「radiation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a catalyst-assisted chemical vapor deposition apparatus that can make a low-temperature process possible by reducing heat radiation to a substrate.例文帳に追加

触媒化学蒸着装置において、基板への熱輻射を低減することでさらなるプロセスの低温化を可能にする蒸着装置を提供する。 - 特許庁

This process for producing the modified substrate includes a step of exposing to radiation a substrate while in contact with an aqueous solution containing a hydrophilic polymer and an antioxidant.例文帳に追加

また基材を親水性高分子および抗酸化剤を含む水溶液と接触下、放射線照射する該改質基材の製造方法。 - 特許庁

To provide an improved alignment system capable of detecting the marker which has received process fluctuation, by allowing use of smaller alignment marker or radiation of different wavelength.例文帳に追加

より小さいアライメントマーカや異なる波長の放射を使用できるようにし、プロセス変動を受けたマーカを検出できる改良アライメントシステムを提供する。 - 特許庁

PROCESSING PROCESS FOR DIRECTING ONE OR PLURAL RADIATION RADIO WAVE BEAMS FOR COMMUNICATION BETWEEN BASE STATION AND MOBILE RADIO TELEPHONE AND BASE STATION CORRESPONDING TO THE SAME例文帳に追加

基地局と移動無線電話との間の通信用の１つ又は複数の放射電波ビ—ムを方向づける処理プロセス、及びそれに対応する基地局 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition for use in a lithography process includes (A) a polymer, containing a structure represented by Formulae (1) and (B) a solvent.例文帳に追加

リソグラフィープロセスにおいて用いられる感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）下記式（１）で表される構造を含む重合体と、（Ｂ）溶剤とを含む。 - 特許庁

To inexpensively provide a thermo-module which has high heat absorption/radiation efficiencies, avoids breakage of a module due to dew condensation and corresponds to a lead-free soldering process.例文帳に追加

吸放熱効率が高く、結露にともなうモジュールの破損を回避し、鉛フリー半田付けプロセスに対応したサーモモジュールを低コストで提供する。 - 特許庁

in cancer treatment, a process used to plan radiation therapy so that the target area is precisely located and marked. 例文帳に追加

がん治療においては、放射線療法の計画で用いられるプロセスのことを指し、これにより対象部位を正確に特定およびマークできるようになる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

The degree of heat radiation DR is estimated based on vehicle speed SP during execution of PM regeneration process, and target flow in exhaust gas temperature TEt is calculated as a lower value as the degree of heat radiation DR is lower (S105).例文帳に追加

ＰＭ再生処理の実施中における車両の車速ＳＰに基づいて放熱度合いＤＲを推定し、放熱度合いＤＲが低いほど目標流入排気温度ＴＥｔが低い値として算出する（Ｓ１０５）。 - 特許庁

At this time, a releasing sheet 6 which is hard to stick on the resin film 2 and a heat radiation member 7 is previously provided between the one-surface conductor pattern films 1 and the heat radiation member 7 as a removal part of the multilayer substrate 8 in a bonding process.例文帳に追加

この際、積層工程において、多層基板８の除去部となる片面導体パターンフィルム１と放熱部材７との間に、予め樹脂フィルム２及び放熱部材７に対して難着性を示す離型シート６を設けた。 - 特許庁

To provide: novel photoinitiators and to mixtures thereof for radiation-curable compositions, especially using ultraviolet and visible radiation; intermediates for their preparation; and a process for the preparation of the initiators from the intermediates.例文帳に追加

特に紫外線及び可視光線を使用する放射線硬化性組成物のための新規光開始剤及びそれらの混合物、それらの調製のための中間体、及び中間体からの開始剤の調製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation measuring system capable of predicting a more precise radiation dose measured value in consideration of also an effect of a nuclear reaction generated by a nuclide in equipment, in a spent fuel reprocessing process.例文帳に追加

