Diffractionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7687件
In an array waveguide diffraction grating type optical multiplexer/demultiplexer 10 equipped with an input waveguide 12, a first slab waveguide 13, a channel waveguide array 14, a second slab waveguide 15, and an output waveguide 16, a couple of different-refractive-index parts 40 differing in refractive index from the slab waveguide 15 are formed nearby the border of the channel waveguide array 14 in the second slab waveguide 15.例文帳に追加
入力導波路12と、第1のスラブ導波路13と、チャネル導波路アレイ14と、第2のスラブ導波路15と、出力導波路16とを備えたアレイ導波路回折格子型の光合分波器10において、第2のスラブ導波路15内のチャネル導波路アレイ14との境界近傍に、スラブ導波路15とは屈折率が異なる一対の異屈折率部40が形成されている。 - 特許庁
To cope with recording on a DVD-R disk while detecting a servo signal by generating prescribed three beams for both DVD and CD, without generating unnecessary diffracted light, even when an oscillation wavelength changes due to a temperature change in a semiconductor laser section in an optical pickup device configured to have a diffraction grating for generating three beams arranged in a common optical path for optical beams of DVD and CD.例文帳に追加
DVDとCDの光ビームの共通光路に3ビーム生成用回折格子を配置した構成をとる光ピックアップ装置において、半導体レーザ部の温度が変化して発振波長が変わった場合でも、不要な回折光を発生させずにDVDとCDともに所定の3ビームを生成してサーボ信号を検出可能とするとともに、DVD−Rディスクなどの記録に対応できるようにする。 - 特許庁
To provide a camera which is provided with a photographic optical system for guiding subject light, and performs photographing by capturing the subject light passing through the photographic optical system and by which degradation in resolution due to the diffraction of the subject light passing through the photographic optical system is prevented and which is capable of adjusting both of the quantity of the subject light and the depth of field.例文帳に追加
本発明は、被写体光を導く撮影光学系を備え、この撮影光学系を経由してきた被写体光を捉えることにより撮影を行うカメラに関し、撮影光学系を通過する被写体光の回折による解像度の低下が回避されるとともに、被写体光の光量と被写界深度との双方を調節することのできるカメラを提供することを目的とする。 - 特許庁
The method for producing barium titanate powder comprises mixing a barium compound producing barium oxide by pyrolysis and titanium dioxide having ≥99.8 wt.% purity, ≥5 m^2/g specific surface area obtained by BET method and ≤30%, preferably ≤5%, rutile ratio obtained by X-ray diffraction method, and calcining preferably under a circumferential pressure of ≤1×10^3 Pa in total pressure.例文帳に追加
チタン酸バリウム粉末を得るため、加熱分解によって酸化バリウムを生成するバリウム化合物と、X線回折法によって求めたルチル化率が30%以下、好ましくは5%以下でありかつBET法によって求めた比表面積が5m^2/g以上である純度99.8重量%以上の二酸化チタンとを、混合し、好ましくは全圧力が1×10^3 Pa以下の雰囲気圧力下で、仮焼する。 - 特許庁
The projection lens is characterized in that, in the projection lens for projecting a video of a rectangular image display micro device onto a screen surface, a first lens group having negative refracting power and a second lens group having positive refracting power are arranged from an expansion side to a reduction side in order, and at least part of the lens surface constituting the second lens group is a diffraction optical surface.例文帳に追加
かかる課題を解決するために、本発明の投影レンズは、矩形の画像表示マイクロデバイスの映像をスクリーン面上に投影する投影レンズにおいて、拡大側から縮小側に向かって順に、負の屈折力を持つ第1レンズ群と、正の屈折力を持つ第2レンズ群とを配してなり、第2レンズ群を構成するレンズ面の少なくとも1面が回折光学面であることを特徴とする。 - 特許庁
