2, the maximum value of the dispersion density 147 / mm 2, the minimum value is 114 pieces / mm 2, the variation was 13%.
In addition, no aggregates (adhered particles) of a plurality of particles were observed in each surface where the scatter density was measured. The spray density was measured as follows using a liquid crystal spacer counter device (ED-7510, manufactured by EDEC Co., Ltd.). Specifically, 10 imaginary horizontal lines and 10 imaginary vertical lines were provided at equal intervals on the scatter surface, the scatter density at 100 intersections was determined, and the average of the calculated values was taken as the average particle scatter density. The dispersion of the application density was calculated from the average particle application density calculated above.
【0122】次いで、散布したオルガノポリシロキサン
微粒子上に、他方の透明電極付透明基板に形成された配
向膜面を接触させ、両透明電極付透明基板を重ね合わせ
た。こうして形成された両透明電極付透明基板の配向膜
間の隙間に液晶材料を充填し、両基板の周縁部をシール
用樹脂で貼り合わせ、密閉して液晶セルを作成した。な
お、作成した液晶セルはSTNモードで駆動されるよう
になっている。Then, the surface of the alignment film formed on the other transparent substrate with a transparent electrode was brought into contact with the dispersed organopolysiloxane fine particles, and the two transparent substrates with a transparent electrode were overlapped. A liquid crystal material was filled in the gap between the alignment films of the transparent substrates with both transparent electrodes thus formed, and the peripheral portions of both substrates were bonded together with a sealing resin to form a liquid crystal cell. In addition, the created liquid crystal cell is driven in the STN mode.
【0123】以上のようにして作成した液晶セルを、室
温から−40℃に冷却する操作を10回繰り返し、毎回
−40℃における気泡の観察を行ったが、液晶セルの内
部に低温気泡が観察されなかった。The operation of cooling the liquid crystal cell prepared as described above from room temperature to −40 ° C. was repeated 10 times, and bubbles were observed each time at −40 ° C., but low-temperature bubbles were observed inside the liquid crystal cell. Was not done.
【0124】また、以上のようにして作成した液晶セル
を液晶表示装置に取り付けて液晶表示装置を駆動させた
ところ、表示画像のムラは観察されなかった。Further, when the liquid crystal cell prepared as described above was mounted on a liquid crystal display and the liquid crystal display was driven, no unevenness of the displayed image was observed.
【0125】[0125]
【実施例5】実施例4と同様に透明電極付透明基板に形
成された配向膜面に実施例2で得られたオルガノポリシ
ロキサン微粒子を散布した。Example 5 In the same manner as in Example 4, the organopolysiloxane fine particles obtained in Example 2 were sprayed on the surface of the alignment film formed on the transparent substrate with a transparent electrode.
【0126】平均粒子散布密度は125個/mm2であ
り、散布密度の最高値は135個/mm2、最小値は11
4個/mm2であり、バラツキは9%であった。散布密度
を測定した面内には、複数の粒子の凝集体(密着粒子)
は観察されなかった。The average particle distribution density was 125 particles / mm 2 , the maximum value of the distribution density was 135 particles / mm 2 , and the minimum value was 11 particles / mm 2 .
4 pieces / mm 2 , and the variation was 9%. Aggregates of multiple particles (coherent particles) on the surface where the scatter density was measured
Was not observed.
【0127】次いで、散布したオルガノポリシロキサン
微粒子上に、他方の透明電極付透明基板に形成された配
向膜面を接触させ、両透明電極付透明基板を重ね合わ
せ、作成した各液晶セルを、室温から−40℃に冷却す
る操作を10回繰り返し、毎回−40℃における気泡の
観察を行ったが、液晶セルの内部に低温気泡が観察され
なかった。Next, the surface of the alignment film formed on the other transparent substrate with a transparent electrode was brought into contact with the dispersed organopolysiloxane fine particles, and the two transparent substrates with a transparent electrode were overlapped. The operation of cooling to −40 ° C. was repeated 10 times, and bubbles were observed each time at −40 ° C., but no low-temperature bubbles were observed inside the liquid crystal cell.