使用済燃料再処理工程において、機器内の核種の起す核反応の影響も考慮して、より精度の高い放射線量計測値の予測を可能とする放射線計測システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a far-infrared radiation material in which burning process is not necessary, production cost is low and which can be stably supplied; a producing method of the same; and a far-infrared radiation material solidification.例文帳に追加

、焼成工程が不要であり、製造コストが低廉で、安定供給が可能な遠赤外線放射材料及びその製造方法並びに遠赤外線放射材料固化物を提供することを解決すべき課題としている。 - 特許庁

To provide a radiation detector assembly which is low-cost and of high reliability by a method wherein the production process and the number of the radiation detector assembly are simplified and the creep of moisture to an element formation layer in a photoelectric conversion part from a scintillator substrate is prevented.例文帳に追加

放射線検出装置の製造工程・部材を簡略にし、シンチレータ基板から光電変換部の素子形成層への水分進入を防止し、低コストで高信頼性の放射線検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist sensitive to active radiation particularly to far ultraviolet rays represented by a KrF excimer laser, an ArF excimer laser or an F_2 excimer laser, excelling particularly in a process margin for the KrF excimer laser.例文帳に追加

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーあるいはＦ_2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、特にＫｒＦエキシマレーザーに対するプロセスマージンに優れる。 - 特許庁

The method for manufacturing an optical article comprising a process for applying or filling a radiation curable resin on a finely uneven die surface of a stamper, laminating a base material thereon and then irradiating it with radiation, thereby subjecting a cured product of the radiation curable resin and the base material to polymerization bonding, wherein the stamper has radiation transparency for irradiation with radiation from the stamper side.例文帳に追加

スタンパの微細な凹凸を有する型面に放射線硬化型樹脂を塗布もしくは充填し、基材を積層した後、放射線を照射して、前記放射線硬化型樹脂の硬化物と前記基材とを重合接着させる工程を含む光学物品の製造方法であって、前記スタンパが放射線透過性を有しており、放射線の照射はスタンパ側から行うことを特徴とする光学物品の製造方法である。 - 特許庁

To prevent lowering of yield due to poor formation of a scintillator in production process, to improve work efficiency by simplifying the production process, and to manufacture high precision radiation image detectors.例文帳に追加

製造工程におけるシンチレータ部の形成不良による歩留まり低下を防止し、製造工程を簡素化して作業効率を向上させながら、高精度な放射線画像検出装置の製造を可能にする。 - 特許庁

Also, the radiation imaging apparatus creates data for remaining compressed images, creates difference data in the direction of the signal line for each image data making up data for remaining images after the thinning process, and performs a compression process on the difference data.例文帳に追加

また、圧縮残り画像用データを作成する、間引き処理後の残り画像用データを構成する各画像データについて信号線方向の差分データを作成し、当該差分データに対して圧縮処理を行う。 - 特許庁

The inkjet recording method includes a process to eject the ink composition on a recording medium and a process to cure the ejected ink composition by applying radiation to the composition.例文帳に追加

また、被記録媒体上に、前記インク組成物を吐出する工程、及び、吐出されたインク組成物に放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

The image processor 2 for applying image processes to data of a plurality of radiation images produced by radiation photographing apparatus having different constitutions comprises a means 24f for determining image processing conditions for applying the image process, based on factors having influences on the quality of the radiation image when the photographing apparatus generate the data of the radiation images.例文帳に追加

異なる構成の放射線撮影装置により生成された複数の放射線画像のデータに画像処理を施す画像処理装置２に、放射線撮影装置による放射線画像のデータ生成時に当該放射線画像の画質に影響を与える因子に基づいて、画像処理を施す際の画像処理条件を決定する画像処理条件決定手段２４ｆを設ける。 - 特許庁

A method includes the steps of defining a lithography matter, designing a patterning device, deciding a first lighting structure and a radiation-sensitive material process which can print the positive tone of the lithographic features, and deciding a second lighting structure which can print the negative tone of the lithographic features by a radiation-sensitive material process.例文帳に追加

