KR101034602B1 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 내부전압의 활성화 제어기술에 관한 것으로, 내부전압의 활성화 시점을 효율적으로 제어하여 전체적인 동작측면에서 안정적이며 전류소모가 적은 반도체 메모리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 커맨드 인가시 활성화되는 내부컬럼신호를 생성하기 위한 내부컬럼신호 생성부와, 상기 내부컬럼신호에 리드 레이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 내부지연 컬럼신호를 생성하기 위한 내부지연 컬럼신호 생성부와, 상기 내부컬럼신호에 응답하여 내부전압 활성화 신호를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부와, 상기 내부전압 활성화 신호에 응답하여 내부전압을 발생시키기 위한 내부전압 발생부를 구비하는 반도체 메모리 장치가 제공된다.The present invention relates to an activation control technique of an internal voltage, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device that is stable in terms of overall operation and low current consumption by efficiently controlling an activation time of an internal voltage. According to an aspect of the present invention, an internal column signal generation unit for generating an internal column signal that is activated when a command is applied, and an internal delay by reflecting a read latency or a write latency to the internal column signal. An internal delay column signal generator for generating a column signal, an activation signal generator for generating an internal voltage activation signal in response to the internal column signal, and an internal for generating an internal voltage in response to the internal voltage activation signal A semiconductor memory device having a voltage generator is provided.
반도체 메모리 장치, 내부전압, 전류소모, 활성화 제어, 내부컬럼신호 Semiconductor memory device, internal voltage, current consumption, activation control, internal column signal
Description
본 발명은 반도체 설계기술에 관한 것으로서, 내부전압의 활성화 제어기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor design technique, and to an activation control technique of an internal voltage.
반도체 메모리 장치는 외부 전원전압을 인가받아 내부전압 발생회로에서 특정회로에 필요한 전압레벨의 내부전압을 생성한다. 내부전압을 이용하는 내부회로는 특정 동작구간에만 동작을 하므로 전류소모를 감소시키기 위해서는 내부회로가 동작하는 구간에만 내부전압을 발생시키는 것이 유리하다.The semiconductor memory device receives an external power supply voltage to generate an internal voltage having a voltage level required for a specific circuit in an internal voltage generation circuit. Since the internal circuit using the internal voltage operates only in a specific operation section, it is advantageous to generate the internal voltage only in the section in which the internal circuit operates to reduce current consumption.
도 1은 종래기술의 반도체 메모리 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a semiconductor memory device of the prior art.
도 1을 참조하면, 반도체 메모리 장치는 로우 커맨드 인가시 활성화되는 액티브 신호(ROW_ACT<0:7>)에 응답하여 내부전압 활성화 신호(V_EN)를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부(110)와, 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 응답하여 내부전압(V_OUT)을 발생시키기 위한 내부전압 발생부(120)를 구비한다. 여기에서 내부전압(V_OUT)은 읽기동작 및 쓰기동작 구간동안 사용되는 전압이다.Referring to FIG. 1, the semiconductor memory device may include an
상기와 같이 구성되는 반도체 메모리 장치는 해당 뱅크(BANK)를 활성화하기 위한 액티브 신호(ROW_ACT<0:7>)를 인가받아서, 뱅크(BANK)가 활성화 되는 시점에 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 의해 내부전압 발생부(120)에서 내부전압(V_OUT)을 생성한다. 이와 같은 방식으로 내부전압(V_OUT)을 생성하는 경우에는 내부전압(V_OUT)이 사용되는 시점보다 너무 일찍 생성되어 전류소모가 많이 발생하게 된다.The semiconductor memory device configured as described above receives an active signal ROW_ACT <0: 7> for activating the corresponding bank BANK and is activated by the internal voltage activation signal V_EN when the bank BANK is activated. The
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 내부전압의 활성화 시점을 효율적으로 제어하여 전체적인 동작측면에서 안정적이며 전류소모가 적은 반도체 메모리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve the conventional problems as described above, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device that is stable in terms of overall operation and has low current consumption by efficiently controlling the activation time of an internal voltage.
