「process simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device in which planarity of an interconnection forming layer is ensured in planarization processing performed during an interconnection forming process, and circuit simulation can be performed with high precision by reducing capacitance between the interconnection and dummy wiring.例文帳に追加

配線形成工程で実行される平坦化処理の際の配線形成層の平坦性の確保と、配線とダミー配線との間の容量の低減化による回路シミュレーションの高精度化を図ることができるようにした半導体装置を提供する。 - 特許庁

To run a simulation for the characteristic of a design object, in consideration of fluctuation of size or characteristic possessed by the design object or the component member of the design object, or manufacturing fluctuation or the like in the manufacturing process of the design object.例文帳に追加

設計対象物の特性を、設計対象物、あるいは該設計対象物の構成部材が有する寸法若しくは特性のばらつき、又は設計対象物の製造工程における製造ばらつき等を考慮してシミュレーションする。 - 特許庁

This power consumption optimization method includes an activity ratio information acquisition process for operating circuit simulation by using the sources, and for acquiring activity ratio information showing the activity ratio of each logical path described in the HDL, and a logical composition process for performing logical composition in consideration of the power consumption of each logical path based on the activity ratio information.例文帳に追加

消費電力最適化方法は、ソースを用いて回路シミュレーションを行い、ＨＤＬで記述された各論理パスの活性度を示す活性度情報を取得する活性度情報取得工程と、活性度情報に基づいて各論理パスの消費電力を考慮して論理合成を行う論理合成工程とを有する。 - 特許庁

This information transmission network generating method is provided with a means for investigating an information transmitting process between nodes in an objective area, a network forming means for forming a network between the nodes by a biased net model logic including time concept from this obtained data, and a simulation forming means for expressing the information transmitting process successively transmitted and spread from an optional information transmitting source as a network forming process.例文帳に追加

対象域のノード間の情報伝達過程を調査してそのデータを取得する手段と、この取得されたデータを時間概念を含む偏ネットモデル理論によってノード間ネットワークを形成するネットワーク形成手段と、任意の情報発信源から順次伝え広められる情報伝達過程を、ネットワーク形成過程として表現するシミュレーション形成手段とを具備してなる情報伝達ネットワークの生成方法である。 - 特許庁

A single graphic display editor may be used to create various interrelated graphic displays that may be accessed from one another in the runtime environment to provide further information about a process entity within one of the graphic displays, to scroll through adjacent sections of a process plant or to provide different functions in the process plant with different displays for an operator viewing function, a simulation function and a maintenance function.例文帳に追加

単一のグラフィック表示エディタは、実行時環境で互いに他からアクセスされて、グラフィック表示のうちの一つの中のプロセスエンティティについて更なる情報を与え、プロセスプラントの隣接する区分を通してスクロールし、またはプロセスプラント内の異なる機能に対して、オペレータビューイング機能、シミュレーション機能および保守機能のための異なる表示を提供できる、各種の相互関連グラフィック表示を生成するのに使用できる。 - 特許庁

To provide a casting simulation method which enables the accurate prediction of occurrence of hot/cold crack during a cooling process in a cast product obtained by casting, and also to provide an apparatus therefor, program therefor, a program-recording medium and a casting method.例文帳に追加

鋳造により得られる鋳物について、冷却過程における熱・冷間割れの発生を正確に予測することができる鋳造シミュレーション方法、その装置、そのプログラム、及び当該プログラムを記録した記録媒体、並びに鋳造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for verifying pattern data of a semiconductor device for appropriately deciding whether the allowable error of design data of a pattern to be formed in a lithographic process using at least two masks is within an appropriate range or not by the use of simulation.例文帳に追加

少なくとも２枚のマスクを用いるリソグラフィ工程において、形成されるパターンの設計データの許容誤差が適正な範囲内であるか否かをシミュレーションを利用して適正に判断する半導体装置のパターンデータの検証方法を提供する。 - 特許庁

If it exceeds the maximum electric energy, the power management device performs a simulation process of calculating the consumed electric energy that can be cut while changing the setting of usage conditions of the apparatus.例文帳に追加

