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「粒粒」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索
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粒粒の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 49990



例文

流体微化ノズル、流体微化ノズル装置、流体微化装置例文帳に追加

FLUID ATOMIZATION NOZZLE, FLUID ATOMIZATION NOZZLE DEVICE, AND FLUID ATOMIZATION DEVICE - 特許庁

の袋詰め装置例文帳に追加

GRAIN BAGGING DEVICE - 特許庁

と研削工具例文帳に追加

ABRASIVE GRAIN AND GRINDING TOOL - 特許庁

層1pのWC子10pは、平均径1μm超3μm未満、粗層1gのWC子10gは、平均径1μm超3μm以下で、WC子10pよりも大きい。例文帳に追加

The mean particle diameter of WC particles 10p of the fine grain layer 1p is more than 1 μm and less than 3 μm, and the mean particle diameter of WC particles 10g of the coarse grain layer 1g is more than 1 μm and 3 μm or less. - 特許庁

例文

体処理装置例文帳に追加

POWDER MATERIAL TREATMENT DEVICE - 特許庁


例文

コロイド子配列体例文帳に追加

COLLOIDAL PARTICLE ARRANGED BODY - 特許庁

顔料複合化例文帳に追加

PIGMENT COMPOSITE PARTICLE - 特許庁

樹脂子分散液例文帳に追加

RESIN PARTICLE DISPERSION LIQUID - 特許庁

結晶性樹脂例文帳に追加

CRYSTALLINE RESIN PARTICLE - 特許庁

例文

この子は、均一な径を有する真球状の子が好ましい。例文帳に追加

As the particles, spherical particles with a uniform particle diameter are preferable. - 特許庁

例文

荷電子ビーム処理例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING - 特許庁

状酸化鉄凝集子及び該凝集子を含む粉末例文帳に追加

GRANULAR IRON OXIDE AGGREGATED PARTICLE AND POWDER CONTAINING THE AGGREGATED PARTICLE - 特許庁

状酸化鉄凝集子及び該凝集子を含む粉末例文帳に追加

PARTICULATE IRON OXIDE AGGREGATED PARTICLES AND POWER CONTAINING SAME - 特許庁

状炭化組成物例文帳に追加

GRANULAR CARBONIZED COMPOSITION - 特許庁

無機子凝集体例文帳に追加

INORGANIC PARTICLE AGGREGATE - 特許庁

体散布装置例文帳に追加

GRANULAR POWDER SPRAYING APPARATUS - 特許庁

体供給機例文帳に追加

POWDER AND GRAIN FEEDER - 特許庁

子線治療装置例文帳に追加

PARTICLE BEAM TREATMENT DEVICE - 特許庁

荷電子ビーム装置。例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM - 特許庁

子画像処理装置例文帳に追加

PARTICLE IMAGE PROCESSOR - 特許庁

体混合装置例文帳に追加

PARTICULATE MIXING APPARATUS - 特許庁

誘電材子付ニッケル子及びその誘電材子付ニッケル子の製造方法例文帳に追加

NICKEL PARTICLE WITH DIELECTRIC PARTICLE AND METHOD OF PRODUCING THE NICKEL PARTICLE WITH DIELECTRIC PARTICLE - 特許庁

体処理装置例文帳に追加

GRANULAR BODY TREATMENT APPARATUS - 特許庁

子線治療システム例文帳に追加

CORPUSCULAR BEAM TREATMENT SYSTEM - 特許庁

子検出装置例文帳に追加

FINE PARTICLE DETECTION APPARATUS - 特許庁

接着性樹脂例文帳に追加

ADHESIVE RESIN PARTICLE - 特許庁

シード子およびシード子の製造方法、並びに重合体例文帳に追加

SEED PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND POLYMER PARTICLE - 特許庁

物振出し容器例文帳に追加

POWDER/GRAIN SHAKER - 特許庁

体選別装置例文帳に追加

PARTICULATE SORTING APPARATUS - 特許庁

子ビーム処理装置例文帳に追加

PARTICLE BEAM PROCESSING DEVICE - 特許庁

子の成長方法、微子の成長装置および微例文帳に追加

GROWTH METHOD OF FINE PARTICLE, GROWTH APPARATUS OF FINE PARTICLE, AND FINE PARTICLE - 特許庁

粉体の造方法例文帳に追加

GRANULATION METHOD OF POWDER - 特許庁

子線治療装置例文帳に追加

CORPUSCULAR BEAM TREATMENT APPARATUS - 特許庁

焼結用擬似例文帳に追加

QUASI-PARTICLE FOR SINTERING - 特許庁

子膜形成用の子分散液、及び子膜形成方法例文帳に追加

PARTICLE DISPERSION FOR FORMING PARTICLE FILM, AND PARTICLE FILM FORMING METHOD - 特許庁

ナノ子層積層体例文帳に追加

NANOPARTICLE LAYER LAMINATE - 特許庁

バインダーレス造システム例文帳に追加

GRANULATING SYSTEM WITHOUT USING BINDER - 特許庁

前記第1の子は、研磨中に小子径化される研磨子であり、前記第2の子は、前記第1の子を小子径化するアシスト子である。例文帳に追加

The first particles are polishing particles with the particle diameter becoming small during polishing, and the second ones are assist particles for reducing the diameter of the first particle. - 特許庁

導電微子の平均径は、1nm〜50nmの微子である。例文帳に追加

The average particle size of the conductive particles is 1 nm to 50 nm. - 特許庁

径かつ狭い度分布を有する子が得られる子作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing particles obtaining particles having small particle size and narrow particle size distribution. - 特許庁

蛍光半導体例文帳に追加

FLUORESCENT SEMICONDUCTOR PARTICLE - 特許庁

半導体超微例文帳に追加

ULTRAFINE SEMICONDUCTOR PARTICLE - 特許庁

二重皿型造例文帳に追加

DOUBLE TUMBLING DISK GRANULATOR - 特許庁

ナノ子複合ポリマー例文帳に追加

NANO-PARTICLE COMPOSITE POLYMER - 特許庁

無機多孔性微例文帳に追加

INORGANIC POROUS FINE PARTICLE - 特許庁

ナノ子分散方法例文帳に追加

NANOPARTICLE DISTRIBUTION METHOD - 特許庁

回転パン型造機と該造機を用いる造物の製造方法例文帳に追加

ROTARY PAN TYPE GRANULATOR, AND PRODUCTION OF GRANULAR MATERIAL USING THE SAME - 特許庁

研磨用砥スラリー例文帳に追加

GRINDING PARTICLE SLURRY FOR POLISHING - 特許庁

ナノ子インスリン製剤例文帳に追加

NANOPARTICULATE INSULIN FORMULATION - 特許庁

例文

(b)粗径(R)と微径(r)との比(R/r)は、4≦(R/r)≦30である。例文帳に追加

(b) The ratio (R/r) of the particle diameter (R) of the coarse particle to the particle diameter (r) of the fine particle is 4≤(R/r)≤30. - 特許庁




  
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