「production direction」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Using a semiconductor production system having a first processing apparatus 101 and a second processing apparatus 111 in a second step, processing direction of a wafer 115 in the processing apparatus 111 is controlled such that a thin film or a structure formed on the wafer has a uniform height in the wafer plane based on the measurement data of a wafer 105 processed by the processing apparatus 101.例文帳に追加

第１のプロセス装置１０１と、１つ以上後の第２のプロセス装置１１１とを有する半導体製造システムを用い、プロセス装置１０１で処理されたウエハ１０５の計測データを基に、ウエハ上に形成された薄膜膜厚もしくは構造体の高さがウエハ面内で均一になるように、プロセス装置１１１におけるウエハ１１５の処理方向を制御する。 - 特許庁

In the production method for the microcapsule, the microcapsule 20 is produced by feeding a phase 18 to be used as a shell and an internally contained phase 19 to a continuous phase 17 running in a microchannel 12 in the crossing direction of the continuous phase 17, and by feeding the phase 18 to the phase 19 from the upstream so as to form a thin layer.例文帳に追加

マイクロカプセルの製造方法において、マイクロチャンネル１２中を流れる連続相１７に対し、殻となる相１８および内部に内包される相１９を、前記連続相１７の流れに交差する向きで供給し、前記殻となる相１８は前記内部に内包される相１９に対して上流側から薄い層をなすように供給し、マイクロカプセル２０を得る。 - 特許庁

To provide a developing device having simple structure, reducing the cost of components and production and capable of maintaining fine picture quality by suppressing the variation of toner density by autonomously correcting the deviation of developer distribution even when the developing device or an image forming apparatus on which the developing device is mounted is arranged obliquely from a horizontal direction.例文帳に追加

構造が簡単であって、部品や製造のコストがかからず、しかも、現像装置や当該現像装置が搭載された画像形成装置が、水平方向に対して傾斜して配置された場合であっても、現像剤分布の偏りを自律的に修正しトナー濃度の変動を抑えることで、良好な画質を保つことが可能な現像装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The production process of fiber-reinforced resin sheet includes the step of: impregnating a matrix resin M to a reinforcing fiber F by feeding the reinforcing fiber substrate F that remains pulled and aligned in one direction and matrix resin P that remains fluidizable through the pair of pressing members 11, 12; and by pressing the reinforcing fiber substrate F and matrix resin P with a pair of pressing members.例文帳に追加

一対の押圧部材の間に、強化繊維が一方向に引き揃えられた強化繊維基材Ｆと、流動可能な状態のマトリクス樹脂Ｐとを供給し、一対の押圧部材１１、１２で、強化繊維基材Ｆとマトリクス樹脂Ｐとを押圧することにより、強化繊維基材Ｆにマトリクス樹脂Ｍを含浸させる繊維強化樹脂シートの製造方法である。 - 特許庁

In the production method for an exhaust gas purification catalyst by carrying catalytic components in a honeycomb structure 8 having a large number of gas flow paths along the gas flow direction, a plurality of slurries containing catalytic components with different solid matter concentrations are produced and the honeycomb carrier 8 is coated successively with the slurries in the order of lower solid matter concentrations and repeating the drying steps to carry the catalytic components.例文帳に追加

ガス流通方向に沿った多数のガス流路を有するハニカム構造体８に触媒成分を担持させる排ガス浄化触媒の製造方法において、触媒成分を含有するスラリを固形分濃度を変えて複数調製し、ハニカム担体８に固形分濃度が低いスラリから順にコーティングし、その後乾燥する工程を繰り返して触媒成分を担持させること。 - 特許庁

To obtain a low-cost and high-performance semiconductor integrated circuit and its manufacturing method by preventing production of drum shapes in a second insulating layer which insulates conductive layers, by etching in lateral direction in a multilayer wiring construction in which layers including conductive layers as wiring are formed in multilayer, by interposing a first insulating layer made mainly of organic polymer film.例文帳に追加

配線となる導電層を含む層状部分が、有機高分子膜を主材料とする第一絶縁層を介在して多層的に形成された多層配線構造において、横方向エッチングによって導電層間を絶縁する第二絶縁層に太鼓形状が生じることを防止し、低コストで高性能な半導体集積回路およびその製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

The production method comprises cutting out a rod-like glass body having a face parallel to the stria from a lump of silica-titania glass having layered striae, holding both ends of the rod-like glass body with a pair of rotatable holding means, and performing a homogenization treatment to remove the striae by applying a zone-melting method so that shearing stress acts in the direction perpendicular to the axis parallel to the striae.例文帳に追加

層状の脈理を有するシリカ・チタニアガラス塊から、脈理と平行な面を有する棒状ガラス体を切り出し、該棒状ガラス体の両端部を一対の回転可能な保持手段で保持し、脈理と平行な軸と垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施すようにした。 - 特許庁

To provide a liquid injecting device for a vehicle facilitating an alignment of an injection opening and an injection gun, and capable of flexibly coping with a big position variation during injection when liquid is injected to the opening of the vehicle transferred by a vehicle transfer device in a production line from the injection gun attached to a robot synchronously transferred in the same direction as the vehicle is transferred.例文帳に追加

