例文 (101件) |
nitric acid concentrationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 101件
MEASURING APPARATUS FOR CONCENTRATION OF NITRIC ACID IONS例文帳に追加
硝酸イオン濃度測定装置 - 特許庁
The nitric acid concentration in the aqueous dilute nitric acid solution is in a range of 0.5 to 1.5 mass%.例文帳に追加
希硝酸水は硝酸濃度が0.5〜1.5質量%の範囲にある。 - 特許庁
METHOD FOR DECREASING NITRIC ACID CONCENTRATION IN EDIBLE CROP例文帳に追加
食用作物の硝酸濃度低減方法 - 特許庁
To detect concentration of nitric acid in etching liquid (mixed acid comprising nitric acid, acetic acid, phosphoric acid and water) for aluminum, without using a sampling pump.例文帳に追加
アルミニウムのエッチング液(硝酸、酢酸、凛さか、水からなる混酸)中の硝酸濃度を、サンプリングポンプを用いずに、検出する。 - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF HYDROFLUORIC ACID IN NITRIC-HYDROFLUORIC ACID PICKLING LIQUID FOR STAINLESS STEEL STRIP例文帳に追加
ステンレス鋼帯の硝弗酸酸洗液の弗酸濃度調整方法 - 特許庁
To provide a method for reducing nitric acid concentration by which the concentration of nitric acid in edible plant is safely and effectively reduced.例文帳に追加
食用植物中の硝酸濃度を安全に効果的に減少させる硝酸濃度軽減方法を提供する。 - 特許庁
The mixed acid liquid has a concentration of the hydrofluoric acid of 20 to 150 g/L and a concentration of the nitric acid of 20 to 85 g/L.例文帳に追加
この混酸液のフッ化水素酸濃度を20〜150g/L、硝酸濃度を20〜85g/Lとする。 - 特許庁
The mixed acid liquid contains hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid and fluorophosphoric acid and has a fluorophosphoric acid concentration of 3-15 wt.%.例文帳に追加
弗酸と燐酸と硝酸とフルオロ燐酸とを含む混酸液であってフルオロ燐酸濃度が3〜15重量%である。 - 特許庁
The chlorine concentration in the aqueous dilute nitric acid solution is in a range of not higher than 100 ppm.例文帳に追加
希硝酸水の塩素濃度は100ppm以下の範囲内にある。 - 特許庁
To provide a foliar spray type nitric acid reducing agent which effectively reduces the nitric acid concentration in edible parts of a plant and simultaneously maintains this low nitric acid concentration state for a longer time.例文帳に追加
植物の可食部位における硝酸濃度を効果的に低下させ、同時に、この低硝酸濃度状態をより長時間維持させる葉面散布型の硝酸低減剤を提供する。 - 特許庁
To provide a concentration method of a nitric acid aqueous solution which can concentrate a nitric acid solution to a high concentration by a simple distillation operation at a low cost.例文帳に追加
簡単な蒸留操作で且つ低コストで硝酸水溶液を高濃度に濃縮することができる硝酸水溶液の濃縮方法を提供する。 - 特許庁
In a preferred embodiment, the hydrofluoric acid concentration is 5-12 wt.%, the phosphoric acid concentration is 15-40 wt.% and the nitric acid concentration is 25-40 wt.%.例文帳に追加
好ましい態様においては、弗酸濃度が5〜12重量%、燐酸濃度が15〜40重量%硝酸濃度が25〜40重量%である。 - 特許庁
METHOD FOR REDUCING NITRIC ACID CONCENTRATION OF PLANT UNDER CULTIVATION AND LIQUID THEREFOR例文帳に追加
栽培植物の硝酸濃度低減方法及び硝酸濃度低減用液 - 特許庁
To provide a foliar-surface spraying agent strongly lowering a nitric acid concentration in edible parts of a plant and simultaneously retaining the low nitric acid concentration state for a longer time.例文帳に追加
植物の可食部位における硝酸濃度をより強力に低下させ、同時に、この低硝酸濃度状態をより長時間維持させる葉面散布剤の提供。 - 特許庁
From the concentration of Cu in the concentrated nitric acid, a Cu adhesion quantity on the test piece surface is detected.例文帳に追加
濃硝酸中のCu濃度から、テストピース表面のCu付着量を検出する。 - 特許庁