상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 커맨드 인가시 활성화되는 내부컬럼신호에 응답하여 내부전압 활성화 신호를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부; 및 상기 내부전압 활성화 신호에 응답하여 내부전압을 발생시키기 위한 내부전압 발생부를 구비하는 반도체 메모리 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem, an activation signal generation unit for generating an internal voltage activation signal in response to the internal column signal is activated when the command is applied; And an internal voltage generator configured to generate an internal voltage in response to the internal voltage activation signal.
또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 커맨드 인가시 활성화되는 내부컬럼신호를 생성하기 위한 내부컬럼신호 생성부; 상기 내부컬럼신호에 리드 레이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 내부지연 컬럼신호를 생성하기 위한 내부지연 컬럼신호 생성부; 상기 내부컬럼신호에 응답하여 내부전압 활성화 신호를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부; 및 상기 내부전압 활성화 신호에 응답하여 내부전압을 발생시키기 위한 내부전압 발생부를 구비하는 반도체 메모리 장치가 제공된다.In addition, according to another aspect of the invention, the internal column signal generation unit for generating an internal column signal that is activated when a command is applied; An internal delay column signal generator for generating an internal delay column signal by reflecting a read latency or a write latency to the internal column signal; An activation signal generator for generating an internal voltage activation signal in response to the internal column signal; And an internal voltage generator configured to generate an internal voltage in response to the internal voltage activation signal.
본 발명을 적용한 반도체 메모리 장치는 내부전압의 생성시점을 효율적으로 제어하여 전력소모 및 동작 안정성을 개선하였다.The semiconductor memory device to which the present invention is applied improves power consumption and operational stability by efficiently controlling an internal voltage generation time.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 참고적으로, 도면 및 상세한 설명에서 소자, 블록 등을 지칭할 때 사용하는 용어, 기호, 부호등은 필요에 따라 세부단위별로 표기할 수도 있으므로, 동일한 용어, 기호, 부호가 전체회로에서 동일한 소자 등을 지칭하지 않을 수도 있음에 유의하자.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. . For reference, in the drawings and detailed description, terms, symbols, symbols, etc. used to refer to elements, blocks, etc. may be represented by detailed units as necessary, and therefore, the same terms, symbols, symbols, etc. are the same in the entire circuit. Note that it may not refer to.
일반적으로 회로의 논리신호는 전압레벨에 대응하여 하이레벨(HIGH LEVEL, H) 또는 로우레벨(LOW LEVEL, L)로 구분하며, 각각 ‘1’ 과 ‘0’ 등으로 표현하기도 한다. 또한, 필요에 따라 추가적으로 하이임피던스(High Impedance, Hi-Z) 상태 등을 가질 수 있다고 정의하고 기술한다. 또한, 본 실시예에서 사용하는 용어인 PMOS(P-channel Metal Oxide Semiconductor)와 NMOS(N-channel Metal Oxide Semiconductor)는 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor)의 한 종류임을 미리 밝혀둔다. 또한, 클럭신호(CLOCK)는 일정한 주기로 토글링(Toggling)을 하는 주기펄스신호(Periodic Pulse Signal)이다. 일반적으로 클럭신호는 라이징 에지(Rising Edge) 또는 폴링 에지(Falling Edge)를 기준으로 하여 내부회로 또는 내부신호의 활성화 시점 등을 결정하는데 사용되는데, 정클럭신호와 부클럭신호의 차동형태로 인가되어 사용되기도 한다.In general, the logic signal of the circuit is divided into a high level (HIGH LEVEL, H) or a low level (LOW LEVEL, L) corresponding to the voltage level, and may be expressed as '1' and '0', respectively. In addition, it is defined and described that it may additionally have a high impedance (Hi-Z) state and the like. In addition, PMOS (P-channel Metal Oxide Semiconductor) and N-channel Metal Oxide Semiconductor (NMOS), which are terms used in the present embodiment, are known to be a type of MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor). In addition, the clock signal CLOCK is a periodic pulse signal that toggles at a constant cycle. In general, the clock signal is used to determine the activation time of an internal circuit or an internal signal based on a rising edge or a falling edge. The clock signal is applied in a differential form between a positive clock signal and a subclock signal. Also used.