「FIG.1」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In Fig.1, numeral 1 indicates a semiconductor optical modulator.例文帳に追加

図１において、符号１は、半導体光変調器を指す。 - 特許庁

An abstraction of the urban drainage system is presented in Fig. 1.例文帳に追加

都市排水設備システムの抽象概念を図1に示す。 - 英語論文検索例文集

Fig. 1-1-18 Trends in business conditions DI by size and industry例文帳に追加

第1-1-18図　規模別、業種別業況判断DIの推移 - 経済産業省

Fig. 1-2-18 Sources of funds prior to startup/entry例文帳に追加

第1-2-18図　創業・開業前に利用した資金調達先 - 経済産業省

Fig. 1-2-38 Ratio of changes in presidents by size of the workforce (2006)例文帳に追加

第1-2-38図　従業員規模別社長交代率（2006年） - 経済産業省

Fig. 1-2-39 Process of appointing presidents among enterprises that changed presidents例文帳に追加

第1-2-39図　社長交代企業の社長就任経緯 - 経済産業省

Fig. 1-2-41 Trends in ratio of proprietor income to employer income例文帳に追加

第1-2-41図　事業者対雇用者収入比率の推移 - 経済産業省

Fig. 1-2-43 Ratio of insolvent enterprises(by workforce size)例文帳に追加

第1-2-43図　債務超過企業の割合（従業者規模別） - 経済産業省

Fig. 1-2-52 Reasons for considering decreasing business or exiting例文帳に追加

第1-2-52図　事業縮小や廃業を検討している理由 - 経済産業省

Fig.1(C) shows the staying state of workpieces W1, W2.例文帳に追加

（Ｃ）は、ワークＷ１，Ｗ２の滞留状態を示している。 - 特許庁

The amorphous silicon film 104 is dehydrogenated (Fig. 1(a)).例文帳に追加

非晶質Ｓｉ膜１０４は脱水素処理される（図１の（ａ)）。 - 特許庁

Fig. 1-2-13 Comparison of startup founders' reasons for choosing their field of business (2001, 2006)例文帳に追加

第1-2-13図創業者の事業分野選択理由比較（2001、2006） - 経済産業省

Fig. 1-2-20 Management challenges, after startup/entry to present例文帳に追加

第1-2-20図　創業・開業後、現在までの経営上の課題 - 経済産業省

Fig. 1-2-30 Entry and exit and situation of employment fluctuation(over 10 years)例文帳に追加

第1-2-30図　開業・廃業と雇用変動状況（10年間） - 経済産業省

Fig. 1-2-34 Situation of employment fluctuation by form of employment (over 5 years)例文帳に追加

第1-2-34図　雇用形態別の雇用変動状況（5年間） - 経済産業省

Fig. 1-2-44 Ratio of enterprises with dissatisfaction over individual bonds例文帳に追加

第1-2-44図　個人保証への不満を感じている企業の割合 - 経済産業省

Two etching mask patterns 2 and two double-end supported beam type patterns 3 are formed on a silicon substrate 1 (Fig.1(A), Fig.1(B)).例文帳に追加

シリコン基板１上に２つのエッチングマスクパターン２および２本の両持ち梁型パターン３を形成する（図１（Ａ）、図１（Ｂ））。 - 特許庁

The other grinding/cleaning table 6B as shown in Fig.1(C) is laid face down (prone) to cover the grinding/cleaning table 6A as shown in Fig.1(D).例文帳に追加

（Ｃ）に示す他方の研掃テ−ブル６Ｂを下向き（俯せ）にして（Ｄ）のように前記片方の研掃テ−ブル６Ａに被せる。 - 特許庁

This sealing structure is so formed that the pane thickness of the opening/closing type back door glass 14 (Fig.1(A)) is thicker than that of the fixed type back door glass 50 (Fig.1(B)).例文帳に追加

開閉式のバックドアガラス１４（図１（Ａ））の場合、固定式のバックドアガラス５０（図１（Ｂ））よりも板厚が厚い。 - 特許庁

In this state, the heat treatment is performed in an oxidative atmosphere (Fig. 1(d)).例文帳に追加

この状態で酸化雰囲気中で熱処理を行う（図１（ｄ））。 - 特許庁

A DNA molecule whose base sequence is represented by SEQ ID NO:1( or Fig.1). 例文帳に追加

塩基配列がSEQ ID NO:１（又は添付図面1）で示されるDNA分子。 - 特許庁

In Fig., 1: Core strand, 2: Sheath strand, 3: A filament made of a non-metal, L: Gap.例文帳に追加

１‥コアストランド、２‥シ−スストランド、 ３‥非金属製フィラメント、 Ｌ‥隙間。 - 特許庁

Further, a nitride film 6 is formed on the silicon substrate 1 (Fig.1(d)).例文帳に追加

次に、シリコン基板１上に窒化膜６を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

Thus, the leveling property of the formed hard coat layer is improved (See Fig. 1).例文帳に追加