The absorbance of the sampling liquid is measured by an absorptiometer in the nitric acid concentration monitor 52, and the nitric acid concentration in the sampling liquid is calculated from the measured absorbance by a personal computer 54 for concentration management.例文帳に追加
硝酸濃度モニタ52において、吸光光度計によりサンプリング液の吸光度を計測し、濃度管理用のパソコン54により、計測された吸光度からサンプリング液中の硝酸濃度を算出する。 - 特許庁
The acid(s) is composed of at least one kind selected from hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, perchloric acid and hydrogen peroxide, and the concentration thereof is 0.001 to 3 mol/l, and, preferably, 0.01 to 1.5 mol/l.例文帳に追加
酸は、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、ふっ酸、過塩素酸、過酸化水素の中から少なくとも1種からなりその濃度が0.001〜3mol/l更に好ましくは0.01〜1.5mol/lであることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of controlling a nitric acid-containing solution in nitrite ion concentration and restraining NOx gas from being generated when a silicon wafer is subjected to etching by using a nitric acid-containing solution.例文帳に追加
硝酸含有液でシリコンウエハをエッチング処理する場合における亜硝酸イオン濃度の制御、NOxガスの発生を抑制する方法を提供する。 - 特許庁
When TODGA is used as adsorbent, Zr shows prominent adsorptivity in the nitric acid concentration of 4 mol/l or higher and the adsorption distribution coefficient of Zr prominently increases as the increase of nitric acid concentration; however Mo shows little adsorptivity in any concentration of nitric acid.例文帳に追加
TODGA吸着剤を用いた場合には約4mol/l以上の硝酸濃度で、Zrが顕著な吸着性を示し、Zrの吸着分配係数が硝酸濃度の増加と共に著しく増大するが、Moは何れの硝酸濃度においても殆ど吸着性を示さない。 - 特許庁
The method for manufacturing the steel strip is characterized by controlling a concentration of iron ions in a nitric acid aqueous solution in a nitric acid pickling tank to 2.0 wt.% or less, when annealing the cold-rolled stainless steel strip and then pickling it in the nitric acid solution.例文帳に追加
この鋼帯は、ステンレス鋼の冷間圧延鋼帯を焼鈍した後、硝酸酸洗を行うにあたり、硝酸酸洗槽内の硝酸水溶液の鉄イオン濃度を2.0wt %以下に制御することにより得られる。 - 特許庁
To provide a nitric acid reduction catalyst composition which is applicable even to a high-concentration nitric acid solution and is capable of efficiently reducing a nitrate ion, nitrite ion and the like, and to provide a processing method of a nitric acid solution using the same.例文帳に追加
高濃度の硝酸溶液に対しても適用可能であり、効率的に硝酸イオンや亜硝酸イオン等を還元できる硝酸還元触媒組成物と、これを用いた硝酸溶液の処理方法を提供する。 - 特許庁
To reduce operating costs of treatment facilities in treatment of radioactive waste liquid with a high nitric acid concentration.例文帳に追加
硝酸濃度の高い放射性廃液の処理にあたり、処理設備の運転コストを低減すること。 - 特許庁
The CO removal catalyst is obtained by impregnating a carrier with a ruthenium nitrate solution whose solvent is nitric acid having a free nitric acid concentration A, defined by the following formula, of 50-200.例文帳に追加
下記式で定義されるフリー硝酸濃度Aが50〜200である硝酸を溶媒とする硝酸ルテニウム溶液を担体に含浸させて得られることを特徴とするCO除去触媒。 - 特許庁
Nitric acid or nitrous acid is controlled so as to exist within a predetermined concentration range in a reaction vessel 20 holding a granule sludge.例文帳に追加
グラニュール汚泥を保持する反応槽20内に、硝酸または亜硝酸が所定の濃度範囲で存在するように調整する。 - 特許庁
