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VP reactionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
In the case thin films are deposited by generating the plasma of a gas which has diffused into a reaction vessel 10, high voltage pulses with a peak voltage VP of 1 kV to about 40 kV are applied to a supporting base ST on which a vapor-deposition object WO is placed, and cations in the plasma reach the vapor-deposition object WO with a comparatively high energy.例文帳に追加
反応容器10中に拡散したガスをプラズマ化して成膜を行なう際には、被蒸着物WOを載置する支持台STに1kV〜40kV程度のピーク電圧VPの高電圧パルスが印加されて、プラズマ中の陽イオンが比較的高エネルギーで被蒸着物WOに入射する。 - 特許庁
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