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 반도체 메모리 장치는 커맨드 인가시 리드 레이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 활성화되는 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)를 생성하기 위한 내부지연 컬럼신호 생성부(210)와, 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)에 응답하여 내부전압 활성화 신호(V_EN)를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부(220)와, 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 응답하여 내부전압(V_OUT)을 발생시키기 위한 내부전압 발생부(230)를 구비한다. Referring to FIG. 2, the semiconductor memory device generates an internal delay column signal generator for generating internal delay column signals CASP10RD and CASP10WT that are activated by reflecting a read latency or a write latency when a command is applied. An
여기에서 내부전압(V_OUT)은 읽기동작 및 쓰기동작 구간동안 사용되는 전압이다. 또한, 커맨드는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 및 라이트 커맨드(Write Command) 등을 포함하는데, 반도체 메모리 장치의 컬럼(COLUMN)영역을 액세스하기 위한 커맨드이다. 참고적으로 로우계열 커맨드는 액티브 커맨드(Active Command) 등이 있으며 반도체 메모리 장치의 로우(ROW)영역을 액세스하기 위한 커맨드이다.Here, the internal voltage V_OUT is a voltage used during a read operation and a write operation period. The command may include a column series read command, a write command, and the like, and is a command for accessing a column COLUMN area of a semiconductor memory device. For reference, a row series command includes an active command, and is a command for accessing a ROW area of a semiconductor memory device.
상기와 같이 구성되는 반도체 메모리 장치의 주요동작을 살펴보면 다음과 같다.The main operations of the semiconductor memory device configured as described above are as follows.
내부지연 컬럼신호 생성부(210)는 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS), 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS), 칩 선택신호(/CS)의 논리조합으로 활성화 되는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command)가 인가되면 리드 레이턴시(Read Latency)를 반영한 제1 내부지연 컬럼신호(CASP10RD)를 생성하며, 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS), 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS), 칩 선택신호(/CS)의 논리조합으로 활성화 되는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command)가 인가되면 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영한 제2 내부지연 컬럼신호(CASP10WT)를 생성한다.The internal delay
활성화 신호 생성부(220)는 제1 내부지연 컬럼신호(CASP10RD) 또는 제2 내부지연 컬럼신호(CASP10WT)가 활성화 되면 내부전압 활성화 신호(V_EN)를 활성화 시키고, 내부전압 발생부(230)는 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 응답하여 내부전압(V_OUT)을 발생시키게 된다. 따라서 내부전압(V_OUT)이 사용되는 읽기동작 또는 쓰기동작 구간동안 내부전압(V_OUT)이 생성되므로 전류소모를 최소화 할 수 있다.The
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.3 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 반도체 메모리 장치는 커맨드 인가시 활성화되는 내부컬럼신호(CASP6)를 생성하기 위한 내부컬럼신호 생성부(40)와, 커맨드 인가시 리드 레이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 활성화되는 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)를 생성하기 위한 내부지연 컬럼신호 생성부(30)와, 내부컬럼신호(CASP6)에 응답하여 내부전압 활성화 신호(V_EN)를 생성하기 위한 활성화 신호 생성부(50)와, 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 응답하여 내부전압(V_OUT)을 발생시키기 위한 내부전압 발생부(60)를 구비한다.Referring to FIG. 3, the semiconductor memory device may include an internal column
여기에서 내부전압(V_OUT)은 읽기동작 및 쓰기동작 구간동안 사용되는 전압이다. 또한, 커맨드는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 및 라이트 커맨 드(Write Command) 등을 포함하는데, 반도체 메모리 장치의 컬럼(COLUMN)영역을 액세스하기 위한 커맨드이다. 참고적으로 로우계열 커맨드는 액티브 커맨드(Active Command) 등이 있으며 반도체 메모리 장치의 로우(ROW)영역을 액세스하기 위한 커맨드이다.Here, the internal voltage V_OUT is a voltage used during a read operation and a write operation period. The command may include a column series read command, a write command, and the like, and is a command for accessing a column COLUMN area of a semiconductor memory device. For reference, a row series command includes an active command, and is a command for accessing a ROW area of a semiconductor memory device.