A pickling liquid to be used when pickling the stainless steel material is a mixture solution comprising a hydrochloric acid solution of 70 to 200 g/L by concentration and a nitric acid solution of 40 to 150 g/L by concentration.例文帳に追加
ステンレス鋼材を酸洗液により酸洗するにあたり、該酸洗液は、濃度が70〜200g/Lの塩酸溶液と濃度が40〜150g/Lの硝酸溶液からなる混合溶液である。 - 特許庁
In this etching solution, the concentration of nitric acid is 8 to 15 wt.%, and the concentration of cerium (TV) nitrate ammonium is >20 to 30 wt.%.例文帳に追加
硝酸濃度8〜15重量%で、硝酸第二セリウムアンモニウム濃度20重量%を超え30重量%以下のエッチング液。 - 特許庁
A mixed acid comprising a phosphoric acid having the concentration of 10-20 vol% and a nitric acid having the concentration of 3-12 vol% is used as a treatment liquid for removing an altered layer and an aluminum alloy component.例文帳に追加
変質層の除去とアルミニウム合金成分の除去の処理液として、濃度が10vol%以上20vol%以下のリン酸と、濃度が3vol%以上12vol%以下の硝酸と混酸を用いる。 - 特許庁
To provide a concentrated nitric acid storage container comprising high silicon austenite cast iron at least on its internal side for receiving concentrated nitric acid, which prevents a concentration of chromium (Cr) in the concentrated nitric acid during storage and thus is excellent in storage of the concentrated nitric acid as a high purity reagent for use in semiconductor manufacturing.例文帳に追加
容器の少なくとも内側が高シリコンオーステナイト系鋳鋼からなる濃硝酸を収納する容器であって、収納中における濃硝酸中のクロム(Cr)濃度の上昇を防止し、よって特に半導体製造用の高純度試薬としての濃硝酸の収納に優れるという特徴を有する濃硝酸収納用容器を提供する。 - 特許庁
The etchant for the metal layer includes water, phosphoric acid, nitric acid, and acetic acid, and the concentration of water in the etchant for the metal layer is less than 21 wt%.例文帳に追加
金属層用エッチング液は、水、りん酸、硝酸および酢酸を含んでおり、また金属層用エッチング液における水の濃度は21重量%よりも小さくなっている。 - 特許庁
The surface purity of the silicic acid lutetium crystal is improved by washing the surface of the silicic acid lutetium crystal with a mixed solution of a solution whose hydrofluoric acid concentration is 0.01-50% and a solution whose nitric acid concentration is 0.01-70%.例文帳に追加
フッ化水素酸濃度が0.01〜50%の溶液と硝酸濃度が0.01〜70%の溶液の混合溶液でケイ酸ルテチウム結晶の表面を洗浄することにより、ケイ酸ルテチウム結晶の表面純度を向上する。 - 特許庁
The titanium material can be obtained by ≤80 g/l the concentration of nitric acid in an aqueous solution of nitric-hydrofluoric acid dissolving titanium or performing heating treatment at 300 to 900°C in a vacuum or in the atmosphere of inert gas such as Ar and He after its dissolution with the aqueous solution of nitric-hydrofluoric acid.例文帳に追加
このようなチタン材は、チタンを溶解する硝フッ酸水溶液の硝酸濃度を80g/l以下と低くするか、或いは硝フッ酸水溶液で溶解した後に真空或いはAr,Heなど不活性ガス雰囲気中にて300〜900℃に加熱処理することにより得られる。 - 特許庁
Am (III) and Pu (IV) contained in an organic solvent are back-extracted by using a nitric acid solution having a concentration of ≥0.1 M and containing dissolved N,N-dipropyl-diglycolamide acid (PDGAA) compound.例文帳に追加
有機溶媒中のAm(III),Pu(IV)を、N,N-ジプロピルジグリコールアミド酸(PDGAA)化合物を溶解した0.1 M以上の濃度の硝酸溶液を用いて逆抽出する。 - 特許庁
To provide a method for reducing the nitric acid concentration of a plant under cultivation at low cost while securing sufficient yield.例文帳に追加
十分な収量を確保しつつ栽培植物の硝酸濃度を低減し、しかも低コストで実施することを課題とする。 - 特許庁
