「Pattern Position Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an ink pattern at a prescribed position on a base with high accuracy and to obtain printed matter of high precision.例文帳に追加

基材上の所定の位置に高精度でインキパターンを設けることが可能となり、高精細な印刷物をを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a bonding method capable of forming a pattern of an adhesive layer on part of a bonding surface in a high position accuracy and a high thickness accuracy and capable of providing high productivity.例文帳に追加

接着面の一部に接着剤層のパターンを位置精度及び厚み精度を高く形成することができると共に生産性を高く得ることができる接着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for setting and registering reference pattern, with which the position of a reference pattern can be exactly set and registered even when thinning processing is performed, and a pattern matching recognizing method for improving recognition accuracy.例文帳に追加

間引き処理を行った場合でも基準パターンの位置を正確に設定登録が可能な基準パターン設定登録方法と認識精度を向上させるパターンマッチング認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Conventionally, a difference of pattern density/position near a pattern to be measured has been an error factor, however, this method improves measurement accuracy since the information of the pattern density/position within a necessary and sufficient area is reflected to the library.例文帳に追加

従来，計測対象パターン近傍のパターン密度／配置の違いが断面形状計測の誤差要因となっていたが，この方法によれば，必要十分な領域範囲内でのパターン密度／配置の情報がライブラリに反映されるため，計測精度が向上する。 - 特許庁

To provide a pattern coater that can intermittently apply a highly adhesive material of a specified shape between sheet materials in a specified position with a high accuracy and a high efficiency to form an arbitrarily shaped pattern.例文帳に追加

所定形状の高粘度材をシート状物間の所定の位置に、任意の形状で正確かつ効率良く間歇塗布できるパターン塗工装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an aligner which suppresses misalignment of an exposure position from a desired exposure pattern and which can form an exposure region with high accuracy according to a desired exposure pattern.例文帳に追加

所望の露光パターンに対して露光位置がずれてしまうことを抑制し、所望の露光パターンに従って高精度で露光領域を形成することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively assisting drawing of a pattern at a predetermined position on the surface of a stereoscopic object by an operator in high accuracy.例文帳に追加

安価に、しかも、高い精度で、作業者が立体物の表面の所定の位置に模様を描画するのを支援する方法を提供する。 - 特許庁

In addition, substrate thickness can be accurately set without being affected by substrate construction, and the film thickness and position accuracy of the pattern can be accurately controlled.例文帳に追加

また、基板の収縮による影響はなく、基板厚を正確に設定できるとともに、パターンの膜厚や位置精度を正確に制御できる。 - 特許庁

To provide a mask having both improved position accuracy of a pattern and easiness of alignment, an exposure method and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンの位置精度の向上と、アライメントの容易性を兼ね備えたマスク、露光方法、半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a sawing machine which is improved in size reduction and simplification of a pattern generation mechanism, reduction of manufacture cost, rotational position accuracy of needle swing cam cluster and buttonhole cam.例文帳に追加

模様発生機構の小型化且つ簡単化、製作コストの低減化、針振りカム群やボタンホールカムの回転位置精度の向上を図ること。 - 特許庁

To provide a means for pattern matching which obtains position selection accuracy sufficient for measurement and achieves high-speed processing even when size and shape change and similar patterns coexist in pattern matching for specifying a measuring position.例文帳に追加

測定位置を特定するためのパターンマッチングにおいて、大きさや形状が変動し、さらに類似のパターンが混在する場合でも、測定に十分な位置選択精度が得られ、なおかつ処理が高速なパターンマッチングの手段を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board which enables an optical reader to recognize the position of a conductor pattern representing the reference position of its board body with higher accuracy and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

基板本体の基準位置を表す導体パターンに対する光学読取装置での位置認識精度を高めることが可能な配線基板および、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable to suppress a lowered pattern connection accuracy among fields caused by lowered pattern position accuracy caused by charged up of resist, in the charged particle drawing technology.例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画技術において、レジストのチャージアップによるパターン位置精度の低下に起因する隣接するフィールド間のパターン接続精度の低下を抑制可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a two-dimensional code generation detecting system, a two-dimensional code generator and a pattern position detector improving accuracy in detecting a predetermined pattern of a two-dimensional code and detecting the position of the predetermined pattern at high speed while suppressing power consumption.例文帳に追加