The tunable wavelength selecting filter which selectively reflects light having a specified wavelength meeting a resonance condition in incident light as reflected light includes a substrate, a waveguide layer which is formed on the substrate and has a larger refractive index than the substrate and also has electrooptical effect, and a plurality of electrodes which are formed on the waveguide layer and made of materials transparent to the incident light and function as a diffraction grating.例文帳に追加
入射光のうち、共鳴条件に合った特定波長の光を反射光として選択的に反射させるチューナブル波長選択フィルタが、基板と、基板上に形成された、基板より屈折率が大きくかつ電気光学効果を有する導波層と、導波層上に形成され、入射光に対して透明な材料からなるとともに回折格子として機能する複数の電極とを含む。 - 特許庁
Electric characteristics of a semiconductor wafer are measured, while measuring diffracted rays derived from a prescribed crystal face from a semiconductor single crystal substrate when incident beams of fixed wavelength which cause a diffraction phenomenon due to a semiconductor crystal lattice are incident on a main surface of the semiconductor wafer, and a relation (diffracted rays/characteristic relationship) between measurement information of the diffracted rays and the electric characteristics is determined.例文帳に追加
半導体ウェーハの電気的特性を測定する一方、該半導体ウェーハの主表面に、半導体結晶格子により回折現象を起こしうる一定波長の入射線ビームを入射させたときの、該半導体単結晶基板からの特定結晶面に由来する回折線の測定を行ない、該回折線の測定情報と電気的特性との関係(回折線/特性関係)を決定する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the member for temperature compensation composed of a polycrystal consisting of a β-quartz solid solution or a β-eucryptite solid solution as a main crystal and in which the interplanar spacing of the crystal plane giving the main peak in an X-ray diffraction measurement is lower than 3.52Å, the polycrystal is prepared by sintering the powder.例文帳に追加
本発明の温度補償用部材の製造方法は、β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶とする多結晶体からなり、X線回折測定において主ピークを与える結晶面の面間隔が、3.52Åより小さい温度補償用部材の製造方法であって、前記多結晶体は、粉末を焼結させることによって作製することを特徴とする。 - 特許庁
The second diffraction element 14a diffracts reflected light from a recording medium by a laser beam of intermediate wavelength of the second light source 2 set in the polarization direction being orthogonal to the polarization direction of the laser beam of shortwave length, and reflected light from a recording medium by a laser beam of long wavelength of the third light source 3 set in the polarization direction being orthogonal to the polarization direction of the laser beam of short wavelength.例文帳に追加
第2の回折素子14aは、短波長のレーザ光の偏光方向と直交する偏光方向に設定された第2の光源2の中間波長のレーザ光による記録媒体からの反射光、および、短波長のレーザ光の偏光方向と直交する偏光方向に設定された第3の光源3の長波長のレーザ光による記録媒体からの反射光を回折する。 - 特許庁
In a class of imaging systems, an imaging optics 110, a sensor array 120 and an image processing 130 are related by three parameters: W_040 the amount of third order spherical aberration, U the under-sampling factor defined as the ratio of the Nyquist frequency of the sensor array divided by the diffraction-limited frequency of the imaging optics, and N the number of rows in the FIR implementation of the image processing.例文帳に追加
画像化光学系110と、センサアレイ120と、画像処理系130とが、3つのパラメータ、すなわち3次の球面収差の値W_040と、センサアレイのナイキスト周波数を画像化光学系の回折限界周波数で割った比率として定義されるアンダーサンプリング係数Uと、画像処理系をFIRフィルタで実施した時の行数Nとにより関係づけられた画像化システムのクラスである。 - 特許庁
An X-ray residual stress measuring method, which comprises a means for depositing a metal film of a known X-ray diffraction angle over a surface of a measured object, and a means for measuring a residual stress by irradiating the measured object surface with X rays, executes the X-ray residual stress measurement as holding the metal film deposit over the measured object surface.例文帳に追加