METHOD FOR SEPARATING/RECOVERING HIGH-CONCENTRATION U(VI) AND PU(IV) FROM NITRIC ACID SOLUTION USING N,N-DIOCTYL HEXANAMIDE (DOHA)例文帳に追加
N,N−ジオクチルヘキサナミド(DOHA)を用いて硝酸溶液から高濃度U(VI)及びPu(IV)を分離・回収する方法 - 特許庁
The plating pretreatment liquid, which is used in a plating pretreatment for the production of the aluminum substrate for the hard disk device, has an iron ion concentration of 0.1 to 1.0 g/l and a nitric acid concentration of 2.0 to 12.0 wt.%.例文帳に追加
ハードディスク装置用アルミニウム基板製造のめっき前処理に用いられるめっき前処理液は、鉄イオン濃度が0.1〜1.0g/lでかつ硝酸濃度が2.0〜12.0wt%である。 - 特許庁
Thereby, the concentration of the nitric acid in the condensed water included due to the NOx in the exhaust air can be kept within the allowable value.例文帳に追加
これにより、排気中のNOxにより含まれる凝縮水中の硝酸の濃度を許容値以下に維持することができる。 - 特許庁
The second cerium ammonium of nitric acid-perchloric acid aqueous solution is used for the etching liquid, and the second cerium ammonium solution of nitric acid is supplemented to replenish the liquid fatigue by prolonged use of the etching liquid and the consumption of principal component, and the etching is carried out, by maintaining the concentration of the second cerium ammonium of nitric acid in the etching liquid to be in the range of 20 to 25 wt%.例文帳に追加
硝酸第二セリウムアンモニウム−過塩素酸水溶液をエッチンク液に用い、エッチンク液の長期間使用による液疲労および主成分の消耗を補充するに硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液の補充をもって行い、エッチンク液中の硝酸第二セリウムアンモニウム濃度を20〜25重量%の範囲に維持してエッチンクすること。 - 特許庁
This cleaning liquid comprises an aqueous solution which is formed by together mixing nitric acid, sulfuric acid, a fluorine compound, and a basic compound, wherein a water concentration of the liquid is not less than 80 wt% and a pH thereof is controlled to be not less than 1 and less than 3.例文帳に追加
硝酸、硫酸、フッ素化合物および塩基性化合物を混合し、水の濃度が80重量%以上であるpH1以上3未満に調整した水溶液。 - 特許庁
METHOD FOR BACK-EXTRACTING Am (III), Pu (IV) IN ORGANIC SOLVENT BY USING NITRIC ACID SOLUTION HAVING CONCENTRATION NOT LOWER THAN 0.1 M AND CONTAINING DISSOLVED N,N-DIPROPYL-DIGLYCOLAMIDE ACID (PDGAA) COMPOUND例文帳に追加
有機溶媒中のAm(III),Pu(IV)をN,N−ジプロピルジグリコールアミド酸(PDGAA)化合物を溶解した0.1M以上の濃度の硝酸溶液を用いて逆抽出する方法 - 特許庁
The cleaning liquid of a semiconductor element or a display element subjected to metallization is an aqueous solution produced by mixing a nitric acid, a sulfuric acid, a fluorine compound and a basic compound and conditioning pH to 7-10 where the concentration of water is 80 wt% or above.例文帳に追加
硝酸、硫酸、フッ素化合物および塩基性化合物を混合し、水の濃度が80重量%以上であるpH7〜10に調整した水溶液。 - 特許庁
At least one metal salt selected from the group consisting of metal salts of nitric acid and metal chlorides is dissolved in a mixed acid waste liquid containing hydrochloric acid and hydrofluoric acid and distillation is carried out, whereby a mixed acid with the increased hydrochloric acid concentration is distilled and recovered.例文帳に追加
塩酸及びフッ酸を含む混酸廃液に、硝酸金属塩及び塩化金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属塩を溶解せしめて蒸留を行うことによって、塩酸濃度が増大した混酸液を留出させて回収する。 - 特許庁
To enable to exactly and quickly suppress increase in nitric acid concentration without changing water, when breeding fishes in a closed water area.例文帳に追加
