例文 (18件) |
"ion deposition"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18件
ION DISCHARGING MECHANISM AND ION DEPOSITION MASS SPECTROGRAPH例文帳に追加
イオン放出機構及びイオン付着質量分析装置 - 特許庁
To provide an amino group-containing copolymer having the iron ion deposition preventing ability.例文帳に追加
鉄イオン沈着防止能を有するアミノ基含有共重合体を提供する。 - 特許庁
The DLC film 86 is provided on the die head body 85 by an ion deposition method.例文帳に追加
DLC膜86は、イオン蒸着法によりダイヘッド本体85に設けられる。 - 特許庁
To provide an amino group-containing copolymer having sufficient iron ion deposition prevention ability.例文帳に追加
十分な鉄イオン沈着防止能を有するアミノ基含有共重合体を提供。 - 特許庁
An in situ radical-generating reactant is also introduced into the reactor together with a cationic ion deposition source.例文帳に追加
原位置ラジカル発生反応物がまた、カチオン性イオン堆積源と共に反応器内に導入される。 - 特許庁
To provide a polymer having sufficient iron ion deposition prevention ability as compared with a conventional polymer, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
従来の重合体と比較して十分な鉄イオン沈着防止能を有する重合体およびその製造方法を提供することを目的とする - 特許庁
In the dies for a rheometer, the surface in contact with a sample is treated with at least either of ion deposition treatment or ion implantation treatment.例文帳に追加
レオメータ用ダイスは、その、少なくともサンプルに接触する表面に、イオン成膜処理、およびイオン注入処理のうち少なくとも一方の処理を施した。 - 特許庁
On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Dを施す。 - 特許庁
A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりDLC−Si薄膜Dを施す。 - 特許庁
The cationic ion deposition source is introduced for a time sufficient for depositing a cationic ion-oxide or a cationic-ion nitride film simultaneously on the plurality of wafer substrates.例文帳に追加
カチオン性イオン堆積源は、複数のウェーハ基板上にカチオン性イオン酸化膜又はカチオン性イオン窒化膜を同時堆積させるのに十分な時間にわたって導入される。 - 特許庁
To provide a polymer having iron ion deposition prevention ability in order to prevent yellowing of a fiber caused by adsorption of the iron ion in washing water to the fiber, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
洗濯水中の鉄イオンが繊維に吸着することによる繊維の黄ばみを防ぐため、鉄イオン沈着防止能を有する重合体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a heavy metal ion scavenger, a peroxide stabilizer, a fiber-treating agent and a bleaching agent for papermaking which are excellent in performances in preventing iron ion deposition and stabilizing hydrogen peroxide.例文帳に追加
鉄イオン沈着防止能、過酸化水素安定化能に対しても優れている重金属捕捉剤、過酸化物安定化剤、繊維処理剤、製紙用漂白剤を提供する。 - 特許庁
To provide an ion deposition mass spectrograph capable of inhibiting an occurrence of a variation of a potential difference between an ion discharging body and a standard voltage impressing portion and stabilizing an iron discharging amount and conducting a high precision mass spectrometry.例文帳に追加
イオン放出体と基準電圧印加部の間の電位差の変動の発生を抑制し、イオン放出量を安定化させ、精度の高い質量分析を行えるイオン付着質量分析装置を提供する。 - 特許庁
The first alignment layer 41 is formed from e.g. a polyimide alignment layer having rubbing density of ≤200 and the second alignment layer 42 is formed by an ion deposition method using an acrylic monomer as a deposition material.例文帳に追加
第1配向膜層41は例えばラビング密度200以下のポリイミド配向膜により形成され、第2配向膜層42は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。 - 特許庁
The ion deposition mass spectrograph is provided with a discharging body 12 and a voltage impressing portion 11 for impressing a bias voltage on the discharging body and is equipped with an ion source which heats the discharging body and discharges metallic ion of a positive electric charge and deposits the metallic ion on detected gas and ionizes the detected gas.例文帳に追加
放出体12と、この放出体にバイアス電圧を印加する電圧印加部11とを有し、放出体を加熱して正電荷の金属イオンを放出させ、金属イオンを被検出ガスに付着させて被検出ガスをイオン化するイオン源を備えたイオン付着質量分析装置である。 - 特許庁
The three-dimensional plasma-based ion implantation/deposition method comprises a step for forming an ion implantation layer on the surface of the packing body 1 by ion implantation of a hydrocarbon gas and a fluorine gas in plasma and a step for forming the diamond-like carbon thin film on the ion implantation layer by ion deposition of the hydrocarbon gas and the fluorine gas in plasma.例文帳に追加
三次元プラズマイオン注入成膜法は、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン注入によりパッキン本体1の表面にイオン注入層を形成する工程と、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン成膜によりイオン注入層上にダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程とを含む。 - 特許庁
An anodized aluminum film 11 formed by anodized aluminum film treatment, a gradient layer 12 formed with a specific element in a gradient form by plasma ion implantation treatment on a surface layer side of the anodized aluminum film 11, and a DLC layer 13 formed by plasma ion deposition treatment on the surface layer side of the gradient layer 12 are formed on the surface of the main body 10 of the parts made of an aluminum alloy.例文帳に追加
アルミニウム合金製の部品本体10表面には、アルマイト処理により形成されたアルマイト11と、アルマイト11の表層側にプラズマイオン注入処理により特定の元素が傾斜状に形成された傾斜層12と、傾斜層12の表層側にプラズマイオン成膜処理により形成されたDLC層13とが形成されている。 - 特許庁
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