２次元コードの所定パターンの検出精度を向上させるとともに、消費電力を抑制しつつ高速に当該所定パターンの位置を検出することができる２次元コード生成検出システム、２次元コード生成装置及びパターン位置検出装置を提供する。 - 特許庁

The width dimension of the sealing portion 16 can be suppressed, and a liquid crystal panel 11 can be obtained by cutting with high accuracy from the scheduled cutting line along the segmented position by the auxiliary pattern 39.例文帳に追加

シール部16の幅寸法を抑制でき、かつ、補助パターン39によって分断した位置に沿って割断予定線から精度よく液晶パネル11を割断できる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and a charged particle beam aligner in which degradation of pattern accuracy dependent on the error in the Z axis position of a wafer stage can be prevented.例文帳に追加

ウェハステージのＺ軸方向位置の誤差に依存するパターン精度の劣化を防止する荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of position accuracy measurement patterns 16 comprising openings are formed in the circumference of the pattern formation inhibition region 19 within a light-shielding zone 14.例文帳に追加

遮光帯領域１４内のパターン形成禁止領域１９の周囲に、開口部からなる複数の位置精度測定用パターン１６が形成されている。 - 特許庁

The radicals and ions are supplied periodically by a plurality number of times, even after the mask has been completed, thus maintaining pattern position accuracy over a long time.例文帳に追加

ラジカルやイオンの供給をマスクの完成後も複数回、定期的に行うことによって、パターン位置精度を長期間に渡って保つことができる。 - 特許庁

The position accuracy of a mask used to form the second group of the repeat pattern is judged based on the decided second and first pitches.例文帳に追加

第２組の繰り返しパターンを形成するのに用いられるマスクの位置精度は、その決定された第２ピッチ及び第１ピッチに基づいて判断される。 - 特許庁

To provide a latent image carrier where an area having different characteristic from that of the periphery can be formed in an optional pattern with good positioning accuracy and a mark for positioning, a pattern for correcting an exposing dot position or the like can be formed.例文帳に追加

周囲と特性の異なる領域を任意のパターンで位置精度良く作成可能であり、位置決め用マークや露光ドット位置補正用パターン等を作成可能とした潜像担持体を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitive touch panel capable of detecting an input operation position with high accuracy even if an input operation plane becomes large and the resistance value of a detection electrode pattern or the wiring pattern thereof is changed.例文帳に追加

入力操作面が大型化し、検出電極パターンやその配線パターンの抵抗値が変動しても、精度良く、入力操作位置を検出可能な静電容量方式タッチパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid-repellent monolayer pattern forming method using no glass mask and excellent in pattern forming accuracy and reproducibility of position and to provide a pattern of a semiconductor, a metal or the like formed using the monolayer pattern, an electro-optic device manufactured using the formed pattern and an electronic machine with the electro-optic device.例文帳に追加

ガラスマスクを使用せず、しかもパターン形成精度や位置の再現性の優れた撥液性単分子層のパターン形成方法、及びその単分子層パターンを用いて形成する半導体、金属などのパターン、更にそれを用いて製造される電気光学装置、及びこの電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

Since the connection conductor pattern 25 is not formed as a conductor on the side of the antenna block 10 but formed as a conductor on the mounting substrate 20, the connection conductor pattern 25 is not influenced by printing precision of a conductor pattern on a base 11 and position accuracy between the connection conductor pattern 25 and the ground pattern 22 is sufficiently secured.例文帳に追加

接続導体パターン２５がアンテナブロック１０側の導体ではなく、実装基板２０上の導体として形成されているため、基体１１上の導体パターンの印刷精度の影響を受けることがなく、接続導体パターン２５とグランドパターン２２との間の位置精度を十分に確保することができる。 - 特許庁

