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ntr.を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 20件
A semiconductor device comprises an MIS transistor nTr.例文帳に追加
半導体装置は、MISトランジスタnTrを備えている。 - 特許庁
The semiconductor device includes a first, a second MIS transistor nTr, pTr.例文帳に追加
半導体装置は、第1,第2のMISトランジスタnTr,pTrを備えている。 - 特許庁
The threshold value NTR(1) is set by using the strength of the corrected vibration waveform.例文帳に追加
補正された振動波形の強度を用いてしきい値NTR(1)が設定される。 - 特許庁
By the argon implantation process, the polysilicon film PF1 in the n-channel type MISFET formation region NTR is amorphized.例文帳に追加
このアルゴン注入工程により、nチャネル型MISFET形成領域NTRのポリシリコン膜PF1はアモルファス化する。 - 特許庁
Phosphorous is ion-implanted in the polycrystalline silicon film 13 of an NchTr forming region NTR with resist 14 as a mask.例文帳に追加
その後、レジスト14をマスクにしてNchTr形成領域NTRの多結晶シリコン膜13にリンをイオン注入する。 - 特許庁
An MP3 file compressed by an MP3 format is generated after the Ntr audio data is mixed to audio data of a stereo 2ch.例文帳に追加
Ntr.オーディオデータは、ステレオ2chのオーディオデータにミックスされた後、MP3フォーマットで圧縮されたMP3ファイルが生成される。 - 特許庁
The Ntr audio data is stored in a studio server 104, and the MP3 file is uploaded from the studio server 104 to a shared server 201.例文帳に追加
Ntr.オーディオデータは、スタジオサーバ104内に保存され、MP3ファイルは、スタジオサーバ104から共有サーバ201にアップロードされる。 - 特許庁
By an ion implantation method using the patterned resist film FR2 as a mask, argon (Ar^+)is introduced to the polysilicon film PF1 in an exposed n-channel type MISFET formation region NTR.例文帳に追加
その後、パターニングしたレジスト膜FR2をマスクにしたイオン注入法により、露出しているnチャネル型MISFET形成領域NTRのポリシリコン膜PF1にアルゴン(Ar^+)を導入する。 - 特許庁
When the knock strength N is smaller than the threshold value NTR(1) or when the correlation coefficient K(1) is smaller than the threshold value K(2), the vibration waveform is corrected so as to reduce a variation in the strength.例文帳に追加
ノック強度Nがしきい値NTR(1)より小さい場合、または相関係数K(1)がしきい値K(2)より小さい場合、強度の変化量が小さくなるように振動波形が補正される。 - 特許庁
The first MIS transistor nTr includes a first gate insulating film 14A formed on a first active region 10a, having a first high dielectric constant film 14Xa, and a first gate electrode 18A.例文帳に追加
第1のMISトランジスタnTrは、第1の活性領域10a上に形成され、第1の高誘電率膜14Xaを有する第1のゲート絶縁膜14Aと、第1のゲート電極18Aとを備えている。 - 特許庁
The period when the PTR 27 and the NTR 28 configuring the main buffer 300 are simultaneously turned on can be reduced so as to effectively reduce a through-current at switching of an output signal level.例文帳に追加
メインバッファ300を構成するPTr27およびNTr28が同時にオン状態となる期間を短縮することができ、出力信号レベルの切り換わり時における貫通電流を効果的に低減できる。 - 特許庁
An audio signal of each input ch101e is supplied to a recorder 102 after signal processing is performed to the audio signal based on various signal processing parameters, multitrack recording is performed to the audio signal by the recorder 102, and Ntr audio data is generated.例文帳に追加
各入力ch101eのオーディオ信号は、各種信号処理パラメータに基づいて信号処理された後、レコーダ102に供給され、レコーダ102によりマルチトラック録音されて、Ntr.オーディオデータが生成される。 - 特許庁
In a numerical expression of (Nsp/Ntr)=(N+ε)/J, J: an integer of 1-20, N: a positive integer, ε: a decimal less than 1 in an absolute value, N/J: an irreducible improper fraction or proper fraction by a combination of mutually prime integers and a value of becoming minimum in an absolute value of ε/J.例文帳に追加
(Nsp/Ntr)=(N+ε)/J数式中J:1〜20の整数、N:正の整数、ε:絶対値が1未満の小数であり、N/Jは互いに素な整数の組合せによる既約の仮分数または真分数であり、ε/Jの絶対値が最小となる値である。 - 特許庁
Quality is made different in a film of a trench-type element separation region 12 surrounding the side of an active region 11 of a p-channel type MIS transistor PTr, and that of trench-type element separation region 22 surrounding the side of an active region 21 of an n-channel type MIS transistor NTr.例文帳に追加
Pチャネル型MISトランジスタPTrの活性領域11の側方を囲むトレンチ型素子分離12と、Nチャネル型MISトランジスタNTrの活性領域21の側方を囲むトレンチ型素子分離22との膜質を異なるものとする。 - 特許庁
And data is converted to serial data by parallel-serial conversion circuits P-Se and P-So and successively outputted synchronizing with rise and fall of a basic clock CLK by a multiplexer MUX, and applied to a NMOS transistor NTR of an open drain output circuit.例文帳に追加
そして、パラレル−シリアル変換回路P−Se及びP−Soでシリアルデータに変換してマルチプレクサMUXで基本クロックCLKの立上りと立下りに同期して順次出力し、オープンドレイン出力回路のNMOSトランジスタNTRに印加する。 - 特許庁
When the flag is not set, since a state flag FST is 2 in a Step 520, that is, a follow-up control starting condition is satisfied by already reaching reference time T10 or a shift starting point, a target input shaft rotating speed Ntr is calculated.例文帳に追加
セットされていない場合は、ステップ520にて、状態フラグFSTが2であるので、即ち、既に基準時間T10又は変速開始点に達していて、追従制御を開始する条件が満たされているので、目標入力軸回転数Ntrを算出する。 - 特許庁
An n-type MIS transistor nTr includes: an active region 1a that is surrounded by an element isolation region 32 in a semiconductor substrate 1; a gate insulator film 13a that is formed on the active region 1a and on the element isolation region 32 and includes a high dielectric constant insulator film 12a; and a gate electrode 16a formed on the gate insulator film 13a.例文帳に追加
n型MISトランジスタnTrは、半導体基板1における素子分離領域32に囲まれた活性領域1aと、活性領域1a上及び素子分離領域32上に形成され且つ高誘電率絶縁膜12aを有するゲート絶縁膜13aと、ゲート絶縁膜13a上に形成されたゲート電極16aとを備えている。 - 特許庁
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