「VAD」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Temporarily determined information (hereinafter referred to as temporary VAD flag) in which it belong to the voice interval or the non-voice interval is stored to a VAD flag buffer for the number of the preset frame number.例文帳に追加

上記決定された、音声区間に属するか非音声区間に属するかについての仮の情報（以下、仮ＶＡＤフラグとする。）を、予め定められたフレーム数分だけＶＡＤフラグバッファに蓄積する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing an optical fiber preform having a uniform shape in a longitudinal direction and small in the fluctuation of relative refractive index difference at the time of forming a soot preform by a VAD method.例文帳に追加

VAD法においてスートプリフォームを形成する際に、長手方向の形状が均一であり、比屈折率差の変動の少ない光ファイバ母材を得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The temporary VAD flag stored to the VAD flag buffer is corrected retroactively to the past based on a preset rule by observing aging change of the voice parameters read from the delay buffer.例文帳に追加

ＶＡＤフラグバッファに蓄積された仮ＶＡＤフラグを、上記遅延バッファから読み出した音声パラメータの経時的変化を観測し、予め定めた規則に基づいて過去に遡って修正する。 - 特許庁

In order to discriminate the existence of voice activity is in the received signal when it exists, a novel voice activity detection (VAD: voice activity detection) algorithm is used, which utilizes parameters served as a part of the received vocode signal.例文帳に追加

被受信信号内に音声活動が存在するときそれを判定するには、被受信ボコード信号の一部として提供されるパラメータを利用する新規の音声活動検出（VAD: voice activity detection）アルゴリズムを用いる。 - 特許庁

OPTICAL FIBER PREFORM USING VAD METHOD, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FIBER PREFORM AND OPTICAL FIBER USING OPTICAL FIBER PREFORM例文帳に追加

ＶＡＤ法を利用した光ファイバー母材、その母材の製造方法及びその母材を利用した光ファイバー - 特許庁

To prevent an additional offset to the wind velocity measurement value in the viewing direction measured by local VAD (velocity azimuth display) method.例文帳に追加

局所ＶＡＤ法で測定される各視線方向の風速測定値にオフセットが加わらないようにする。 - 特許庁

Voice activation detection can also be used to forward idle noise characteristics to a remote IP telephone or gateway. 例文帳に追加

音声活動検出（VAD）は、休止雑音特性を遠隔のIP電話またはゲートウェイに転送するためにも用い得る。 - コンピューター用語辞典

The cross section of the single mode optical fiber comprises the core 51 formed by the VAD technique, the inner side clad layer 52 formed by the VAD technique, the layer formed by the MCVD technique 53 and the drawn clad layer 54 formed from optically inactive tube.例文帳に追加

本発明の方法は、ＶＡＤ法により生成されたコアロッドとこのコアロッドの上でＭＣＶＤ法により生成されたチューブをコラップッスすることにより光プリフォームを形成し、この光プリフォームから光ファイバを引き抜く。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus with which a porous glass base material including few air bubbles or foreign materials can be obtained even when a large-sized porous glass base material is manufactured in an apparatus for manufacturing a porous glass base material by a VAD.例文帳に追加

VAD法により多孔質ガラス母材を製造する装置において、大型の多孔質ガラス母材を製造する場合においても、気泡や異物の発生が少ない多孔質ガラス母材の得られる製造装置を提供する。 - 特許庁

To produce an optical fiber soot preform having a refraction index showing steepness between a core part and a clad part by a VAD method.例文帳に追加

コア部分とクラッド部分との屈折率変化が急峻になる光ファイバスート母材をＶＡＤ法で製造する。 - 特許庁

To enable a patient to move around during normal daily activities with a portable VAD (ventricular assist device) system.例文帳に追加

ＶＡＤシステムは携帯可能であり、患者が通常の日常生活の間動き回ることが可能であることが望ましい。 - 特許庁

An optical fiber preform having stable quality can be obtained by producing the optical fiber preform by a VAD method in such chamber 10.例文帳に追加