To provide a method for confirming pattern position accuracy by a proximity exposure device for manufacture of a color filter, to provide a data value with high pattern position accuracy at the end of exposure by using the proximity exposure device using the same method, and to provide the data value which is reliable.例文帳に追加

カラーフィルタの製造において、プロキシミティ露光装置により、パターン位置精度を確認する方法を提供することであり、当該方法を用いたプロキシミティ露光装置を用いることにより、露光終了時にパターン位置精度の高いデータ値が提供され、且つ信頼性の高いデータ値が提供されることである。 - 特許庁

To detect a position of an alignment mark on a mask and a position of an alignment mark in a base pattern of a substrate with high accuracy by acquiring sharp images of the alignment mark on the mask and of the alignment mark in the base pattern of the substrate and carrying out an image recognition process.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

To provide a position detecting apparatus and its method having high accuracy by compensating for a pattern position detected from information of dislocation caused by an aberration in an optical system or an error in manufacturing.例文帳に追加

光学系の収差、製造誤差等に起因する位置ずれ情報に基づいて検出されたパターン位置を補正し、高精度にパターン位置を検出できる装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a light irradiation device which gradually can change scanning pattern of a laser beam, while compensating error in accuracy of position detecting element to enable correct position control of an actuator.例文帳に追加

レーザビームのスキャンパターンを徐々に変更することができ、且つ位置検出素子の精度誤差を補正して正確なアクチュエータの位置制御を行うことができる光照射装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter which can be manufactured in a simple process, in which position accuracy for a substrate of an alignment mark is high and which can enhance alignment mark pattern formation accuracy when ink is ejected.例文帳に追加

簡単な工程で作製することができ、アライメントマークの基板に対する位置精度が高く、インクを吐出する際のアライメントマークパターン形成精度を高めることができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording apparatus capable of recording without shift in a ruled mark or color shift, which reduces influences on detection accuracy and adjustment accuracy of an impact position and improves impact accuracy even when a disturbance is superimposed on a detection result of a registration adjustment pattern.例文帳に追加

レジスト調整パターンの検出結果に外乱が重畳された状態においても、検出精度ひいては着弾位置調整精度への影響を減少させ、着弾精度を向上し、罫線ずれや色味ずれのない記録が可能な記録装置を実現すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing the influence of the moving speed fluctuation of a carriage in the case of calculating a pattern-to-pattern distance according to a time, and enhancing accuracy in correcting shifting of a landing position.例文帳に追加

パターン間の距離を時間に基づいて算出するようにした場合におけるキャリッジの移動速度変動の影響を低減して、着弾位置ずれ補正精度を高めることができる画像形成装置の提供。 - 特許庁

To increase an accuracy of joining transfer patterns together on an object whereon the patterns are transferred by determining a function for deciding the position of each partial transfer pattern on a transfer mask and then transferring an image of each partial transfer pattern according to the function.例文帳に追加

転写マスク上の部分転写パターンの位置を定める関数を決定し、その関数に基づいて部分転写パターンの像を転写することで被転写物上の転写パターンの繋ぎ精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a production method for photo mask, with which desired dimension or position accuracy is provided with high yield in respect to the mask patterns of different intra-plane apertures or pattern densities.例文帳に追加

面内の開口率やパターン密度が異なるマスクパターンに対して、収率良く所望の寸法精度や位置精度を得るフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner for exposing a pattern onto a wafer with high accuracy by calculating the Abbe error of a wafer stage accurately and correcting the irradiating position of an electron beam.例文帳に追加

ウェハステージのアッベ誤差量を正確に算出し、電子ビームの照射位置を補正することにより、ウェハにパターンを精度良く露光する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

Even when a measurement position of the image taking-in sensor 3 toward the printing plate pattern changes, calculated area ratio does not vary, thereby achieving measurement with high accuracy.例文帳に追加

刷版パターンに対する画像取り込みセンサ３の計測位置が異なっても、算出する面積率が変動しない為、高精度に測定することが可能である。 - 特許庁

To detect a position with high accuracy without executing pattern matching in a rotational direction even when a detection target is disposed in an attitude including displacement in the rotational direction.例文帳に追加

