例文 (3件) |
process lapse rateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
To provide a plasma-assisted sputter deposition system which provides the fixed sputtering rate of a target with the lapse of time, and also can make process conditions which are not varied.例文帳に追加
時間の経過に伴なってターゲット部材の一定のスパッタ速度を提供し、かつ変動しないプロセス条件を作ることのできるプラズマ支援スパッタ成膜装置を提供する。 - 特許庁
The method includes establishing the orientation state of the pigment 11 during applying the coating material 12, and then calculating the orientation state of the pigment 11 at the time (t) of lapse of a specified hour from the start of coating, based on a shrinkage rate gradient of the coating material 12 in the coat thickness direction through a drying process.例文帳に追加
塗料12の塗着時における顔料11の配向状態を設定し、塗料12の乾燥過程における膜厚方向の収縮速度勾配に基づいて塗着時から所定時間経過した時刻tの顔料11の配向状態を算出する。 - 特許庁
The apparatus enables separation extraction and recovery of products produced in the process of decomposing garbage with microorganisms as series of compounds or as single compounds, grasping the production rates of products and reaction heat with respect to the decomposition lapse time and the thermal balance within the treatment vessel and control of the recovery rate for each product.例文帳に追加
微生物による生ごみの分解過程において生成される生成物をそれぞれ同系列化合物や単一の化合物ごとに分離抽出して回収することを可能とし、分解経過時間に対する生成物の生成速度や反応熱生成速度や処理槽内の熱収支を把握することを可能とし、各生成物の回収率の制御を可能とした。 - 特許庁
例文 (3件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|