このようなチャンバ１０内でＶＡＤ法を用いて光ファイバ母材８を製造する結果、品質の安定した光ファイバ母材が得られる。 - 特許庁

To provide methods which can produce a glass microparticle deposit and glass having a complicated refractive index distribution structure with an improved accuracy by the MCVD method and the VAD method.例文帳に追加

複雑な屈折率分布構造を有するガラス微粒子堆積体、ガラス体をＭＣＶＤ法やＶＡＤ法で精度向上して製造できる方法。 - 特許庁

To provide a porous glass material produced by VAD process, having high quality and stabilized outer diameter and specific refractive index difference in longitudinal direction and suitable as an optical fiber preform.例文帳に追加

ＶＡＤ法によって外径や比屈折率差が長手方向に安定した、光ファイバの母材として最適な、高品質の多孔質ガラス体を製造する。 - 特許庁

Furthermore, the quartz glass soot is preferably produced with a VAD (vapor-phase axial deposition) method and the frequency of the microwave is preferably 20-300 GHz.例文帳に追加

更に前記石英ガラススートは、ＶＡＤ法で製造されたものが好ましく、また前記マイクロ波の周波数が、２０ＧＨｚ〜３００ＧＨｚであることが好ましい。 - 特許庁

The device for manufacturing the preform of the optical fiber is characterized by forming a cross-sectional shape of a combustion nozzle hole of the side burner 5, which bakes and tightens the core part 1, rectangular in a VAD(vapor phase axial deposition) method.例文帳に追加

ＶＡＤ法においてコア部１を焼き締めるサイドバーナ５の燃焼ノズル孔の断面形状を矩形にすることを特徴とする光ファイバ母材の製造装置。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a quartz glass preform through a VAD method at a yield of at least 75%, provided the quartz glass preform has a mass of ≥50 kg or has a diameter of ≥250 mmϕ.例文帳に追加

ＶＡＤ法により、質量５０ｋｇ以上の石英ガラス母材、または、径２５０ｍｍφ以上の石英ガラス母材を７５％以上の収率で安定的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently and stably producing a quartz glass preform of 50 kg or more in mass or a quartz glass preform having a diameter of 400 mmϕ or more, by a VAD (vapor phase axial deposition) method.例文帳に追加

ＶＡＤ法により、質量５０ｋｇ以上の石英ガラス母材、または、径４００ｍｍφ以上の石英ガラス母材を効率よく、かつ、安定的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inner refractive index distribution-measuring method and an inner refractive index distribution-measuring apparatus for measuring an accurate refractive index distribution structure by eliminating the influence of diffraction in a base material that is created by a VAD method having strong striae.例文帳に追加

脈理の強いＶＡＤ法により作成された母材における回折の影響を除去し、正確な屈折率分布構造が測定できる内部屈折率分布測定法と測定装置。 - 特許庁

To provide a method for producing a glass preform by a VAD process, producible of the glass preform having a clad outer diameter, a core diameter and a core refractive index stabilized within a lot or between lots at low cost.例文帳に追加

ＶＡＤ法によりガラス母材を製造する際に、クラッド外径、コア径及びコア屈折率がロット内やロット間で安定化したガラス母材を低コストで製造することができるガラス母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A continuation state update part 101 updates a continuation state index which is the index indicating an utterance continuation state at one input part using a VAD flag included in a voice packet transmitted from the part.例文帳に追加

継続状態更新部１０１は、一つの入力地点から送られた音声パケットに含まれるＶＡＤフラグを用いて、当該地点の発話継続状態を示す指標である継続状態指標を更新する。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical fiber preform which enables a stable PID control from the early accumulation period to the final production step and realizes the optimal pulling rate, even when a VAD method is utilized.例文帳に追加

光ファイバー母材を製造するに際して、ＶＡＤ法を利用しても、堆積初期から最終製造段階までを通じて、安定したＰＩＤ制御を可能にし、最適な引上げ速度をを実現することにある。 - 特許庁

The invention makes it possible to improve a propagation characteristic of a fiber by the conventional technique by optimizing a refractive index profile and can be carried out by the conventional preform manufacturing technique by VAD or MCVD.例文帳に追加