【0128】また、上記のようにして作成した液晶セル
を液晶表示装置に取り付けて液晶表示装置を駆動させた
ところ、表示画像のムラは観察されなかった。Further, when the liquid crystal cell prepared as described above was mounted on a liquid crystal display and the liquid crystal display was driven, no unevenness of the displayed image was observed.
【0129】[0129]
【実施例6】実施例4と同様に透明電極付透明基板に形
成された配向膜面に実施例3で得られたオルガノポリシ
ロキサン微粒子を散布した。Example 6 In the same manner as in Example 4, the organopolysiloxane fine particles obtained in Example 3 were sprayed on the surface of the alignment film formed on the transparent substrate with a transparent electrode.
【0130】平均粒子散布密度は123個/mm2であ
り、散布密度の最高値は143個/mm2、最小値は10
5個/mm2であり、バラツキは16%であった。散布密
度を測定した面内には、複数の粒子の凝集体(密着粒
子)は観察されなかった。The average particle distribution density was 123 particles / mm 2 , the maximum value of the distribution density was 143 particles / mm 2 , and the minimum value was 10 particles / mm 2 .
The number was 5 / mm 2 and the variation was 16%. No aggregates (adhered particles) of a plurality of particles were observed on the surface where the scatter density was measured.
【0131】次いで、散布したオルガノポリシロキサン
微粒子上に、他方の透明電極付透明基板に形成された配
向膜面を接触させ、両透明電極付透明基板を重ね合わ
せ、作成した各液晶セルを、室温から−40℃に冷却す
る操作を10回繰り返し、毎回−40℃における気泡の
観察を行ったが、液晶セルの内部に低温気泡が観察され
なかった。Then, the surface of the alignment film formed on the other transparent substrate with a transparent electrode is brought into contact with the dispersed organopolysiloxane fine particles, and the two transparent substrates with a transparent electrode are overlapped. The operation of cooling to −40 ° C. was repeated 10 times, and bubbles were observed each time at −40 ° C., but no low-temperature bubbles were observed inside the liquid crystal cell.
【0132】また、以上のようにして作成した液晶セル
を液晶表示装置に取り付けて液晶表示装置を駆動させた
ところ、表示画像のムラは観察されなかった。Further, when the liquid crystal cell prepared as described above was mounted on a liquid crystal display device and the liquid crystal display device was driven, no unevenness of the displayed image was observed.
【0133】[0133]
【比較例3】実施例4と同様に透明電極付透明基板に形
成された配向膜面に比較例1で得られたオルガノポリシ
ロキサン微粒子を散布した。Comparative Example 3 In the same manner as in Example 4, the organopolysiloxane fine particles obtained in Comparative Example 1 were sprayed on the surface of an alignment film formed on a transparent substrate with a transparent electrode.
【0134】平均粒子散布密度は128個/mm2であ
り、散布密度の最高値は173個/mm2、最小値は90
個/mm2であり、バラツキは36%であった。また、散
布密度を測定した面内に、複数の粒子の凝集体が存在し
ていた。The average particle distribution density was 128 particles / mm 2 , the maximum value of the distribution density was 173 particles / mm 2 , and the minimum value was 90 particles / mm 2 .
Pieces / mm 2 , and the variation was 36%. In addition, agglomerates of a plurality of particles were present on the surface where the spray density was measured.
【0135】次いで、散布したオルガノポリシロキサン
微粒子上に、他方の透明電極付透明基板に形成された配
向膜面を接触させ、両透明電極付透明基板を重ね合わ
せ、作成した各液晶セルを、室温から−40℃に冷却す
る操作を10回繰り返し、毎回−40℃における気泡の
観察を行ったところ、8回目の冷却操作以降で液晶セル
の内部に低温気泡が観察された。Then, the surface of the alignment film formed on the other transparent substrate with a transparent electrode was brought into contact with the dispersed organopolysiloxane fine particles, and the two transparent substrates with a transparent electrode were overlapped. The operation of cooling to −40 ° C. was repeated 10 times, and air bubbles were observed at −40 ° C. every time. As a result, low-temperature air bubbles were observed inside the liquid crystal cell after the eighth cooling operation.
【0136】また作成した液晶セルを液晶表示装置に取
り付けて液晶表示装置を駆動させたところ、表示画像ム
ラが観察された。When the liquid crystal cell thus produced was mounted on a liquid crystal display device and the liquid crystal display device was driven, display image unevenness was observed.