最大電力量を超えた場合、電力管理装置は、事前に、超過分の消費電力量に応じて設定された電力削減レベルに基づいて、機器の使用条件の設定を変更しながら削減可能な消費電力量を算出するシミュレーション処理を実行する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing curved glass which is used in the windows of vehicles such as automobiles and which is formed by its own weight-curving process, particularly using a simulation.例文帳に追加

自動車などの車両に用いられ３次元曲げガラスを、シミュレーションで求められる成形温度分布に従い、自重曲げ加工で製造する場合、自重曲げ加工に用いる加熱炉で該成形温度分布が達成できず、既存の加熱炉を用いて製造することが困難となる。 - 特許庁

To verify timing of worst or best-case simulation after obtaining the result of highly accurately extracting a parasitic element allowing for wiring shape variations occurring in an LSI at random, when verifying timing allowing for variations in a manufacturing process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造プロセスばらつきを考慮したタイミング検証を行なう際、ＬＳＩ内でランダムに発生する配線形状ばらつきを考慮して高精度に寄生素子抽出の結果を得てワースト又はベストケースシミュレーションのタイミング検証を行なう。 - 特許庁

To provide a simulation method permitting estimation of the composition of a guest substance fluid in a formation system in the process of continuous formation of a hydrate, a crystal structure of the hydrate in equilibrium with the guest substance fluid phase and changes of the composition of the guest substance in the crystal.例文帳に追加

ハイドレートを連続生成する過程での生成系内のゲスト物質流体の組成と、そのゲスト物質流体相と平衡するハイドレートの結晶構造と、該結晶内のゲスト物質組成の推移が予測できるシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.例文帳に追加

すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁

To provide a method and a program for rim roll forming analysis simulation capable of performing the analysis processing of the deformation mode in a short time while maintaining the desired analysis accuracy in a rim roll forming process of forming a wheel rim of a vehicle wheel.例文帳に追加

車両用ホイールのホイールリムを成形するリムロール成形過程で、その変形態様を、所望の解析精度を維持しつつ、短時間で解析処理することができるリムロール成形解析シミュレーション方法及びリムロール成形解析シミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an assembling simulation device of a linear flexible material that analyzes the deformed shape in assembling work of the linear flexible material, displays it on a screen, and can apply a force sense required for assembling in a restricting and operating process from a non-restricted position.例文帳に追加

線状柔軟物の組付作業に際しての変形形状を解析して画面表示すると共に、非拘束位置から拘束操作される過程での組付けに必要な力覚を付与し得る線状柔軟物の組付けシミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

To provide a building simulation sheet capable of stereoscopically and rapidly presenting to a user, in the process of the user selecting a finishing material, the finish feeling (completion image) of the exterior or the interior of a building to which the finishing material specified by the user is applied.例文帳に追加

ユーザーが仕上げ材を選定する過程において、ユーザーの指定した仕上げ材を施した建物の外装あるいは内装の仕上がり感（完成イメージ）を、立体的に、且つ、速やかにユーザーに提示することができる建築用シミュレーションシートを提供すること。 - 特許庁

Alternatively, in the Monte Carlo simulation calculating process for an ion implantation process, when scattering of a cluster-type molecular ion consisting of ten or more atoms is calculated by the Monte Carlo method, if a large angle scattering event resulting in energy loss designated by a predetermined parameter occurs, the cluster-type molecule is decomposed, and a travelling direction of decomposed individual atom is defined at random.例文帳に追加

もしくは、イオン注入プロセスのモンテカルロシミュレーション計算過程において、１０個以上の原子からなるクラスター型分子イオンのモンテカルロ法による散乱を計算する場合に、所定のパラメータで指定したエネルギー損失になる大角度散乱イベントが起きた段階で、クラスター型分子を分解させ、かつ分解した個々の原子の進行方向をランダムに決定する。 - 特許庁

A test pattern compressing function by repeating a test pattern reactivating technique in a test pattern creating process and a test pattern compressing function by discriminating a test pattern which detects the largest number of undetected failures from among a plurality of test patterns used in the repeated process are simultaneously made compatible at a high speed by using a PPPF failure simulation technique.例文帳に追加

テストパタンの再活性化手法をテストパタン生成工程において繰り返すことによるテストパタン圧縮機能、及び当該繰り返し工程において用いられる複数のテストパタンの中から最も多くの未検出故障を検出するテストパタンを識別することによるテストパタン圧縮機能を、ＰＰＰＦ故障シミュレーション手法を用いることで同時に高速に両立する。 - 特許庁