測定対象物の表面にX線回折角度が既知の金属の膜を付着させる手段と、測定対象物表面にX線を照射して残留応力を測定する手段とからなるX線残留応力測定方法において、測定対象物表面に金属膜を付着させた状態でX線により残留応力測定することを特徴とするX線残留応力測定方法。 - 特許庁
This optical head device 11 includes a diffraction element (HOE) 24 furnished with a diffractive pattern capable of providing such a light spot that the fluctuation of focus error mainly containing a component in the radial direction among reflection laser beams reflected by the optical disk is hardly to occur, on a light receiving face of a photodetector 28 for receiving the reflection laser beams reflected by a recording layer of the optical disk to output a corresponding signal.例文帳に追加
この発明の光ヘッド装置11は、光ディスクの記録層で反射された反射レーザ光を受光して対応する信号を出力する光検出器28の受光面に、光ディスクで反射された反射レーザ光のうちのラジアル方向の成分を主として含むフォーカスエラーの変動が生じにくい光スポットを提供可能な回折パターンが与えられた回折素子(HOE)24を含む。 - 特許庁
A measurement method for measuring the position of the aperture stop in the optical system includes the steps of measuring a light intensity distribution of light that passes the aperture stop, at a position that is optically conjugate with a pupil position in the optical system, and determining a position of the aperture stop in the optical system based on a diffraction fringe of the light intensity distribution measured by the measuring step.例文帳に追加
光学系の開口絞りの位置を計測する計測方法であって、前記光学系の瞳位置と光学的に共役な位置において、前記開口絞りを通過した光の光強度分布を測定するステップと、前記測定ステップで測定された前記光強度分布の回折縞に基づいて、前記光学系の開口絞りの位置を決定するステップとを有することを特徴とする計測方法を提供する。 - 特許庁
This method for producing the subject catalyst comprises mutually contacting a microparticle composition, a group IV, V or VI transition metal compound having at least one conjugated five-membered cyclic ligand and an organoaluminum compound; wherein the microparticle composition is prepared by mutually contacting in water a compound containing an alkali or alkaline earth metal and a microparticulate support ≥2.0 in the half-value width of the diffraction peak in the powder X-ray diffractometry.例文帳に追加
アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む化合物と、粉末X線回折測定における回折ピークの半値幅が2.0以上の微粒子担体とを水中で接触させて得られた微粒子組成物と、共役五員環配位子を少なくとも1個有する周期律表IV〜VI族遷移金属化合物と、有機アルミニウム化合物とを接触させてオレフィン重合用触媒を製造する。 - 特許庁
The distributed feedback semiconductor laser device 50 is a ridge waveguide type and comprises an n-GaAs substrate 52 and a multilayered structure, which consists of an n-AlGaAs clad layer 54, InGaAs/GaAs quantum well structure layer 56, a GaInNAs absorption layer 58 formed with diffraction grating, p-AlGaAs clad layer 60, and a GaInNAs absorption layer, which are deposited in this order on the n-GaAs substrate 52.例文帳に追加
本分布帰還型半導体レーザ素子50は、リッジ導波路型であって、n−GaAs基板52と、n−GaAs基板52上に、順次、成膜された、n−AlGaAsクラッド層54、InGaAs/GaAs量子井戸構造層56、回折格子57が形成されているGaInNAs吸収層58、p−AlGaAsクラッド層60、及びGaAsキャップ層62の積層構造とを備えている。 - 特許庁
The terahertz wave generating device for generating the terahertz waves is provided with a photoconductive switch array 11 for generating the terahertz waves when irradiated with pulsed light in the state that a voltage is applied, and a DOE (Diffractive Optical Element) 9 for branching the pulsed light made incident on the device into the pulsed light of equal light quantities by diffraction and irradiating the photoconductive switch array 11 with the branched pulsed light.例文帳に追加
テラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生装置であって、電圧が印加された状態でパルス光の照射を受けるとテラヘルツ波を発生する光伝導スイッチアレイ11と、当該装置に入射されるパルス光を回折により光量の等しいパルス光に分岐させ、光伝導スイッチアレイ11に分岐されたパルス光を照射させるDOE(Diffractive Optical Element)9とを備える。 - 特許庁