本発明は、屈折率プロファイルを最適化することで従来技術のファイバーの伝播特性の改良を可能にし、ＶＡＤまたはＭＣＶＤによる従来のプリフォーム製造技術で実施可能である。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a glass preform for optical fiber by the VAD method which realize the stabilized outside diameter (D/d when a plurality of burners are used) and refraction factor in a lot and between the lots.例文帳に追加

ロット内及びロット間で外径（複数本のバーナーを使用する場合にはＤ／ｄ）が安定し、屈折率が安定する、ＶＡＤ法による光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a synthesized quartz glass of high purity with a VAD method having a resistance to a high power ArF excimer laser resulting from a uniform distribution and a high concentration of OH group and H2 in itself, which originally exist in and are added to the synthesized quartz glass manufactured with a VAD method, focusing on the purity and the uniformity of the OH group and H2 though the concentration is low.例文帳に追加

この発明は、ＶＡＤ法で製造された合成石英ガラスが高純度であることと、ＯＨ基濃度およびＨ_２ 濃度が低いけれども均質であることに着目して、これに別途ＯＨ基およびＨ_２ を添加して高純度でしかもＯＨ基およびＨ_２ 濃度が均一でしかも高い合成石英とし、これによって高出力ＡｒＦエキシマレーザーに耐えるＶＡＤ法による合成石英ガラスを得ようとするものである。 - 特許庁

To provide a method capable of efficiently and surely manufacturing a synthetic quartz wherein the fluctuations of a non-refractive index and the birefringence in a growth axial direction are small, in a manufacturing method of the synthetic quartz for a large-sized optical glass material by a VAD method and an OVD method.例文帳に追加

ＶＡＤ法やＯＶＤ法による大型の光学硝材用の合成石英の製造方法であって、効率よく、かつ確実に成長軸方向の非屈折率や複屈折の変動が小さい方法を提供する。 - 特許庁

A synthesized quartz glass of high purity for a high power ArF excimer laser manufactured with a VAD method includes OH group of 500-1,500 ppm and H2 of 1×1017-1019 molecule/cm3 in itself.例文帳に追加

ＶＡＤ法で製造された高純度合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のＯＨ基濃度が５００〜１５００ｐｐｍ、Ｈ_２ 濃度が１×１０^１７〜１０^１９molecule／ｃｍ^３ である高出力ＡｒＦエキシマレーザー用合成石英ガラス。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing a porous glass perform, in which characteristics of the porous glass perform are stable in the longitudinal direction and bubbles are hardly mingled when the porous glass perform for an optical fiber is synthesized by the VAD method.例文帳に追加

ＶＡＤ法によって光ファイバ用多孔質ガラス母材を合成する際に、多孔質ガラス母材の特性が長手方向で安定しかつ中に気泡が混入しにくい多孔質ガラス母材の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a target rod for depositing glass fine particles on the tip according to a VAD method in order to permit stable production of large-size porous glass preform, and to provide a method for producing large-size porous glass preform using the target rod.例文帳に追加

大型の多孔質ガラス母材を安定して製造することを可能とするための、ＶＡＤ法により先端にガラス微粒子を堆積させるターゲット棒と、該ターゲット棒を用いた大型多孔質ガラス母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass fine particle deposited body by which the crack of the glass deposited body deposited on a starting material or the peeling off from the staring material hardly occurs and excellent productivity is attained in the manufacture of the glass fine particle deposited body by the VAD method.例文帳に追加

ＶＡＤ法によりガラス微粒子堆積体を製造した際、出発材上に堆積するガラス微粒子堆積体に割れや出発材からの剥がれが生じ難く、生産性の良好なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass particulate deposit by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or OVD (outside vapor deposition) process comprises maintaining the humidity within the apparatus for manufacturing the glass particulate deposit at ≤5 g/kg or the oxygen concentration therein at ≤20%.例文帳に追加

ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法によってガラス微粒子堆積体を製造する方法において、ガラス微粒子堆積体製造装置内の湿度を５ｇ／ｋｇ以下又は酸素濃度を２０％以下に保持することを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 特許庁