This plant operation support device which is configured so that a process simulation is performed, in parallel with the operation of an actual to predict the operation of the actual plant is provided with a display means for displaying the range of influence of the operation to be given to the actual plant and the inclination of the influence range.例文帳に追加

実プラントの動作と並行してプロセスシミュレーションを行い、実プラントの動作を予測するように構成されたプラント運転支援装置において、前記実プラントに与える操作の影響範囲とこの影響範囲の傾向を表示する表示手段を設けることを特徴とするもの。 - 特許庁

The plant operation support apparatus which is constituted so as to predict operation of a real plant by performing process simulation in parallel with the operation of a real plant, is provided with a display means which identifiably displays a prediction alarm to a predicted value whether it is confirmed or unconfirmed.例文帳に追加

実プラントの動作と並行してプロセスシミュレーションを行い、実プラントの動作を予測するように構成されたプラント運転支援装置において、予測値に対する予測アラームを確認済みと未確認が識別可能に表示する表示手段を設けたことを特徴とするもの。 - 特許庁

A signal deterioration simulation means 30 simulates a signal deterioration process, and converts the hypothesis x^(n) into a deterioration hypothesis y^(n), and a likelihood arithmetic means 40 compares the deterioration hypothesis y^(n) with a deterioration signal y to generate a likelihood signal λ^(n), and a coordinate conversion means 50 converts it into a likelihood signal K^(n).例文帳に追加

信号劣化模擬手段３０は、信号劣化過程を模擬して仮説ｘ^（ｎ）を劣化仮説ｙ^（ｎ）に変換し、尤度演算手段４０は、劣化仮説ｙ^（ｎ）と劣化信号ｙとを比較して尤度信号λ^（ｎ）を生成し、座標変換手段５０は、尤度信号Ｋ^（ｎ）に変換する。 - 特許庁

To enter into consideration of an influence of pattern density/position near a pattern to be measured, in a process of estimating a cross-sectional shape of the pattern by matching a SEM signal waveform of the pattern, with a library correlating a cross-sectional shape calculated by a simulation and a signal waveform.例文帳に追加

計測対象パターンのＳＥＭ信号波形と，シミュレーションにて算出した断面形状と信号波形を関連づけるライブラリとのマッチングにより計測対象パターン断面形状を推定する手法において、対象パターンの近傍のパターン密度／配置の影響が考慮されるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor process simulation device which adopts an impurity diffusion model under the consideration of a dislocation loop for reducing a time and labor required for extracting the physical quantity of the dislocation loop from a transmission electron microscope picture.例文帳に追加

転位の輪を考慮に入れた不純物拡散モデルを取り入れた半導体プロセスシミュレーション装置において、転位の輪の物理量を透過電子顕微鏡写真から抽出する時間と労力を低減した半導体プロセスシミュレーション装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A ratio between the decrease in the signals after hard clipping from the original transmission signals and the suppressed signals from the original signals after filtering is used or a value which is determined by simulation depending on a cut-off frequency of a low-pass filter used for the filtering process is used as the gain.例文帳に追加

ゲインは、ハードクリッピングした後の信号の元の送信信号からの減少分の信号と、フィルタリング後の信号の元の送信信号からの抑圧分の信号との比を使うか、フィルタイリング処理に使用するローパスフィルタのカットオフ周波数に依存してシミュレーションによって決定した値を使う。 - 特許庁

To solve the problems that it is required to wait at parts different from a purpose such as the change of weight, the change of a pressure and the movement of a raw material and waiting time is generated until a state capable of confirmation is attained since simulation is performed by the operation time of an actual process regarding program operation confirmation and the confirmation of an operation.例文帳に追加

プログラム動作確認やオペレーションの確認に関し、実プロセスの動作時間でシミュレーションされているため、重量の変化や圧力の変化、原料の移動等目的とは異なるところで待つ必要があり、確認できる状態になるまで待ち時間が発生するという問題を解決する。 - 特許庁

The simulator 16 has (a) a priority calculation means 17 for calculating the priority for each work for all works comprising work-in-process and new work, and (b) a simulation means 18 for simulating each work according to the priority calculated by the priority calculation means 17.例文帳に追加