方法は、リソグラフィ問題を画定することと、パターニングデバイスを設計することと、リソグラフィフィーチャのポジのトーンを印刷できる第一照明構成および放射線感光材料プロセスを決定することと、放射線感光材料プロセスでリソグラフィフィーチャのネガのトーンを印刷できる第二照明構成を決定することとを含む。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁

This method for positioning a workpiece at the focal point of laser beam includes (a) a process 102 for generating laser beam, (b) a process 130 for focusing laser beam and forming plasma which causes plasma radiation, (c) a process for positioning the focal point responsive to plasma radiation, and (d) a process 132 for translating the surface of workpiece to the above position of focus.例文帳に追加

レーザー機械切削するために加工物の表面を適切な位置に配置する方法であって、上記方法は、以下：（ａ）レーザー光線を発生させる工程１０２；（ｂ）該レーザー光線を焦点に集中させて、プラズマ放射を発生させるプラズマを形成する工程１３０；（ｃ）該プラズマ放射に対して応答性の該焦点の位置を決定する工程；および（ｄ）該加工物の該表面を、該焦点の該位置に移動させる工程１３２、を包含する方法を提供する。 - 特許庁

This method for modifying the surface of the organic polymer material is characterized by comprising a process of applying a mixed solution containing the polymer or oligomer and a polyfunctional cross-linking monomer having ≥2 functional groups having a radiation-bonding reaction activity and a process of irradiating radiation afterwards, and preferably, having a drying process after the process of applying the mixed solution.例文帳に追加

有機高分子材料表面にポリマー又はオリゴマーと、放射線結合反応活性な官能基を２個以上有する多官能性架橋モノマーとを含む混合溶液を塗布する工程、その後放射線を照射する工程を有することを特徴とする有機高分子材料表面の改質法であり、好ましくは、前記混合溶液を塗布する工程の後に乾燥させる工程を有する有機高分子材料表面の改質法。 - 特許庁

The radiation image information detected by a radiation detector 40 in a radiation detection cassette 24 is transmitted to a console 28 via radio communication, and after subjected to a prescribed process in an image processing part 100, the information is transmitted to a display device 26 attached to a doctor via radio communication to be displayed in a display part 94.例文帳に追加

放射線検出カセッテ２４の放射線検出器４０によって検出された放射線画像情報は、無線通信によってコンソール２８に送信され、画像処理部１００で所望の画像処理が施された後、医師が装着する表示装置２６に無線通信によって送信され、表示部９４に表示される。 - 特許庁

In this method for measuring a contamination condition of the quartz tube, a temperature of the quartz tube 121 is measured by an infrared radiation thermometer 14, in the manufacturing process of the optical fiber wherein a coating layer is provided by a radiation curing resin on a surface of a glass fiber, and the radiation transmittance in a wall of the quartz tube 121 is measured based on the temperature.例文帳に追加

石英管汚染状態の測定法は、ガラスファイバ表面に放射線硬化性樹脂による被覆層を設ける光ファイバ製造工程において、赤外線放射温度計１４により石英管１２１の温度を測定し、この温度から石英管１２１壁の放射線透過率を求めるものである。 - 特許庁

The denatured object is obtained by performing denaturation processing of any one of heating process, radiation irradiating process and discharging process on a mixture of a nitrogen containing conductive carbon and a metal complex, the nitrogen containing conductive carbon being obtained by reacting a functional group or a multiple bond of a conductive carbon and a nitrogen content compound.例文帳に追加

導電性カーボンの官能基または多重結合と窒素含有化合物とを反応させてなる窒素含有導電性カーボンと、金属錯体と、の混合物に、加熱処理、放射線照射処理および放電処理の何れかの変性処理を行うことにより得られる変性物。 - 特許庁

In the manufacturing method of radiation imaging apparatus, a photoelectric conversion substrate is formed (process S1), it is cut in a specified size (process S2), and a circuit board is electrically connected to gate wires existing as open terminals on the photoelectric conversion substrate, signal wires and bias wires on a flexible circuit board (process S4).例文帳に追加