The optical wavelength multiplexing/demultiplexing device of an array waveguide diffraction grating type is provided with tapered waveguides 4 between input waveguides 2 and an input side slab waveguide 3, and the slab radius Ro of an output side slab waveguide 6 is made smaller than the slab radius Ri of the input side slab waveguide 3, thereby, the device of a low adjacent crosstalk and a small loss having steep rising and falling characteristics can be embodied.例文帳に追加
アレイ導波路回折格子型の光波長合分波器の入力導波路2と入力側スラブ導波路3との間にテーパ導波路4を設け、出力側スラブ導波路6のスラブ半径Roを入力側スラブ導波路3のスラブ半径Riよりも小さくすることにより、急峻な立上がり、立ち下がり特性を有する低隣接クロストーク、低損失のデバイスを実現することができる。 - 特許庁
The hologram recording medium is subjected to recording or reproducing of information by irradiation with a coherent light beam and has a plurality of photosensitive sections which consist of photosensitive materials each internally storing the optical interference pattern for the light beam as a diffraction grating and are regularly paralleled, and non-photosensitive sections which exist between the photosensitive sections and compartmentalize the photosensitive sections from each other.例文帳に追加
ホログラム記録媒体は、可干渉性の光ビームの照射により情報の記録又は再生が行われるホログラム記録媒体であって、各々が光ビームの光学干渉パターンを回折格子として内部に保存する感光材料からなりかつ規則的に並列された複数の感光部と、感光部間に位置しかつ感光部を互いに区切る非感光部とからなるホログラム記録層を有する。 - 特許庁
The X-ray diffraction intensity is subjected to Fourier transformation to calculate a function that represents atomic position in the oxide causing a molten component, a molten phase and a crystalline phase of the oxide causing the molten component are discriminated from a peak value of the function that represents the atomic position, and the structure of the oxide is evaluated by simultaneously evaluating the structures of the molten phase and the crystalline phase.例文帳に追加
そして、そのX線回折強度をフーリエ変換して、溶融成分を生じさせた酸化物中の原子配置を表す関数を求め、当該原子配置を表す関数のピーク値から、前記溶融成分を生じさせた酸化物の溶融相及び結晶性の相を判別し、該溶融相および該結晶性の相の構造を同時に評価することにより、酸化物の構造を評価する。 - 特許庁
The method for manufacturing the organic electroluminescence element includes a stage in which a donor substrate 130 is laminated on the upper surface of a substrate 110 having pixel electrodes, and a stage in which a predetermined area of the donor substrate 130 is irradiated with laser beams 250, 255 by using a laser irradiation apparatus 200 equipped with a diffraction optical element 280 to form an organic film layer pattern 120 on the substrate 110.例文帳に追加
本発明に係る有機電界発光素子の製造方法は,画素電極が設けられた基板110の上面にドナー基板130がラミネートされる段階と,回折光学素子280を備えたレーザー照射装置200を用いてドナー基板130の所定領域にレーザービーム250,255が照射され,基板110上に有機膜層パターン120が形成される段階と,を含む。 - 特許庁
When the optical scale 11 is rotated and a convex lens reaches zero-th order transmission light, peripheral light is condensed, the transmission zero order light transmitting a diffraction grating 12 from among a light flux L output from a light source 15 is incident on a reference position signal sensing sensor 14 to obtain larger output from the reference position signal sensing sensor 14 and the signal is a reference position signal.例文帳に追加
光学式スケール11が回転して凸レンズ13が透過0次光T0にさしかかると、光源15から出力した光束Lのうち、回折格子12を透過する透過0次光T0は、周辺の光が集光されて基準位置信号検出センサ14に入射し、基準位置信号検出センサ14からはより大きな出力が得られ、この信号が基準位置信号となる。 - 特許庁