상기와 같이 구성되는 반도체 메모리 장치의 세부구성 및 주요동작을 살펴보면 다음과 같다.The detailed configuration and main operations of the semiconductor memory device configured as described above are as follows.
내부컬럼신호 생성부(40)는 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS), 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS), 칩 선택신호(/CS)의 논리조합으로 활성화 되는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command)가 인가되면 내부컬럼신호(CASP6)를 활성화시켜 출력한다.The internal
내부지연 컬럼신호 생성부(30)는 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS), 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS), 칩 선택신호(/CS)의 논리조합으로 활성화 되는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command)가 인가되면 리드 레이턴시(Read Latency)를 반영한 제1 내부지연 컬럼신호(CASP10RD)를 생성하며, 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS), 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS), 칩 선택신호(/CS)의 논리조합으로 활성화 되는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command)가 인가되면 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영한 제2 내부지연 컬럼신호(CASP10WT)를 생성한다. 참고적으로 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)는 내부컬럼신호(CASP6)에 리드 레 이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 생성할 수도 있다.The internal delay column
활성화 신호 생성부(50)는 내부컬럼신호(CASP6)가 활성화 되어 입력되면 내부전압 활성화 신호(V_EN)를 활성화 시키고, 내부전압 발생부(60)는 내부전압 활성화 신호(V_EN)에 응답하여 내부전압(V_OUT)을 발생시키게 된다. 따라서 내부전압(V_OUT)이 사용되는 읽기동작 또는 쓰기동작 구간동안에 내부전압(V_OUT)이 생성되므로 전류소모를 최소화 할 수 있다. 도 3의 제2 실시예에서는 도 2의 제1 실시예와는 달리 내부지연 컬럼신호 생성부(30)의 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)를 이용하지 않고, 내부컬럼신호 생성부(40)의 내부컬럼신호(CASP6)를 이용하여 활성화 신호 생성부(50)를 제어한다. 즉 내부지연 컬럼신호(CASP10RD, CASP10WT)는 리드 레이턴시(Read Latency) 또는 라이트 레이턴시(Write Latency)를 반영하여 생성된 신호이므로, 내부컬럼신호(CASP6)보다 활성화 시점이 지연되는데, 동작의 안정성 측면을 고려한다면 활성화 시점이 빠른 내부컬럼신호(CASP6)를 이용하는 것이 더욱 바람직할 것이다.When the internal column signal CASP6 is activated and input, the
한편, 내부컬럼신호 생성부(40)를 자세히 살펴보면 다음과 같다.Meanwhile, the internal
도 4는 내부 컬럼신호 생성부의 실시예에 따른 회로도이다.4 is a circuit diagram according to an embodiment of an internal column signal generator.
도 4를 참조하면, 내부컬럼신호 생성부는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command) 인가시 활성화 되는 내부신호(CMD)를 출력하기 위한 커맨드 처리부(410)와, 클럭신호(CLK)를 지연시키기 위한 클럭지연부(420)와, 내부신호(CMD) 및 내부신호의 반전신호(/CMD)를 차동입력으로 하며 클럭지연부(420)에서 출력되는 신호에 응답하여 내부컬럼신호(CASP6)를 생성하기 위한 신호 생성부(430)로 구성된다.Referring to FIG. 4, the internal column signal generation unit may include a
여기에서 커맨드 처리부(410)는 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS)를 입력으로 하는 제1 인버터(INV1)와, 칩 선택신호(/CS)를 입력으로 하는 제2 인버터(INV2)와, 제1, 제2 인버터(INV1,INV2)의 출력신호 및 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS)를 입력으로 하는 부정논리곱 수단(NAND)과, 부정논리곱 수단(NAND)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제3 인버터(INV3)로 구성된다.The
커맨드 처리부(410)로 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command)가 인가되면 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS) 및 칩 선택신호(/CS)가 로우레벨로 활성화 되어 내부신호(CMD)가 하이레벨로 출력된다. 클럭지연부(420)는 내부신호(CMD)를 고려하여 클럭신호(CLK)를 일정시간 지연시켜 출력클럭(CLKD)을 출력하고, 신호 생성부(430)는 출력클럭(CLKD) 및 내부신호(CMD)에 응답하여 내부컬럼신호(CASP6)를 생성하게 된다.When a column sequence read command or a column sequence write command is applied to the
도 5는 내부 컬럼신호 생성부의 다른 실시예에 따른 회로도이다.5 is a circuit diagram according to another embodiment of an internal column signal generator.