これにより、ハードコート層のレベリング性が向上する（図１参照）。 - 特許庁

The particles 11 are charged negative in Fig. 1 (A).例文帳に追加

図１（Ａ）において、微粒子１１は負に帯電しているものとする。 - 特許庁

Fig. 1-1-20 Trends in ratio of ordinary profit to net sales by size of capital例文帳に追加

第1-1-20図　資本金規模別売上高経常利益率の推移 - 経済産業省

Fig. 1-2-4 Trends in entry and exit rates based on number of employing establishments例文帳に追加

第1-2-4図　有雇用事業所数による開廃業率の推移 - 経済産業省

Fig. 1-2-30 shows a comparison of the amount of employment fluctuation among each.例文帳に追加

それぞれの雇用変動量を比較したものが第1-2-30図である。 - 経済産業省

Fig. 1-2-31 looks at the employment fluctuation by industry.例文帳に追加

この雇用変動について、業種間で見たものが第1-2-31図である。 - 経済産業省

This ratio rises as the enterprise becomes smaller (Fig. 1-2-45).例文帳に追加

その割合は、企業規模が小さくなるほど高くなる（第1-2-45図）。 - 経済産業省

Fig.1-2-53 Comparison of number of business establishments in 1994and 2004 by establishment size例文帳に追加

第1-2-53図　1994年と2004年における規模別事業所数の比較 - 経済産業省

A lens 12 is at a collapsed position ((A) in Fig. 1) when power is supplied to a camera, and is driven to an extended position ((B) in Fig. 1) by a stepping motor 14.例文帳に追加

カメラの電源投入時にはレンズ１２が沈胴位置（図１（Ａ））にあり、ステッピングモータ１４で伸長位置（図１（Ｂ））まで駆動される。 - 特許庁

After that, the wafer 1 is polished into specific thickness as shown in Fig. 1 (b), and an N electrode 5 is formed by deposition, as shown in Fig. 1 (c).例文帳に追加

その後、図１（ｂ）のようにウエーハ１を所定の厚さまで研磨し、図１（ｃ）のようにＮ電極５を蒸着により形成する。 - 特許庁

The toroidal surface has different focal distances in a horizontal direction (a z-axis direction in Fig.1) and in a vertical direction (a y-axis direction in Fig.1).例文帳に追加

トロイダル面は、水平方向（図１のｚ軸方向）の焦点距離と垂直方向（図１のｙ軸方向）の焦点距離が相違している。 - 特許庁

The display section 303 (Fig.1 (a) hatching section) has a red display.例文帳に追加

表示部３０３（図１（ａ）ハッチング部）には、赤色の表示が設けられる。 - 特許庁

Marks 1 to 4 in Fig. 1 indicate the first layer to the fourth layer, respectively.例文帳に追加

図１において符号１〜４はそれぞれ第１層〜第４層を示す。 - 特許庁

Side walls 18 are formed to cover the side walls of the trenches 5 (Fig. 1 (C)).例文帳に追加

トレンチ５の側壁を被うサイドウォール１８を形成する（図１（Ｃ））。 - 特許庁

A control computer C stores a map indicated by a graph in Fig. 1(b).例文帳に追加

制御コンピュータＣは、図１（ｂ）にグラフで示すマップを記憶している。 - 特許庁

When the electrophoresis display device is manufactured, a conductive film 6 is formed at a substrate 1a (see Fig. 1(a)), mask layers 2 and 7 are formed (see Fig. 1(b)) and etching of the conductive film 6 is performed (see Fig. 1(c)).例文帳に追加

電気泳動表示装置の製造に際しては、基板１ａに導電性膜６を形成し（図１（ａ） 参照）、マスク層２，７を形成し（同図（ｂ） 参照）、導電性膜６のエッチングを行う（同図（ｃ） 参照）。 - 特許庁

A source amplifier for liquid crystal devices as shown in Fig. 1 is provided.例文帳に追加

そこで、図１に示す液晶表示装置用ソースアンプを提供する。 - 特許庁

The contact point which is pushed when the center section (Fig. 1-5) is mounted on the key, and a protruded part (Fig. 1-10) is installed so that the contact point of the center section is not pushed when the contact point of the other direction (Fig. 1-2) is pushed.例文帳に追加

中心部分を押した際に押される接点（図１−５）を取り付け、他の方向の接点（図１−２）が押されたときには中心部分の接点を押されないように、突起部（図１−１０）を設ける。 - 特許庁

Next, as illustrated in Fig.1(h), the photoresist pattern 104 is removed.例文帳に追加

次に、図１（ｈ）に示されるように、フォトレジストパターン１０４を除去する。 - 特許庁

Fig. 1 shows a terminal device for setting the parameter of the communication operation.例文帳に追加

図１は通信動作のパラメータの設定を行う端末装置を示す。 - 特許庁

A right side chamber 10 in Fig.1 shows the chamber in such a situation.例文帳に追加

この状態のチャンバー１０を図１の右側のチャンバーで示している。 - 特許庁

In a semiconductor-element manufacturing method, a gate insulating film 2 is formed on a silicon substrate 1 (Fig.1(a)).例文帳に追加

シリコン基板１上にゲート絶縁膜２を形成する（図１（ａ））。 - 特許庁