To manufacture a reliable polarized light separating element whose final quality has little variance in a method for manufacturing a polarized light separating element equipped with an optical anisotropic membrane having a rugged diffraction grating on an optical transparent base plate by sticking the optical anisotropic membrane on an optical transparent base plate wafer and cutting and dividing the optical transparent base plate into several.例文帳に追加
光学的透明基板上に凹凸状の回折格子を有する光学的異方性膜を備える偏光分離素子を、光学的透明基板ウェハー上に光学的異方性膜を接着し光学的透明基板を複数に切り分けることにより作製する偏光分離素子の作製方法において、最終的な偏光分離素子の品質のばらつきが小さく、信頼性の高い偏光分離素子を作製できるようにする。 - 特許庁
The stable hologram color filter without slant angle variation of the diffraction grating in a heating process is provided by arranging a hologram lens layer going ≥1.5 mm inward from the edges of a supporting glass substrate and by using an adhesive with a glass transition temperature ≥50° higher than the heating temperature added in the manufacturing process of the spatial optical modulation element as the adhesive layer covering the hologram lens layer.例文帳に追加
本発明は、ホログラムカラーフィルタに関し、ホログラムレンズ層を支持基板であるガラス基板の縁辺より1.5mm以上内側に設けること、およびホログラムレンズ層を覆う接着剤層として空間光変調素子の製造工程で加わる加熱温度より50度以上高いガラス転移点を有する接着剤を用いることにより、加熱工程に対して回折格子のスラント角が変化することのない安定なホログラムカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
A surface coating photocatalyst contains at least one kind of composite oxide selected from binary composite oxide comprising titanium and silicon, binary composite oxide comprising titanium and zirconium and ternary composite oxide comprising titanium, silicon and zirconium and the content of titanium in the surface coating photocatalyst is 20-95 mol% and the primary particle size measured by X-ray diffraction thereof is 5-20 nm.例文帳に追加
チタン及び珪素からなる二元系複合酸化物、チタン及びジルコニウムからなる二元系複合酸化物、並びにチタン、珪素及びジルコニウムからなる三元系複合酸化物より選ばれる少なくとも1種の複合酸化物を含有する表面被覆用光触媒であって、該表面被覆用光触媒におけるチタンの含有率が20〜95モル%で、且つX線回折にて測定した一次粒子径が5〜20nmである。 - 特許庁
The environmentally-friendly method of processing a substrate which prevents sludge includes steps of: generating a first laser beam; dividing the first laser beam into a plurality of second laser beams by using a diffraction optical element; converging the plurality of divided second laser beams onto a plane in the substrate which is parallel to a circumferential surface of the substrate; and separating the surface of the substrate along the plane in the substrate.例文帳に追加
スラッジの発生を防止できる親環境的な基板加工方法に係り、該基板加工方法は、第1レーザビームを生成する段階、回折光学素子を利用して第1レーザビームを複数個の第2レーザビームに分割する段階、分割された複数個の第2レーザビームを、基板の周面と平行な基板内部の平面に集束させる段階、及び基板内部の平面に沿って基板を面分離させる段階を含むことができる。 - 特許庁
The antiferromagnetic film 3 has such a distinctive feature that its (111)-face is grown in parallel with the surface of the film and the half-value width of the locking curve at the (111)-peak by X-ray diffraction is ≤10.0°.例文帳に追加
R−Mn(RはIr、Rh、Pt、Au、Ag、Co、Pd、Ni、Cr、Ge、Ru、ReおよびCuから選ばれる少なくとも 1種の元素)を含み、かつ面心立方晶構造を有する反強磁性合金からなる反強磁性膜3と、これと交換結合された強磁性膜4とを具備する交換結合膜2であって、反強磁性膜3はその (111)面が膜面に平行に成長しており、かつX線回折による (111)ピークのロッキングカーブ半値幅が10.0度以下である。 - 特許庁
A first optical fiber amplifier 131 comprising an amplification optical fiber 135_1, having a Bragg diffraction grating 139 transmitting a light being amplified and a pumping light and reducing propagation of noise light incident to optical amplification, as an amplification medium amplifies the light being amplified and utilizes amplification energy supplied as the pumping light efficiently for amplifying a signal light.例文帳に追加