A VAD 110 refers to a DCT type of a decoding object block and discriminates the block to be a block causing image deterioration when a DCT mode of the block is a frame DCT mode and a sum of quantization coefficients at frequency components (0, 7), (1, 7) shown in Figure 5 is a threshold value S1 or over.例文帳に追加

ＶＡＤ２０２は、復号対象ブロックのＤＣＴタイプを参照し、当該ブロックのＤＣＴモードがフレームＤＣＴモードであり、且つ、（０，７）（１，７）の周波数成分の量子化係数の加算値が閾値Ｓ１以上であるとき、当該ブロックを、画像劣化を引き起こすブロックと判別する。 - 特許庁

A VAD 110 refers to a DCT type of a decoding object block and discriminates the block to be a block causing image deterioration when a DCT mode of the block is a frame DCT mode and a sum of quantization coefficients at frequency components (0, 7), (1, 7) shown in Figure 3 is a threshold value S1 or over.例文帳に追加

ＶＡＤ１１０は、復号対象ブロックのＤＣＴタイプを参照し、当該ブロックのＤＣＴモードがフレームＤＣＴモードであり、且つ、（０，７）（１，７）の周波数成分の量子化係数の加算値が閾値Ｓ１以上であるとき、当該ブロックを、画像劣化を引き起こすブロックと判別する。 - 特許庁

To provide a method which extremely diminishes the offcentering of a core rod which occurs in a welding process for a quartz tube and the core rod in a method for manufacturing a preform by an overjacket method of putting a quartz tube onto a core rod manufacturing by a MCVD method and VAD method and collapsing the same.例文帳に追加

ＭＣＶＤ法やＶＡＤ法で製作されたコアロッドに石英管をかぶせてコラップスするオーバージャケット法によりプリフォームを製造する方法において、石英管とコアロッドとの溶着工程で発生するコアロッドの偏芯が極めて小さくなる方法を提供する。 - 特許庁

A burner for fine glass particle synthesis to be able to form a double flame is used in the VAD method.例文帳に追加

ＶＡＤ法において、二重火炎を形成できるガラス微合成用バーナーを用い、内側火炎生成に寄与する可燃性ガスの総量（総流量）をＶ_1 ，外側火炎生成に寄与する可燃性ガスの総量（総流量）をＶ_2 とするとき、Ｖ_1 とＶ_2 が１．０≦Ｖ_1 ／Ｖ_2 ≦５．０を満足するように可燃性ガスを流して行う。 - 特許庁

The invention relates especially to a final optical-fibre preform comprising a primary preform 3 obtained by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or an OVD (outside vapor deposition) process, a silica sleeve tube 4 surrounding the primary preform 3, and a built-up layer 5 made of silica particles surrounding the silica sleeve tube 4.例文帳に追加

本発明は、ＶＡＤ堆積法またはＯＶＤ堆積法によって得られる一次プリフォーム３と、一次プリフォーム３を取り囲むシリカスリーブチューブ４と、シリカスリーブチューブ４を取り囲むシリカ粒子でできたビルトアップ層５とを含む、光ファイバ最終プリフォームに特に関する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a fluorinated glass product by dehydrating and fluorinating a deposited body of glass fine particles formed by an OVD method, VAD method, or the like, the dehydration process is carried out in an atmosphere containing 0.01 to 0.4 mol% Cl and the fluorination process is carried out in an atmosphere containing ≥1 mol% of F.例文帳に追加

ＯＶＤ法ＶＡＤ法等により形成したガラス微粒子積層体を脱水処理、フッ素添加処理してフッ素添加ガラス物品を製造する方法において、脱水処理をＣｌを０．０１〜０．４モル％含有雰囲気で行い、フッ素添加処理をＦを１モル％以上含有する雰囲気で行なう。 - 特許庁

This method for producing a porous preform by a VAD method for forming soot by ejecting a glass raw material gas and flame from a burner, forming fine glass particles in the flame and piling on a starting material, is provided by installing a heat-blocking means 7 at a column 5 of a soot lifting up device for lifting up the soot while growing it.例文帳に追加

バーナーからガラス原料ガスと火炎を噴出させ、該火炎中でガラス微粒子を生成し出発材上に堆積させてスートを形成するＶＡＤ法において、該スートを成長させつつ上方に引上げるスート引上装置のコラム５に、遮熱手段７を設けたことを特徴としている。 - 特許庁

