Pre-implantationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
Is a pre-implantation human embryo a human being? 例文帳に追加
ヒトの着床前胚は人間だろうか。 - Weblio英語基本例文集
In a pre-amorphous process, an amorphous region is formed in a semiconductor region by performing the ion implantation of a IV group element, or an ion implantation of at least any one of arsenic (As), phosphorous (P), halogen, and inert gas elements, or an ion implantation under the conditions of a low temperature lower than -10°C.例文帳に追加
半導体領域内に、プレアモルファス工程では、IV族元素のイオン注入、又はヒ素(As),リン(P),ハロゲン元素及び不活性ガス元素のうち少なくともいずれか1つのイオン注入、又は−10℃よりも低い低温条件でイオン注入を行なってアモルファス領域を形成する。 - 特許庁
In this method, an impurity injection activation processing device 26 where a reduced- pressure RTP(Rapid Thermal Processing) device 1 and an ion implantation device 2 are connected with a wafer transfer chamber 28 is used, and the silicon substrate is subjected to a series of treatments composed of pre-treatment, ion implantation, and annealing.例文帳に追加
本方法では、減圧型RTP装置1とイオン注入装置2がウェハ搬送室28で連結された不純物注入活性化処理装置26を用い、シリコン基板を大気に触れさせることなく、前処理、イオン注入、アニールの一貫処理を行う。 - 特許庁
After the pre-amorphous step, at least one of the steps of performing an ion implantation of boron into the amorphous region or of converting the amorphous region to a silicide region is performed.例文帳に追加
プレアモルファス工程の後に、前記アモルファス領域にボロンのイオン注入を行なう工程,又は前記アモルファス領域をシリサイド化する工程のうち少なくともいずれか一方の工程を行なう。 - 特許庁
A part of the silicide layer 6 directly under the contact hole is turned amorphous through an ion implantation method 13, by which silicide is lessened in wet resistance, and silicide directly under the contact hole is removed in a self- aligned manner, after silicide is cleaned and pre-treated before polysilicon is grown.例文帳に追加
イオン注入法13により、コンタクト孔直下部分のシリサイド層6をアモルファス化することにより、シリサイドのウェット耐性を低下させ、更に、ポリシリコンの成長前にシリサイドの洗浄と前処理を施すした後に、コンタクト孔直下のシリサイドが自己整合的に除去される。 - 特許庁
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