放射線撮像装置の製作方法は、光電変換基板を作成し（工程Ｓ１）、これを規定サイズに切断後（工程Ｓ２）、光電変換基板で開放端子として存在しているゲート線、信号線、バイアス線に、回路基板をフレキシブル回路基板で電気接続する（工程Ｓ４）。 - 特許庁

A manufacturing process comprises a topping process of forming a fabric base material 6 with rubber by covering both faces of a fabric material 3 including the rayon code 2 as the warp yarn by a topping rubber 4 and an electron beam radiation process of radiating at least one face S of the fabric base material 6 with rubber with an electron beam.例文帳に追加

レーヨンコード２を縦糸としたファブリック材３の両面を、トッピングゴム４により被覆することによりゴム付きファブリック基材６を形成するトッピング工程と、前記ゴム付きファブリック基材６の少なくとも一面Ｓに電子線を照射する電子線照射工程とを含む。 - 特許庁

The microcapsules of a developer 114 for an electrophotographic process present on a support 110 and containing a microcapsular toner for an electrophotographic process containing at least one of a radiation-curable compound and a radiation-curable composition are broken and irradiated with radiation 113 to bring the developer and the support into chemical bonding 115 as well as to make a curing reaction proceed, thereby the developer is fixed on the support.例文帳に追加

支持体１１０上に存在し、放射線硬化性化合物および放射線硬化性組成物の少なくとも何れか一方を内包する電子写真方式用マイクロカプセルトナー含む電子写真方式用現像剤１１４のマイクロカプセルを破壊して、放射線１１３を照射して硬化反応を進行させると同時に、現像剤と支持体とを化学結合１１５することにより、現像剤を支持体に定着する。 - 特許庁

Thus, the true slime mold 15 is deformed in a process of a feedback loop that the radiation pattern of the light changes according to the deformation state of the true slime mold 15 and the true slime mold 15 is further deformed by the radiation pattern of the light.例文帳に追加

これにより、真性粘菌１５の変形状態に応じて光の照射パターンが変わり、その光の照射パターンによってさらに真性粘菌１５が変形する、というフィードバックループの過程で、真性粘菌１５を変形させることができる。 - 特許庁

To reduce the glossiness difference of a fixed toner image due to the temperature difference of a fixing roller surface in a fixing device for a printer device of an electrophotographic process having an external heating device to perform heating by the radiation of a heat radiation ray.例文帳に追加

電子写真プロセスによるプリンタ装置の、熱輻射線の照射により加熱を行う外部加熱装置を有する定着装置において、定着ローラ表面の温度差に起因する定着後のトナー像の、光沢差を低減することを目的とする。 - 特許庁

In a state in which fixing process is performed by activating a halogen heater 25, a radiation member 40 is separated with respect to the fixing belt 21, to prevent heat of the heated fixing belt 21 from being conducted to the radiation member 40 to be escaped.例文帳に追加

ハロゲンヒータ２５を作動させて定着処理を行っている状態では、放熱部材４０を定着ベルト２１に対して離間させて、加熱された定着ベルト２１の熱が放熱部材４０に伝わって逃げることがないようにする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition less liable to cause the photodegradation and crosslinking reaction of a base resin in a lithographic process using radiation of an ultra-short wavelength of ≤160 nm as a light source and excellent in dry etching resistance.例文帳に追加

波長１６０ｎｍ以下の超短波長放射線を光源に用いるリソグラフィープロセスにおいて、基材樹脂の光分解や架橋反応が起こりにくく、しかも耐ドライエッチング性に優れる放射線感応性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

By executing a weighted subtractive process according to the processing condition in an image processing part 20 to each recorded radiation image information, the radiation image of the desired imaging part from which the fixation member 11 is removed is displayed at a display part 28.例文帳に追加

記録された各放射線画像情報は、画像処理部２０で処理条件に従った荷重減算処理が施されることにより、固定材１１の除去された所望の撮影部位の放射線画像が表示部２８に表示される。 - 特許庁

The process includes a step of irradiating toner with electron beam radiation, wherein the irradiation results in curing the toner and the electron beam radiation is generated by an electron beam curing system.例文帳に追加