増幅対象光及び励起光を透過するとともに、光増幅に伴って発生するノイズ光の伝搬量を低減させるブラッグ回折格子139が形成された増幅用光ファイバ135_1を増幅媒体として備えた第1の光ファイバ増幅器131により増幅対象光を増幅することにより、第1の光ファイバ増幅器131において、励起光として供給された増幅用のエネルギを効率良く信号光の増幅用に活用する。 - 特許庁
This diffraction grating has beams formed parallel on the same plane, in the first direction with the spacing variable in the above first direction, and can selectively form a first state where the beam arrangement has a first cycle in the first direction or a second state where the beam arrangement has a second cycle different from the first cycle in the first direction.例文帳に追加
同一面上において第1の方向に併設された複数の梁体を備え、前記第1の方向にみた前記梁体の間隔が可変とされ、前記第1の方向にみた前記梁体の配置が第1の周期を有する第1の状態と、前記第1の方向にみた前記梁体の配置が前記第1の周期とは異なる第2の周期を有する第2の状態と、を選択的に形成可能であることを特徴とする回折格子が提供される。 - 特許庁
The recognition device is provided with a reflecting position deriving device 12 for obtaining the three-dimensional spatial position information of reflection points of plural spot beams by a diffraction grating method and a related information deriving means 14 for defining plural planes including these detected reflection points, finding out respective normal vectors corresponding to these planes and finding out a vector most orthogonal to these normal vectors as a pipe axis candidate vector.例文帳に追加
回折格子手法により、複数のスポット光の反射点の3次元空間位置情報を得る反射位置導出手段12を備えるとともに、検出される複数の反射点に関して、これらの反射点を含む複数の平面を定義するとともに、複数の平面に対する法線ベクトルを夫々もとめ、これらの法線ベクトルに対して最も直交するベクトルを管軸候補ベクトルとして求める関連情報導出手段14を備える。 - 特許庁
This light emitting device is provided with a substrate SUB, an organic EL element OLED which is arranged on the substrate SUB and which is equipped with the front face CTD, the back plate AND, and an organic layer ORG interposed between them and including a light emitting layer EMT, and a diffraction grating DGR arranged between the substrate SUB and the organic EL element OLED or on the organic EL element OLED.例文帳に追加
本発明の発光装置は、基板SUBと、前記基板SUB上に配置され、前面電極CTDと背面電極ANDとそれらの間に介在すると共に発光層EMTを含んだ有機物層ORGとを備えた有機EL素子OLEDと、前記基板SUBと前記有機EL素子OLEDとの間又は前記有機EL素子OLED上に配置された回折格子DGRとを具備したことを特徴とする。 - 特許庁
This divided exposure device comprises a light source which emits one laser beam, a transmission type diffraction element which splits the one laser beam emitted from the laser beam source to plural beams, an optical modulation element which modulates the plural laser beams respectively in accordance with drawing data, a beam expander which expands the respective beam diameters of the plural laser beams and respective hologram scanning systems on which the expanded laser beams are made incident.例文帳に追加
本発明の分割露光装置は、一つのレーザビームを射出する光源と、前記レーザ光源から射出される一つのレーザビームを複数のビームに分割する透過型回折素子と、描画データに基づいて複数のレーザビームをそれぞれ変調する光変調素子と、複数のレーザビームのビーム径をそれぞれ拡大するビームエキスパンダと、前記拡大されたレーザビームが入射するそれぞれのホログラム走査系とによって構成される。 - 特許庁
This compact is identified as a new compound having a tetragonal system crystal structure different from the structure of the starting material by an X-ray diffraction method.例文帳に追加
その化合物は、化学式LiAlO_2で表される低圧相のリチウムアルミニウム酸化物粉末を成形し、これを図1に示す装置に装填して該成形体に5GPa以上、加圧時間5マイクロ秒以下の衝撃波による瞬間的加圧力を付与することによって、反応させて生成し、反応後分離回収して得られてなるものであり、X線回折法による同定によってもとの原料の構造とは異なる正方晶系の結晶構造を有してなる、新規化合物であることが同定された。 - 特許庁