シミュレータ１６は、ａ）仕掛中ワークと新規ワークから構成されるすべてのワークについて、ワーク毎の優先度を算出する優先度算出手段１７と、ｂ）優先度算出手段１７で算出された優先度に従って、各ワークについて作業処理シミュレーションを実施するシミュレーション手段１８と、を有する。 - 特許庁

A software model of the SoC device is operated according to a test program having made the trouble occur in the hardware model simulation, and memory access, an update wait of a memory, register access, and an update wait of a register occurring in a process of the operation are recorded in a log in order of the occurrence while each of them is converted into an RTL (Register Transfer Logic).例文帳に追加

ハードウェアモデルシミュレーションにて不具合を発生させたテストプログラムにしたがって、そのＳｏＣデバイスのソフトウェアモデルを動作させ、その動作の過程で発生するメモリアクセス、メモリの更新待ち、レジスタアクセス、およびレジスタの更新待ちの各々をＲＴＬに変換しつつその発生順にログに記録する。 - 特許庁

The simulator 1 for water-quality in a water purification plant comprises the element model housing element 2, which houses element models for water-quality simulation of the process of the water treatment in the water purification plant and the selective input element 2a, which selects the element model satisfying the condition, from the element models housed in the element model housing element 2.例文帳に追加

本発明の浄水場水質シミュレータ１は、浄水場の水処理プロセスの水質シミュレーションのための複数の要素モデルを格納する要素モデル格納部２と、要素モデル格納部２に格納されている複数の要素モデルから条件に適合する要素モデルを選択する選択入力部２ａと、を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for simulating the shape of a resist pattern and a recording medium in which the shape of a resist pattern being formed on an wafer is predicted by numerical simulation without requiring any preliminary measurement or experiment for predicting diffusion phenomenon of acid in the heating process of resist following to exposure.例文帳に追加

レジスト露光後加熱の工程における酸の拡散現象を予測するために予備的な実測実験を行なうことなく、ウェーハ上に形成されるレジストパターン形状を数値シミュレーションにより予測するレジストパターン形状のシミュレーション装置、シミュレーション方法および記録媒体を提供する。 - 特許庁

The truck simulation device includes a means 35 for generating each unit schedule Sch in which the plate components w included in the production instruction information F1 are divided into a unit of truck 5 by each post-process 6 according to a setting rule R, and assembled to production units for a plurality of trucks to be processing quantity by each setting processing time.例文帳に追加

生産指示情報Ｆ１に含まれる板材部品ｗを、設定規則Ｒに従い、後工程６毎の台車５の単位に分け、かつ設定加工時間毎の加工数量となる複数台の台車分の生産単位にまとめた各単位スケジュールＳｃｈを生成する手段３５を設ける。 - 特許庁

A lithographic simulation process is described, where each irradiation source point in a preselected group of irradiation source points at a pupil plane of an irradiation source is represented by one or more variable parameters, and at least some of the variable parameters characterize a polarization state at the radiation source point.例文帳に追加

照射源の瞳面における照射源ポイントのあらかじめ選択された群の各照射源ポイントが、１つまたは複数の可変パラメータによって表され、可変パラメータのうちの少なくともいくつかが、照射源ポイントにおける偏光状態を特徴づける、リソグラフィのシミュレーションプロセスが説明される。 - 特許庁

The information processor is configured to simulate the control operation of an image forming apparatus, and to specify a region on a sheet to which an image is formed by executing each image forming process, based on the simulation result, and to verify whether or not the region satisfies a predetermined criterion.例文帳に追加

本発明の情報処理装置では、画像形成装置の制御動作をシミュレーションするとともに、シミュレーション結果に基づいて、各画像形成プロセスの実行によって形成される画像が用紙上で転写される領域を特定し、当該領域が所定の基準を満たしているか否かを検証する。 - 特許庁

In the display method for displaying a simulation result of an injection molding process, the maximum temperature out of temperature computed at each point existing within a predetermined range from an object point on the shaped surface of the molding is displayed as the temperature of the object point on the shaped surface of the molding.例文帳に追加