検出対象が回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている場合にも、回転方向のパターンマッチングを行うことなく、高精度の位置検出を行う。 - 特許庁

To maximally restrain a design change caused by a change in a shift pattern, by stabilizing a detection result by further restraining a variation in position detection accuracy.例文帳に追加

位置検出精度のばらつきをより一層抑制して検出結果の安定化を図るとともに、シフトパターンの変更に伴う設計変更をできるだけ抑制する。 - 特許庁

Then the mask distortion caused by the electron beam exposure system for mask making is evaluated by measuring the posional distortion of the resist pattern in the position accuracy evaluation mark 40 of the etching mask.例文帳に追加

次いで、エッチングマスクの位置精度評価マーク４０のレジストパターンの位置ずれを測定することにより、マスク作製用電子線露光装置に起因するマスク歪みを評価する。 - 特許庁

To simplify a fabricating process by performing a patterning process without using a photolithography process, and to form a thin film pattern at a home position by improving the accuracy of alignment.例文帳に追加

ホト工程を使用しないでパターニング工程を遂行し製造工程を単純化すると共にアラインメントの正確性を向上させて薄膜パターンを定位置に形成させる。 - 特許庁

To provide a recorder capable of acquiring a recording position adjusting value without bothering a user by reading out a recording position adjusting pattern recorded on a recording medium and capable of optimally adjusting the recording position by reading out the recording position adjusting pattern with high accuracy, and to provide a method for setting the recording position adjusting value and a recording method.例文帳に追加

記録媒体に記録した記録位置調整用パターンを読み取ることによって、ユーザを煩わすことなく、記録位置を調整するための調整値を取得することができ、しかも記録位置調整用パターンを高精度に読み取って、記録位置を最適に調整することができる記録装置、記録位置調整値の設定方法、および記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner capable of carrying out exposure at high accuracy, by carrying out a relative alignment between a projection position of an exposure pattern of a projection optical system and a detection position of a position detection optical system, without having to move the position detection optical system on a rear surface side.例文帳に追加

、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive substrate which is high in a transparent conductive film pattern shape and a position accuracy of a metallic wiring pattern even in a conductive substrate whose manufacturing process is reviewed and on which the transparent conductive film pattern shape is not conspicuous, a method for manufacturing this conductive substrate, and a touch panel.例文帳に追加

製造工程を見直し、透明導電膜のパターン形状が目立たない導電性基板においても、透明導電膜パターン形状と金属配線パターンの位置精度が高い導電性基板およびその製造方法並びにタッチパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a new electronic component manufacturing method enabling reduction of the number of steps of overprinting, precise overprinting pattern position accuracy (alignment accuracy), and lamination without substantial level difference so as to improve the productivity and the size accuracy, and solve the problem of missing/defects.例文帳に追加

重ね印刷工数の低減、精密な重ねパターン位置精度（アラインメント精度）および、実質的に無段差の積層を可能とすることにより、生産性の向上、寸法精度の向上、欠損・欠陥解消を可能とする新規な電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of a starting position of drawing in a circumference direction in each position in a radial direction of each region when a hard disk pattern is drawn by electron beam scanning, the hard disk pattern including a plurality of servo regions and data regions between the servo regions in an arc form provided from the center side to the outside of the disk.例文帳に追加

中心側から外側に向けて円弧状に設けられる複数のサーボ領域と該サーボ領域間のデータ領域からなるハードディスクパターンを電子ビーム走査により描画する際の、各領域の半径方向位置毎の周方向描画開始位置の精度を向上させる。 - 特許庁

By the servo pattern recorder, a positioning accuracy after the seeking operation is judged on the basis of a gain adjusted PES according to the position (deviation) of the reproduction element 132 with respect to the track, thereby a propriety of the writing of servo pattern is decided.例文帳に追加

サーボパターン記録装置は、再生素子１３２のトラックに対する位置（ずれ）に応じてゲインを調整したＰＥＳに基づいて、シーク動作後の位置決め精度を判断し、これによりサーボパターンの書込みの可否を決定する。 - 特許庁