【0137】[0137]
【比較例4】実施例4と同様に透明電極付透明基板に形
成された配向膜面に比較例2で得られたオルガノポリシ
ロキサン微粒子を散布した。Comparative Example 4 In the same manner as in Example 4, the organopolysiloxane fine particles obtained in Comparative Example 2 were sprayed on the surface of an alignment film formed on a transparent substrate with a transparent electrode.
【0138】平均粒子散布密度は120個/mm2であ
り、散布密度の最高値は166個/mm2、最小値は78
個/mm2であり、バラツキは38%であった。また、散
布密度を測定した面内に、複数の粒子の凝集体が存在し
ていた。The average particle density was 120 particles / mm 2 , the maximum value was 166 particles / mm 2 and the minimum value was 78.
Pieces / mm 2 , and the variation was 38%. In addition, agglomerates of a plurality of particles were present on the surface where the spray density was measured.
【0139】次いで、散布したオルガノポリシロキサン
微粒子上に、他方の透明電極付透明基板に形成された配
向膜面を接触させ、両透明電極付透明基板を重ね合わ
せ、作成した各液晶セルを、室温から−40℃に冷却す
る操作を10回繰り返し、毎回−40℃における気泡の
観察を行ったところ、5回目の冷却操作以降で液晶セル
の内部に低温気泡が観察された。Next, the surface of the alignment film formed on the other transparent substrate with a transparent electrode was brought into contact with the dispersed organopolysiloxane fine particles, and the two transparent substrates with a transparent electrode were overlapped. The operation of cooling from −40 ° C. to −40 ° C. was repeated 10 times, and bubbles were observed at −40 ° C. each time. As a result, low-temperature bubbles were observed inside the liquid crystal cell after the fifth cooling operation.
【0140】また作成した液晶セルを液晶表示装置に取
り付けて液晶表示装置を駆動させたところ、表示画像ム
ラが観察された。When the liquid crystal cell thus produced was mounted on a liquid crystal display device and the liquid crystal display device was driven, display image unevenness was observed.
【図1】図1は、弾性復元率および圧縮変形率を説明す
るための図面である。FIG. 1 is a drawing for explaining an elastic recovery rate and a compressive deformation rate.
Claims (4)
素基(a)と、珪素原子に直接結合したOH基(b)を有する
ポリシロキサンを主成分とするオルガノポリシロキサン
微粒子であって、 (i) 珪素原子に直接結合した炭化水素基(a)中に含まれ
る炭素の量が、微粒子重量に対して5〜35重量%であ
り、 (ii)珪素原子に直接結合したOH基(b)の量が、微粒子
に対して1〜8meq/gであり、 (iii) 10%圧縮弾性率が150〜900Kg/mm2、 (iv)平均圧縮変形率(Cr)m が20〜60%、 (v) 平均弾性復元率(Rr)m が60〜90%、 (vi)平均粒子径が0.5〜50μm であることを特徴とするオルガノポリシロキサン微粒
子。1. Organopolysiloxane fine particles containing, as a main component, a polysiloxane having a hydrocarbon group (a) directly bonded to a silicon atom and an OH group (b) directly bonded to a silicon atom in the particle. (I) the amount of carbon contained in the hydrocarbon group (a) directly bonded to the silicon atom is 5 to 35% by weight based on the weight of the fine particles, and (ii) the OH group directly bonded to the silicon atom ( the amount of b) is a 1~8meq / g with respect to fine particles, is (iii) 10% compressive elasticity modulus 150~900Kg / mm 2, (iv) an average pressure change rate (C r) m 20~60 %, (V) an average elastic recovery (R r ) m of 60 to 90%, and (vi) an average particle diameter of 0.5 to 50 μm.