射出成形プロセスのシミュレーション結果を表示する表示方法であって、成形品の形状表面上の対象点から所定範囲内に存在するそれぞれの点において算出された温度のうち最大温度を前記成形品の形状表面上の対象点の温度として表示することを特徴とする表示方法を提供する。 - 特許庁

After a processing objective pattern MP1 is subjected to rule-based correction so as to obtain an etching pattern EP corresponding to the processing objective pattern MP1 by referring an etching pattern EP, the rule-base corrected processing objective pattern MP3 is subjected to simulation-based correction to generate an optical proximity effect corrected mask pattern MP4 by considering the etching process.例文帳に追加

エッチングパターンＥＰを参照し、処理対象パターンＭＰ１に対応したエッチングパターンＥＰが得られるように、処理対象パターンＭＰ１をルールべースで補正した後、ルールべースで補正された処理対象パターンＭＰ３をシミュレーションベースで補正することにより、エッチングプロセスを考慮して光近接効果補正されたマスクパターンＭＰ４を生成する。 - 特許庁

In the step S1 in the manufacturing process, at least the conductor pattern width, conductor pattern thickness, and insulating layer thickness are taken as parameters, and an effective conductor pattern width expressed by multiplying these parameters by a prescribed factor to correct them is introduced, and the simulation values of the characteristic impedances are calculated as a function of the effective conductor pattern width.例文帳に追加

このとき、製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、少なくとも、導体パターン幅、導体パターン厚、及び絶縁層厚をパラメータとするとともに、これらパラメータに対して所定の係数を乗じて補正することによって表される実効導体パターン幅を導入し、実効導体パターン幅の関数として、特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

To enhance the shape estimating accuracy and vol. shrinkage factor estimating accuracy of a molded article, and to achieve good shape estimating accuracy and vol. shrinkage factor estimating accuracy especially with respect to a molded article, wherein thick and thin wall parts coexist in injection molding process simulation.例文帳に追加

射出成形プロセスシミュレーションにおいて、成形品の形状予測精度及び体積収縮率予測精度の向上を課題とし、特に肉厚の厚い部分と薄い部分の共存する成形品について良好な形状予測精度及び体積収縮率予測精度を達成することのできる射出成形プロセスシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

The make-up advice system is provided with a computing process means of forming and outputting simulation pictures of make-up faces for a target person on a plurality of impressions after collecting facial pictures of the target with a picture input means and classifying them into a plurality of impression patterns according to amount of characteristics and outputting the results.例文帳に追加

化粧アドバイスシステムが、画像入力手段から取得した対象者の顔画像を取得し、その顔画像の特徴量に基づいて対象者の顔の印象を複数の印象パターンのいずれかに分類し、その分類結果を出力すると共に、対象者の化粧顔のシミュレーション画像を、複数の印象について形成し、出力する演算処理手段を有する。 - 特許庁

When a verification request for a verification path is accepted, by using a targeted vehicle selecting means and a targeted vehicle tracing means, along the verification path, selecting and tracing the targeted vehicle is performed from the starting point.When the targeted vehicle deviates from the verification path, tracing is continued by selecting the next targeted vehicle from the deviated point, and simulation running is carried out to a destination by repeating the process above.例文帳に追加

検証経路に対する検証要求を受け付けたとき、ターゲット車両選出手段とターゲット車両追跡手段とを用いて、検証経路に沿って、出発地からターゲット車両の選出と追跡を行い、該ターゲット車両が検証経路を逸脱したときにはその位置から次のターゲット車両を選出して追跡し、これを目的地に至るまで繰り返して模擬的な走行を行う。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁

The scale state prediction device 12 comprises a simulating means 16 determining the structure of scale and simulating the progress of structure destruction caused by receiving growth and stress based on the scale structure, and separation timing predicting means 17 predicting the separation timing of scale actually generated to the boiler heat transfer pipe based on information on the progress process of structure destruction obtained by simulation of the simulating means 16.例文帳に追加

スケール状態予測装置１２を、スケールの構造を決定し、スケール構造に基づいてその成長、及び応力を受けることにより生じる構造破壊の進行をシミュレートするシミュレート手段１６と、シミュレート手段１６のシミュレーションによって得た前記構造破壊の進行過程の情報に基づいて、実際のボイラ伝熱管に生じるスケールの剥離時期を予測する剥離時期予測手段１７とを有する構成とする。 - 特許庁