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Slg.を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
This can allow for (secure an offset of) the patterning between gate electrodes SLG-SLG to make it possible to prevent the occurrence of the short-circuit failure between both sides of gate electrodes SLG even though the dummy contact hole is formed at the part of the image-resolved auxiliary pattern 4c.例文帳に追加
ゲート電極ＳＬＧ−ＳＬＧの間のパターンニングに余裕を持たせることができ（オフセットを確保することができ）、解像した補助パターン４ｃの部分でダミーコンタクトホールが形成された場合でも、両脇のゲート電極ＳＬＧとの間で短絡不良が発生するのを防止することが出来る。 - 特許庁
The calculated system security level SLG at each time is displayed as a graph on a display part 5.例文帳に追加
算出された各時刻におけるシステムセキュリティレベルＳＬＧを表示部５にグラフ表示出力する。 - 特許庁
To accurately acquire a tendency of a change in a system security level SLG of all the security functions with time.例文帳に追加
全セキュリティ機能の時間経過に対するシステムセキュリティレベルＳＬＧの変化傾向を的確に把握する。 - 特許庁
Using the elapsed time A, the influence degree Y, and the importance degree W, the overall security level SLG of the information system is calculated.例文帳に追加
喪失経過時間Ａ、影響度Ｙ、重要度Ｗを用いて情報システム全体のセキュリティレベルＳＬＧを算出する。 - 特許庁
The nonvolatile semiconductor device includes a semiconductor substrate 1, and a selection gate SLG and a floating gate FG collaterally formed on a gate insulating film on a channel region CNL in the substrate 1.例文帳に追加
不揮発性半導体記憶装置は、半導体基板１と、半導体基板１中のチャネル領域ＣＮＬ上のゲート絶縁膜上に並んで形成された選択ゲートＳＬＧ及び浮遊ゲートＦＧを備える。 - 特許庁
Control signals Slr, Slg, Slb for setting the characteristics as to the low luminance side are used to select the input output conversion characteristics, and control signals Shr, Shg, Shb for setting the characteristics as to the high luminance side are used to correct the white balance.例文帳に追加
上記入出力変換特性を、低輝度側については特性設定用の制御信号Ｓlr、Ｓlg、Ｓlbで選択し、高輝度側については特性設定用の制御信号Ｓhr、Ｓhg、Ｓhbで選択し、白バランスを補正する。 - 特許庁
When exposure heads 30a-30d are scanned for exposure over a first scan region As1 to a fourth scan region As4, respectively, a unit pattern group SLG having a width united with each width of the drawing object region in each scan region is beforehand formed on a mask.例文帳に追加
露光ヘッド３０ａ〜３０ｄそれぞれが第１走査領域Ａｓ１から第４走査領域Ａｓ４へかけて露光走査する際、各走査領域内の描画対象領域の幅それぞれに合わせた幅を有した単位パターン群ＳＬＧを予めマスク上に形成する。 - 特許庁
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