To provide an error signal detecting method for an optical head capable of highly accurately positioning an objective lens, concerning a diffraction device and a light receiving device used for the same, optical head and an optical recording/reproducing device using these, regarding the error signal detecting method of an optical head used for positioning an objective lens for converging an optical beam on an optical recording medium.例文帳に追加
本発明は、光記録媒体に光ビームを集光させる対物レンズの位置合わせに用いる光ヘッドの誤差信号検出方法、それに用いる回折素子及び受光素子並びにそれらを用いた光ヘッド並びに光記録再生装置に関し、対物レンズを高精度に位置決めできる光ヘッドの誤差信号検出方法、それに用いる回折素子及び受光素子並びにそれらを用いた光ヘッド並びに光記録再生装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The titanium oxide powder contains an anatase-type crystal structure which has an interplanar spacing d of a (101) plane within the range of 3.478-3.562 Å obtained from the half-value width of a diffraction peak of the (101) plane of the anatase-type crystal.例文帳に追加
本発明の基材表面に親水性を付与するためのコーティング液は、少なくとも一部にスルホン酸基又はその前駆基のどちらか一方又はその双方を有する加水分解性シラン化合物又はその部分加水分解物のどちらか一方又はその双方と、アナターゼ型結晶構造を含みこのアナターゼ型結晶の(101)面の回折ピーク半値幅から求めた(101)面の面間隔d値が3.478Å〜3.562Åの範囲を満たす酸化チタン粉末とを親水性有機溶媒に分散させたことを特徴とする。 - 特許庁
Also, the tin or tin layer reduced in the formation of the whiskers is obtained by forming the layer in such a manner that the ratio of the peak intensity corresponding to the crystal face forming the angle 5 to 22° or the face equivalent thereto to the total peak intensity of all the peaks observed in X-ray diffraction spectra is ≤10%.例文帳に追加
スズまたはスズ合金の層を基体上に電着するときに、スズまたはスズ合金層に隣接する結晶面またはその同等な面と5°〜22°の角度を形成する結晶面またはその同等な面が実質的にないようにする、また、X線回折スペクトルにおいて観察されるすべてのピークの合計ピーク強度に対する5°〜22°の角度を形成する結晶面およびその同等な面に対応するピーク強度の比が10%以下であるようにすることによってホイスカーの形成が減少したスズまたはスズ合金層を得る。 - 特許庁
The method for manufacturing the glass substrate for the magnetic recording medium is characterized in that an abrasive grain size distribution width ▵d (=dmax-dmin) is 23 μm or less, the abrasive grain size distribution width being a difference between a maximum particle diameter dmax and a minimum particle diameter dmin of particle diameters measured by using a laser diffraction/scattering type grain size distribution measuring device.例文帳に追加
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の内周側面または外周側面の少なくとも一方を、砥粒を結合材で固着した砥石を用いて研削する端面研削工程において、前記砥粒はレーザ回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定した粒子径の最大粒子径dmaxと最小粒子径dminとの差である砥粒粒度分布幅△d(=dmax−dmin)が23μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
For example, an application claims a compound A in a crystalline state defined by a variety of parameters including X-diffraction data, and the reference document also disclosed a compound A in a crystalline state. If the crystalline state of the both cannot be distinguished from each other based on the disclosure of the reference document, it can be presumed that the claimed product is identical with the product in the reference document and accordingly the claim does not have novelty as compared with the reference document, unless the applicant can, based on the application or the prior art, prove that the claimed product is actually distinct in crystalline state from the product disclosed in the reference document. 例文帳に追加
例えば、専利出願の請求項がX回折データなど複数種のパラメータにより特徴づけた結晶形態の化合物Aであり、対比文献で開示されたのも結晶形態の化合物Aである場合、もし、対比文献の開示内容に基づいても、両者の結晶形態を区別できなければ、保護を請求する製品が対比文献の製品と同一であることを推定でき、当該出願された請求項は、対比文献に比べて、新規性を具備しないことになるが、出願人は出願書類又は先行技術に基づき、出願された請求項により限定された製品が対比文献に開示された製品とは結晶形態において確かに異なることを証明できる場合を除く。 - 特許庁
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