| 例文 |
P-PSTの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
A plate stage PST for holding a plate P includes a substrate table 14 for holding the plate P, and a mobile table 15 for holding the substrate table 14.例文帳に追加
プレートＰを保持するプレートステージＰＳＴは、プレートＰを保持する基板テーブル１４と基板テーブル１４を保持する移動テーブル１５とを含んで構成される。 - 特許庁
A first stage PST has a first part 22 with a movable part 16b of a drive mechanism 16, and a second part for holding an object (P), and the first stage PST is driven in a y-direction by the drive mechanism 16.例文帳に追加
第１ステージＰＳＴは、駆動機構１６の可動部１６ｂが設けられた第１部分２２と、物体Ｐを保持する第２部分１９とを有し、駆動機構１６によってＹ軸方向に駆動される。 - 特許庁
The received wafer P is loaded by the arm 46 on a wafer stage PST in a specified direction, that is, the direction which is convenient to an aligner.例文帳に追加
そして、その受け取った基板Ｐがアーム４６により基板ステージＰＳＴ上に所定の向き、すなわち露光装置にとって都合の良い向きでロードされる。 - 特許庁
The exposure apparatus EX is equipped with: a substrate stage PST having a substrate holder 52 for holding the substrate P and movable while holding the substrate P on the substrate holder 52; a detector for detecting whether the substrate P or a dummy substrate is held by the substrate holder 52; and a controller CONT for changing a movable area of the substrate stage PST according to the detection results of the detector.例文帳に追加
露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 - 特許庁
The exposure device EX for irradiating an exposure light EL on a substrate P through the liquid LQ for exposing the substrate P has a substrate holder PH that holds the substrate P; a substrate stage PST that is movable with a substrate P held on the substrate holder PH; and a temperature control system 60 that regulates the temperature of the substrate holder PH.例文帳に追加
露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。 - 特許庁
A substrate stage PST to support the substrate P, a liquid-supplying apparatus 1 to supply the liquid 50 to an image face side of the projection lens system PL, and a focus-leveling detection system 14 to detect an face information of the surface of the substrate P, without going through the intermediary the liquid 50 via are provided.例文帳に追加
基板Ｐを保持する基板ステージＰＳＴと、投影光学系ＰＬの像面側に液体５０を供給する液体供給装置１と、基板Ｐ表面の面情報を液体５０を介さずに検出するフォーカス・レベリング検出系１４とを備えている。 - 特許庁
The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加
露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁
A substrate P is held by a substrate holder PH on a substrate stage PST, an immersed region AR2 is formed on the image plane side of the projection optical system PL by using a liquid 1 supplied from a liquid supplying mechanism 10, and the substrate P is exposed by exposure light EL via the projection optical system PL and the immersed region AR2.例文帳に追加
基板ステージＰＳＴ上の基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持し、液体供給機構１０から供給される液体１を用いて投影光学系ＰＬの像面側に液浸領域ＡＲ２を形成し、露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２とを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁
This projection aligner EX has a substrate stage PST that moves the substrate P in the optical-axis direction of the projection optical system PL during exposure, and a controlling device CONT that sets at least one of a position in a Z direction on the substrate P and the travel amount for moving the position during exposure for each exposure of the plurality of patterns PA.例文帳に追加
露光装置ＥＸは、露光中に投影光学系ＰＬの光軸方向に基板Ｐを移動させる基板ステージＰＳＴと、複数のパターンＰＡのそれぞれの露光毎に、基板ＰのＺ方向の位置と、この位置を露光中に移動させる移動量との少なくとも一方を設定する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|