シロキサン微粒子の製造方法。 (a) 式(1):Si(OR1)4で表される有機ケイ素化合物
と、式(2):R'Si(OR 2)3で表される有機ケイ素化合
物との混合物を、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分
解、縮重合することによりシード粒子の分散液を調製す
る工程、(式中、R1およびR2は、水素原子またはアル
キル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ば
れる炭素数1〜10の有機基であり、R'は、置換また
は非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有
機基である。) (b) 前記シード粒子分散液にアルカリを添加してシード
液を安定化させる工程、 (c) 前記シード粒子分散液のpHを6〜9に維持しなが
ら、シード粒子分散液に下記式(3)または(4)で表される
化合物の1種または2種以上、および必要に応じて(5)
で表される化合物を加え、加水分解・縮重合してシード
粒子を成長させて球状微粒子分散液を調製する工程、 R'Si(OR2)3 (3) R'R"Si(OR3)2 (4) 【化1】 (式中、R2、R'は、前記と同様の基であり、R"は、
置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜
10の有機基であり、R3は、水素原子またはアルキル
基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる
炭素数1〜10の有機基であり、R4は、プロピルまた
はブチル基であり、 Yは、メチル基、メトキシ基、エチル基およびエトキシ
基から選ばれる有機基であり、Mは、周期律表第2〜1
5族から選ばれる元素であり、 mは0〜3の整数であり、nは1〜4の整数であり、m
+nは2〜4の整数である。) (d) 前記球状微粒子の分散液を加熱して熟成する工程、 (e) 球状微粒子を水分含有雰囲気下で、100〜600
℃で処理する工程。2. An organopoly comprising the following steps (a) to (e):
A method for producing siloxane fine particles. (a) Equation (1): Si (OR1)FourOrganosilicon compound represented by
And equation (2): R'Si (OR Two)ThreeOrganosilicon compound represented by
Mixture in a mixed solvent of water and an organic solvent.
Preparation of seed particle dispersion by disassembly and condensation polymerization
Where R1And RTwoIs a hydrogen atom or
Selected from kill, alkoxyalkyl and acyl groups
Wherein R ′ is a substituted or substituted organic group having 1 to 10 carbon atoms.
Is a group having 1 to 10 carbon atoms selected from unsubstituted hydrocarbon groups.
It is a machine base. (B) adding an alkali to the seed particle dispersion to form a seed;
(C) maintaining the pH of the seed particle dispersion at 6 to 9 while stabilizing the solution.
The seed particle dispersion is represented by the following formula (3) or (4)
One or more compounds, and if necessary (5)
The compound represented by
A step of preparing a spherical fine particle dispersion by growing particles, R'Si (ORTwo)Three (3) R'R "Si (ORThree)Two (4)(Where RTwo, R ′ are the same groups as described above, and R ″ is
1 to 1 carbon atoms selected from substituted or unsubstituted hydrocarbon groups
10 organic groups, RThreeIs a hydrogen atom or an alkyl
Selected from a group, an alkoxyalkyl group and an acyl group
An organic group having 1 to 10 carbon atoms;FourIs propyl or
Is a butyl group, Y is a methyl group, a methoxy group, an ethyl group and an ethoxy group.
And M is an organic group selected from the following groups:
M is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4;
+ N is an integer of 2 to 4. (D) a step of heating and aging the dispersion of the spherical fine particles, and (e) subjecting the spherical fine particles to a water-
Step of treating at ° C.
たオルガノポリシロキサン微粒子が、請求項1に記載さ
れた物性を有するものであることを特徴とする請求項2
に記載のオルガノポリシロキサン微粒子の製造方法。3. The organopolysiloxane microparticles obtained by the method according to claim 2 have the physical properties according to claim 1.
3. The method for producing organopolysiloxane fine particles according to 1.).
電極間に請求項1に記載のオルガノポリシロキサン微粒
子がスペーサーとして介在していることを特徴とする液
晶表示装置。4. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell having a pair of electrodes, wherein the organopolysiloxane fine particles according to claim 1 are interposed as spacers between the electrodes.
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|---|---|---|---|
| JP02756898A JP3824766B2 (en) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | Organopolysiloxane fine particles, method for producing the same, and liquid crystal display device |
| CNB998027693A CN1241974C (en) | 1998-02-09 | 1999-01-29 | Organopolysiloxane fine particles, process for the production thereof and liquid crystal displays |
| KR1020007008677A KR100542032B1 (en) | 1998-02-09 | 1999-01-29 | Organopolysiloxane fine particles, preparation method thereof and liquid crystal display |
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| US09/601,826 US6359667B1 (en) | 1998-02-09 | 1999-01-29 | Organopolysiloxane fine particles, process for the production thereof and liquid crystal displays |
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