本発明は、トナーに電子ビーム照射線を照射する工程を含むプロセスであって、該照射工程が該トナーの硬化を引き起こすこと、及び該電子ビーム照射線が電子ビーム硬化システムによって生成されることを特徴とする、該プロセスを提供する。 - 特許庁

The above process for distributing nonmetallic elements comprises a process for forming a compound layer made of semiconductor elements and nonmetallic elements on the semiconductor layer, a process for distributing compound layer's nonmetallic elements to a surface-adjacent area through recoiling due to the radiation of particle energy lines onto the compound layer and a process for removing the compound layer.例文帳に追加

非金属元素を分布させる工程は、半導体層の上に、半導体元素と非金属元素とからなる化合物層を形成する工程と、化合物層に粒子エネルギー線を照射して化合物層に含まれる非金属元素を反跳により半導体層の表面近傍の領域に分布させる工程と、化合物層を除去する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a process unit which can prevent a photoreceptor from being injured and being soiled with fingerprints at the time of loading a process unit while maintaining miniaturization of an image forming device and which forms a radiation heat reflecting barrier (partition) between the process unit and a fixing device with easy constitution and to provide the image forming device to and from which the process unit can be attached/detached.例文帳に追加

画像形成装置の小型化を維持しながらも、プロセスユニット装着時に感光体に傷を付けたり、指紋を付けたりすることを防止でき、かつ容易な構成でプロセスユニットと定着装置との間に輻射熱反射バリア（仕切り）を形成するプロセスユニット、およびそのプロセスユニットを脱着可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition having improved dependence on a thin-dense pattern and usable in an ultramicrolithographic process and another photofabrication process for producing VLIS and high capacity microchips.例文帳に追加

疎密パターン依存性が改善され、超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケ−ションプロセスに使用することができる化学増幅型の感放射線性レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with reduced blob defects, which is suitable for not only a normal dry process but for an immersion process, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、ブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To change an image capturing angle of a radiation source in a stereographic image capturing process depending on an object to be examined and also to prevent the object to be examined from being exposed to unwanted radiations.例文帳に追加

検査対象物に応じてステレオ撮影での放射線源の撮影角度を変更すると共に、検査対象物に対する不要な被曝を回避する。 - 特許庁

To provide a variable attenuator which satisfies necessary performance conditions to be used in a sub system of a lithographic apparatus used for controlling a dose of radiation in a lithographic exposure process.例文帳に追加

リソグラフィ露光プロセスにおいて放射ドーズ量制御に使用されるリソグラフィ装置のサブシステムで使用するための必要性能条件を満たす可変減衰器を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive color filter composition which has excellent coatability, wide latitude for development and excellent process allowability and avoids failure in coating, such as a mark of a chuck.例文帳に追加

塗布性に優れ、現像ラチチュードが広くプロセス許容性に優れ、更にチャック跡等の塗布故障が生じない感放射線性カラーフィルター用組成物を提供する。 - 特許庁

In the process of manufacturing the SZ slot 8, the temperature of a rotary die 2 is measured by using a radiation thermometer 9 and its temperature information is sent to a temperature control unit.例文帳に追加

ＳＺスロット８の製造工程において、回転ダイス２の温度を、放射温度計９を用いて測定し、この温度情報を温度制御機へ送信する。 - 特許庁

A radiation source (11) which functions to heat a sample arranged on the sample receiving device in a measurement process is placed inside the measurement room.例文帳に追加

更に、測定プロセスの際に前記試料受け取り装置上に配置されている試料を加熱する機能を果たす放射線源（１１）が前記測定室内に設けられている。 - 特許庁

To provide a variable attenuator which satisfies necessary performance conditions to be used in a sub system of a lithographic apparatus used for controlling a dose of radiation during a lithographic exposure process.例文帳に追加

リソグラフィ露光プロセスにおいて放射ドーズ量制御に使用されるリソグラフィ装置のサブシステムで使用するための必要性能条件を満たす可変減衰器を提供する。 - 特許庁