The titania-silica glass is manufactured by heat-treating a porous titania-silica containing 1-10 wt.% of titania produced by the VAD method, to prepare a calcined titania-silica body and subjecting the calcined titania-silica body to a treatment for making it transparent under a vacuum atmosphere, at 1,600-1,800°C and at 0.1-1 MPa using a carbon mold.例文帳に追加

ＶＡＤ法で作製したチタニア１〜１０重量％を含むチタニア−シリカ多孔体を、加熱処理してチタニア−シリカ仮焼体とし、前記チタニア−シリカ仮焼体を、カーボン製型を用いて、真空雰囲気下、１６００〜１８００℃、０．１〜１ＭＰａで透明化処理を行うことにより、チタニア−シリカガラスを製造する。 - 特許庁

A determination signal input circuit logically combines results of comparing a divided voltage of the output voltage Vif, a divided voltage of the output voltage Vcp, a divided voltage of the output voltage Vup and a divided voltage of the output voltage Vsb, on the basis of a divided voltage of the output voltage Vad for example, and inputs relative voltage information ER2, ER3, ER4 and ER5 to a microprocessor.例文帳に追加

判定信号入力回路は、例えば出力電圧Ｖadの分圧電圧を基準として、出力電圧Ｖifの分圧電圧と、出力電圧Ｖcpの分圧電圧と、出力電圧Ｖupの分圧電圧、出力電圧Ｖsbの分圧電圧との比較結果を論理合成して、相対電圧情報ER2・ER3・ER4・ER5をマイクロプロセッサに入力する。 - 特許庁

A silica porous body obtained by depositing silica microparticles by the vapor phase axial deposition (VAD) method is impregnated with a solution containing a dopant consisting of at least one kind selected from metals and metal oxides, freeze-dried under vacuum, and then vitrified by heating and fusing to obtain a doped silica glass in which the dopant is contained with a uniform concentration distribution.例文帳に追加

ＶＡＤ法によりシリカ微粒子を堆積させて得たシリカ多孔質体に、金属および金属酸化物から選ばれた少なくとも１種からなるドーパントを含有する溶液を含浸させ、真空凍結乾燥後、加熱溶融してガラス化させることにより、シリカガラス中にドーパントが均一な濃度分布で含まれたドープシリカガラスを得る。 - 特許庁

This method comprises detecting the foreign matter in the glass preform manufactured by undergoing a sintering process step for forming a glass particulate deposit made by an OVD process or VAD process into transparent glass and a stretching process step of stretching a sintered preform after sintering to a desired external diameter, in which the foreign matter is detected while the glass preform is kept heated during the sintering process step and the stretching process step.例文帳に追加

ＯＶＤ法又はＶＡＤ法により作製したガラス微粒子堆積体を透明ガラス化する焼結工程、焼結後の焼結母材を所望の外径に延伸する延伸工程を経て作製されるガラス母材中の異物を検出する方法において、前記焼結工程及び延伸工程中のガラス母材が加熱されている状態で異物を検出することを特徴とするガラス母材中の異物検出方法。 - 特許庁

The heater terminal voltage determining parameter Vad is compared with the degradation determining value K, and whether the heater 28 has degraded is determined by a degradation diagnosis part 45.例文帳に追加

スイッチング素子３６が通電オフ状態のときには、ヒータ２８が劣化してヒータ２８の抵抗値が変化すると、それに応じてヒータ端子電圧（ヒータ２８と電圧検出用抵抗３７との中間点４６の電位）が変化するため、スイッチング素子３６が通電オフ状態のときに、ヒータ端子電圧に応じて変化するヒータ端子電圧判定パラメータＶadを検出すると共に、判定値演算部４４でバッテリ３４の電圧Ｖb とヒータ２８の温度Ｔh とに応じた劣化判定値Ｋをマップ等により算出し、劣化診断部４５でヒータ端子電圧判定パラメータＶadを劣化判定値Ｋと比較してヒータ２８の劣化の有無を判定する。 - 特許庁