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「"recombination region"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "recombination region"に関連した英語例文

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"recombination region"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 8



例文

The n-type base region (2) has a recombination region (21) formed between the p-type base region (3) and a collector electrode (8), and the recombination region (21) acquires minority carriers accumulated around the recombination region (21) within the n-type base region (2) and improves the recovery property of the diode.例文帳に追加

N型ベース領域(2)は、P型ベース領域(3)とコレクタ電極(8)との間に形成された再結合領域(21)を備え、再結合領域(21)は、N型ベース領域(2)内で再結合領域(21)の周辺に蓄積された少数キャリアを捕獲し、ダイオードのリカバリー特性を改善する。 - 特許庁

The recombination region (5) functions as a carrier capture region controlling the lifetime of carriers in the specified depth region (15) of the semiconductor substrate (1).例文帳に追加

再結合領域(5)は、半導体基板(1)の所定の深さ領域(15)でキャリアのライフタイムを制御するキャリア捕獲領域となる。 - 特許庁

The optical carrier recombination region is formed in a doping dipole structure having an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer adjacent to each other.例文帳に追加

光キャリア再結合領域は、n型半導体層とp型半導体層とが隣接して成るドーピングダイポール構造で構成される。 - 特許庁

An optical carrier recombination region is formed within a semiconductor optical absorption layer 54 in a photoconductive element wherein the semiconductor optical absorption layer 54 and a semiconductor layer 55 are formed on a semiconductor substrate 52.例文帳に追加

半導体基板52上に半導体光吸収層54、半導体層55が形成される光伝導素子において、半導体光吸収層54内部に光キャリア再結合領域が形成される。 - 特許庁

例文

However, since the recombination region (21) does not reach a part between and beneath the adjoining p-type base region (3) in the n-type base region (2) for a current path, a forward voltage of the IGBT is not increased.例文帳に追加

しかしながら、再結合領域(21)は、電流通路となるN型ベース領域(2)内の隣接するP型ベース領域(3)の間及びその下方には達しないため、IGBTの順方向電圧を増加させない。 - 特許庁


例文

An oxygen-rich layer (4) having an oxygen concentration higher than the other depth regions (16 and 17) of a semiconductor substrate (1) is formed to the specified depth region (15) of the semiconductor substrate (1), and the semiconductor substrate (1) is irradiated with a radiation and a recombination region (5) is formed to the oxygen-rich layer (4).例文帳に追加

半導体基板(1)の所定の深さ領域(15)に半導体基板(1)の他の深さ領域(16,17)より酸素濃度の高い酸素富裕層(4)を形成し、半導体基板(1)に放射線を照射して、酸素富裕層(4)に再結合領域(5)を形成する。 - 特許庁

The doping concentration of the exposed top portion of the body region can be increased by ion implantation to provide a low-resistance contact to the body region, or a recombination region having a high-density of crystalline defects can be formed.例文帳に追加

ボディ領域への低抵抗接触を可能にするために、イオン注入によってボディ領域の露出された最上部部分のドーピング濃度を高めることができるか、または高密度の結晶欠陥を有する再結合領域を形成することができる。 - 特許庁

例文

When the oxygen-rich layer (4) is formed, the semiconductor substrate (1) is irradiated with the radiation and atomic vacancies are formed among the crystal lattices of the semiconductor substrate (1), the recombination region (5) is formed to the oxygen-rich layer (4) by composite faults formed by bonding oxygen and the atomic vacancies.例文帳に追加

酸素富裕層(4)を形成した後に、半導体基板(1)に放射線を照射して、半導体基板(1)の結晶格子間に原子空孔を形成すると、酸素と原子空孔とが結合して成る複合欠陥により酸素富裕層(4)に再結合領域(5)が形成される。 - 特許庁




  
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