도 5를 참조하면, 내부 컬럼신호 생성부는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command) 인가시 활성화 되는 내부신호(CMD)를 출력하기 위한 커맨드 처리부(510)와, 클럭신호(CLK)에 응답하여 내부신호(CMD)를 선택적으로 전달하기 위한 스위칭부(520)와, 클럭신호(CLK)에 응답하여 스위칭부(520)의 출력신호에 대응하는 내부컬럼신호(CASP6)를 출력하기 위한 출력부(530)로 구성된다.Referring to FIG. 5, the internal column signal generation unit may include a
여기에서 커맨드 처리부(510)는 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS)를 입력으로 하는 제1 인버터(INV1)와, 칩 선택신호(/CS)를 입력으로 하는 제2 인버터(INV2)와, 제1, 제2 인버터(INV1,INV2)의 출력신호 및 로우 어드레스 스트로브 신호(Row Address Strobe, /RAS)를 입력으로 하는 부정논리곱 수단(NAND1)과, 부정논리곱 수단(NAND1)에서 출력되는 신호를 입력으로 하는 제3 인버터(INV3)로 구성된다.The
또한, 스위칭부(520)는 클럭신호(CLK)를 입력으로 하는 인버터(INV4)와, 클럭신호(CLK) 및 인버터(INV4)의 출력신호(CLKB)에 응답하여 내부신호(CMD)를 출력하기 위한 트랜스미션 게이트(TG)로 구성된다.In addition, the
또한, 출력부(530)는 스위칭부(520)에서 출력되는 신호를 지연시키기 위한 지연부(531)와, 클럭신호(CLK) 및 지연부(531)의 출력신호를 입력으로 하는 부정논리곱 수단(NAND2)과, 부정논리곱 수단(NAND2)의 출력신호를 반전시키기 위한 인버터(INV7)로 구성된다. 여기에서 지연부(531)는 서로 직렬로 연결된 복수의 인버터(INV5,INV6)로 구성되었다.In addition, the
상기와 같이 구성되는 내부 컬럼신호 생성부는 커맨드 처리부(510)로 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 컬럼계열 라이트 커맨드(Write Command)가 인가되면 컬럼 어드레스 스트로브 신호(Column Address Strobe, /CAS) 및 칩 선택신호(/CS)가 로우레벨로 활성화 되어 내부신호(CMD)가 하이레벨로 출력된다. 스위칭 부(520)는 클럭신호(CLK)의 제어에 따라 내부신호(CMD)를 선택적으로 출력하고, 출력부(530)에서 최종적으로 내부컬럼신호(CASP6)를 출력하게 된다. 도 5는 내부 컬럼신호 생성부는 클럭신호(CLK)가 인가되고 두 개의 인버터(INV5, INV6)의 지연시간 이후에 바로 내부컬럼신호(CASP6)가 출력되므로, 도 4의 내부 컬럼신호 생성부에 비해서 내부컬럼신호(CASP6)의 생성시간이 빠르다는 장점이 있다.When the column sequence read command or the column sequence write command is applied to the
상술한 바와 같이 본 발명을 적용한 반도체 메모리 장치는 컬럼계열 리드 커맨드(Read Command) 또는 라이트 커맨드(Write Command)와 같은 커맨드 인가시 활성화되는 내부컬럼신호에 응답하여 내부전압 활성화 신호를 생성하고, 내부전압 활성화 신호에 응답하여 읽기동작 또는 쓰기동작 구간동안 사용되는 내부전압을 생성한다.As described above, the semiconductor memory device to which the present invention is applied generates an internal voltage activation signal in response to an internal column signal activated when a command such as a column series read command or a write command is applied. In response to the activation signal, an internal voltage generated during a read operation or a write operation period is generated.