閉鎖系水域で魚介類を飼育する場合において、換水すること無く硝酸濃度の上昇を正確、迅速に抑えることを可能にする。 - 特許庁
When raw water is supplied to a tank 12 with a controller CNT and ozone water of the same quantity as the raw water supplied is discharged from the tank 12, as nitric acid is discharged together with the ozone water and ozone water containing nitric acid is replaced by raw water, the concentration of nitric acid in the ozone water can be reduced.例文帳に追加
また、制御装置CNTにより、タンク12に原料水を供給すると共に、供給された原料水と同量のオゾン水をタンク12から排出する場合には、オゾン水と共に硝酸が排出されて硝酸含有オゾン水が原料水に置換されるので、オゾン水中の硝酸濃度を減少させることができる。 - 特許庁
The silver is produced by leaching raw material silver having a purity on a 3N level with nitric acid or sulfuric acid and thereafter subjecting the same to electrolytic refining with an electrolytic solution having an Ag concentration of ≤700 g/L.例文帳に追加
純度3Nレベルの原料銀を硝酸又は硫酸で浸出した後、Ag濃度700g/L以下の電解液を用いて電解精製することにより製造する。 - 特許庁
METHOD FOR SEPARATING PLUTONIUM INTO WATER PHASE BY UTILIZING DIFFERENCE OF NITRIC ACID CONCENTRATION FROM URANIUM AND PLUTONIUM RECOVERED IN ORGANIC PHASE INCLUDING BRANCHED N,N-DIALKYL AMIDE例文帳に追加
分枝N,N−ジアルキルアミドを含む有機相に回収したウラン及びプルトニウムから硝酸濃度の違いを利用して水相にプルトニウムを分離する方法 - 特許庁
METHOD FOR CARRYING OUT BATCH BACK EXTRACTION OF ACTINOID ION OF 3 OR 4 VALENCY IN SEPARATION PROCESS SOLVENT INTO HIGH-CONCENTRATION NITRIC ACID SOLUTION BY N, N, N', N'-TETRAETHYL GLYCOL AMIDE例文帳に追加
N,N,N’,N’−テトラエチルジグリコールアミドにより分離プロセス溶媒中の3,4のアクチノイドイオンを高濃度の硝酸溶液に一括逆抽出する方法 - 特許庁
The concentration of nitric acid solution is ranged to 30 vol.% from 0.01 vol.% and more preferably to 10 vol.% from 1 vol.%.例文帳に追加
硝酸溶液の濃度は、0.01体積%から30体積%の範囲であり、好適には、1体積%から10体積%の範囲であることを特徴とする。 - 特許庁
A silicon wafer is processed with a mixed acid etching solution 2 of nitric acid, hydrofluoric acid, and acetic acid, and when the mixed etching solution 2 is electrolyzed at a potential of 0.3 V to 0.7 V, nitrite ion contained in the solution is linearly and proportionally changed in concentration to an electrolyzing current.例文帳に追加
硝酸、弗酸及び酢酸からなる混酸エッチング液2でシリコンウエハを処理する場合に0.3V〜0.7Vの間の特定電位で電解を行うと液中の亜硝酸イオン濃度は電解電流値に比例して直線的に変化する。 - 特許庁
To provide an etching device which automatically controls etchant to have predetermined nitric acid concentration, acetate concentration, and phosphate concentration, and appropriately manages liquid refill to an etching treatment bath, thereby keeping a constant etching performance all the time.例文帳に追加
エッチング液を所定の硝酸濃度、酢酸濃度及び燐酸濃度に自動制御し、かつエッチング処理槽の液補給に対して適切な管理を行ない、もってエッチング性能を常時一定化するエッチング装置を提供する。 - 特許庁
In this pickling method in which a bright annealed SUS430 stainless steel strip bright annealed after rolling is dipped in a nitric acid bath, the concentration of nitric acid in the bath is controlled to 7 to 13 mass %, the bath temperature is controlled to 10 to <35°C, and the pickling time is controlled to 3 to 7 sec.例文帳に追加
圧延後に光輝焼鈍を施したSUS430ステンレス鋼帯を硝酸浴に浸漬する酸洗方法において、前記硝酸浴の硝酸濃度を7質量%〜13質量%、浴温を10℃〜35℃未満、酸洗時間を3〜7秒とする。 - 特許庁
例文 (101件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|