生産ラインで車両搬送装置により搬送中の車両に対して、その搬送方向と同方向に同期して移送されるロボットに取り付けた注入ガンから注入口に液体を注入する場合において、注入口と注入ガンとの位置合わせが容易で、注入中の大きな位置変動に対しても柔軟に対応することのできる車両用液体注入装置を提供すること。 - 特許庁

In a production method, a thermoplastic polymer sheet melt- extruded from a T-die or a coat hanger die is cooled with the use of a metal belt 0.1 μm or below in maximum surface roughness (Rmax) which is brought into contact with the sheet curvaturelessly to the flow direction of the sheet extruded from the die for at least 20 sec.例文帳に追加

Ｔダイもしくはコートハンガーダーから溶融押しだしされた熱可塑性高分子シートを、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）が０．１μｍ以下で、且つ、ダイから押し出された前記熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が２０秒以上ある長さの金属ベルトを用いて冷却シート化することを特徴とする熱可塑性高分子シートの製造方法である。 - 特許庁

The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.例文帳に追加

プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に１以上の凹所を有する基台を準備する第１のステップと、フィルム状をした２以上の乾燥ホトレジストを重ねた第１のホトレジスト層であって当該第１のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第１のホトレジスト層を前記主面に形成する第２のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The production method for the ceramic substrate comprises firing the primarily fired substrate which is obtained by firing an unfired one in such a state as being pinched and pressed in a thickness direction to obtain a secondarily fired substrate in which the distortion on the primarily fired substrate is corrected, arranging an electrode material in layers on the surface of the resultant secondarily fired substrate and firing to form an electrode layer.例文帳に追加

未焼成基板を焼成して得られた一次焼成基板を厚み方向に挟持加圧した状態で焼成することにより一次焼成基板に生じた歪みを修正した二次焼成基板を得、得られた二次焼成基板の表面上に電極材料を層状に配設するとともに焼成して電極層を形成することにより、セラミック基板を得ることを含むセラミック基板の製造方法である。 - 特許庁

In the production method for compound single crystal for epitaxially growing the compound single crystal layer, different from a compound single crystal substrate on the surface of this substrate, at least one part of the substrate surface has a plurality of projections, extending in one direction and each of such projections is provided, so that the defects to be grown with the epitaxial growth of this compound monocrystal layer can mutually meet.例文帳に追加

化合物単結晶基板の表面にこの基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、前記基板表面の少なくとも一部が一方向に延在する複数の起伏を有し、かつこの起伏は前記化合物単結晶層のエピタキシャル成長に伴って成長する欠陥が互いに会合しあうように設けられた方法。 - 特許庁

Among those SMEs that have already advanced into India, a relatively large number have done so as subcontractors for automakers at the request of their trade partners. Such SMEs in the automobile parts industry are expected to continue expanding into India, since Japanese automakers have been moving in recent years in the direction of expanding automobile production functions in India.例文帳に追加

すでに進出している中小企業においても、自動車最終メーカーの下請として取引先からの要請で展開してきているケースが比較的多く、こうした自動車部品関連産業における中小企業においては、近年日系の自動車最終メーカーがインドにおける自動車の生産能力を拡張する方向に動いていることから、今後も進出が進んでいくと見込まれる。 - 経済産業省

The semiconductor device manufacturing facility installed in a semiconductor device production line comprises a robot means Ra installed in a transfer chamber 30a and having a robot arm 18 for selectively fixing a wafer W to drive to extend or contract, to vertically move and to rotate the arm 18, and a process chamber 32a and a load locking chamber 34a selectively coupled to communicate with the chamber 30a and disposed in a height direction.例文帳に追加

半導体装置生産ラインに設置される半導体装置製造設備において、ウェーハＷを選択的に固定させるロボットアーム１８が設けられ、そのロボットアーム１８を伸縮駆動、昇降駆動及び回転させるロボット手段Ｒａがトランスファチャンバ３０ａに設置され、トランスファチャンバ３０ａに工程チャンバ３２ａ及びロードロックチャンバ３４ａが選択的に連通して連結され、それぞれ高さ方向に配置されて構成される。 - 特許庁

(1) Where an application has been made to the Commissioner for the grant of a patent, and it appears to the Commissioner that the invention which is the subject-matter of the application relates to the production or use of energy derived from the atomic nucleus or research into matters connected therewith he shall serve a notice in writing on the Minister of Defence to that effect, and may, notwithstanding anything in this Act or any other Act, omit or delay the doing of anything which he would otherwise be required to do in relation to the application, and give directions for prohibiting or restricting the publication of information with respect to the subject-matter of the application or the communication of that information to particular persons or classes of persons; and any person who contravenes any such direction commits an offence against this section.例文帳に追加

(1) 局長に特許出願がされる場合において，その出願の対象である発明が原子核から発生するエネルギーの生産若しくは使用又はこれに関連する事項の研究に係わると局長が認めるときは，局長は，書面でその旨の通知を国防大臣に送達しなければならず，また，本法その他の法律の規定に拘らず，本項の規定がなければ当該出願について実行しなければならない筈の何れの事項も実行することを省き又は延期することができ，更に，当該出願の対象に関する情報の公表又は特定の者若しくは特定部類に属する者に対するその情報の伝達を禁止し若しくは制限するために，指示を発することができるものとし，この指示に違反する者は，本条に違反する犯則者とする。 - 特許庁