이상, 본 발명의 실시예에 따라 구체적인 설명을 하였다. 본 발명의 기술적 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.In the above, the specific description was made according to the embodiment of the present invention. Although the technical spirit of the present invention has been described in detail according to the above preferred embodiment, it should be noted that the above embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, it will be understood by those skilled in the art that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
예컨대, 신호 및 회로의 활성화 상태를 나타내기 위한 액티브 하이(Active High) 또는 액티브 로우(Active Low)의 구성은 실시예에 따라 달라질 수 있다. 또한, 동일한 기능을 구현하기 위해 필요에 따라 트랜지스터의 구성은 변경될 수 있다. 즉, PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터의 구성은 서로 대체될 수 있을 것이 며, 필요에 따라 다양한 트랜지스터를 이용하여 구현될 수 있다. 또한, 동일한 기능을 구현하기 위해 필요에 따라 로직 게이트(LOGIC GATE)의 구성은 변경될 수 있다. 즉 부정논리곱 수단, 부정논리합 수단 등은 난드 게이트(NAND GATE), 노어 게이트(NOR GATE), 인버터(INVERTER) 등의 다양한 조합을 통해서 구성될 수 있을 것이다. 이러한 회로의 변경은 너무 경우의 수가 많고, 이에 대한 변경은 통상의 전문가라면 누구나 쉽게 유추할 수 있기에 그에 대한 열거는 생략하기로 한다.For example, the configuration of an active high or an active low to indicate an activation state of a signal and a circuit may vary according to embodiments. In addition, the configuration of the transistor may be changed as necessary to implement the same function. That is, the configurations of the PMOS transistor and the NMOS transistor may be replaced with each other, and may be implemented using various transistors as necessary. In addition, the configuration of the logic gate may be changed as necessary to implement the same function. That is, the negative logical means, the negative logical sum means, etc. may be configured through various combinations such as NAND GATE, NOR GATE, and INVERTER. Such a change in the circuit is too many cases, and the change can be easily inferred by a person skilled in the art, so the enumeration thereof will be omitted.
도 1은 종래기술의 반도체 메모리 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a semiconductor memory device of the prior art.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이다.3 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 4는 내부 컬럼신호 생성부의 실시예에 따른 회로도이다.4 is a circuit diagram according to an embodiment of an internal column signal generator.
도 5는 내부 컬럼신호 생성부의 다른 실시예에 따른 회로도이다.5 is a circuit diagram according to another embodiment of an internal column signal generator.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
410, 510 : 커맨드 처리부410, 510: command processing unit
430 : 신호 생성부430: signal generator
520 : 스위칭부520: switching unit
530 : 출력부530: output unit
도면에서 PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터는 각각 MPi, MNi (i=0,1,2, … ) 으로 표시함.In the figure, PMOS transistors and NMOS transistors are denoted by MPi and MNi (i = 0, 1, 2, ...), respectively.
Claims (17)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080138545A KR101034602B1 (en) | 2008-12-31 | 2008-12-31 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080138545A KR101034602B1 (en) | 2008-12-31 | 2008-12-31 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100079944A KR20100079944A (en) | 2010-07-08 |
| KR101034602B1 true KR101034602B1 (en) | 2011-05-12 |
Family
ID=42640973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080138545A Expired - Fee Related KR101034602B1 (en) | 2008-12-31 | 2008-12-31 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101034602B1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060089077A (en) * | 2005-02-03 | 2006-08-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Internal voltage generation control circuit and internal voltage generation circuit using the same |
-
2008
- 2008-12-31 KR KR1020080138545A patent/KR101034602B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060089077A (en) * | 2005-02-03 | 2006-08-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Internal voltage generation control circuit and internal voltage generation circuit using the same |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20100079944A (en) | 2010-07-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| AMND | Amendment | ||
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
St.27 status event code: N-2-6-B10-B15-exm-PE0601 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PJ0201 | Trial against decision of rejection |
St.27 status event code: A-3-3-V10-V11-apl-PJ0201 |
|
| PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-6-3-E10-E12-rex-PB0901 |
|
| B701 | Decision to grant | ||
| PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PB0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20140505 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20140505 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |