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「radiation width」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索
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radiation widthの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 229



例文

Consequently, the number of switching times of the semiconductor switches 231-236 in an inverter 23 is reduced, the power loss of the semiconductor switch and the peripheral circuit is reduced, and the variation width of potential at the neutral Np of a three-phase load 3 is reduced to one third, thus suppressing radiation noise and conduction noise.例文帳に追加

これにより、インバータ23内の半導体スイッチ231〜236のスイッチング回数を低減し、半導体スイッチ及び周辺回路の電力損失を小さくし、三相負荷3の中性点Npの電位の変動幅を1/3まで低減し、放射ノイズや伝導ノイズを低減できる。 - 特許庁

Since the intensity of the reflected light of the side beam is not lowered even if the groove 1 is deeper than 1/4 of the wave length of laser radiation, variation of the depth of the groove 1 of the stamper of the recording medium, variation of the width of the groove 1, and the missing groove 1 can be measured even if the groove 1 is deep.例文帳に追加

溝1がレーザー光の波長の1/4より深くても、副ビームの反射光の強度は低下しないので、溝1が深くても、副ビームの反射光の強度に基づいて、記録媒体のスタンパーの溝1の深さの変化と、溝1の幅の変化と、溝1の欠落を計測できる。 - 特許庁

The heat radiation sheet for bonding a display panel such as a flat display to an aluminum sheet or a chassis is made by allowing a polymer selected from polyurethane, silicone rubber and polyester or polyolefin elastomer to contain heat-conductive filler, has Asker C hardness 10-40° and is formed into strips having width 10-30 mm, wherein the strips are arranged in parallel at a prescribed space.例文帳に追加

フラットディスプレイ等の表示パネルとアルミ板又はシャーシを接合させる放熱シートでありポリウレタン、シリコーンゴム、ポリエステル又はポリオレフィンエラストマーに熱伝導性フィラーを含有させてなり、アスカーC硬度10〜40゜で、幅10〜30mmの短冊状に形成する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

PEDによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

例文

The radiation electrode consists of a meandering conductor 22 having one or more turning-back parts connected to the feed electrode and a wide conductor 24, where the conductor width is larger than that of the meandering conductor, the base end is connected to the meandering conductor and the front end is left open.例文帳に追加

放射電極は、1箇所以上の折り返し部分を有し前記給電電極に接続されるミアンダ状導体22と、該ミアンダ状導体よりも導体幅が広く且つ基端が該ミアンダ状導体に接続され先端が開放されている幅広状導体24とからなる。 - 特許庁


例文

The radiation conductor 13 includes a first folding section which is arranged facing and near the first terminal electrode 14, having a prescribed width of gap therebetween, on the bottom surface 11b of the base 11, and whose position includes an intersection point of waveforms of a second harmonic wave and a third harmonic wave.例文帳に追加

放射導体13は、基体11の底面11bにおいて所定幅のギャップを介して第1の端子電極14と近接して対向配置された第1の折り返し部を有し、その形成位置は、2倍波の波形と3倍波の波形との交点の位置を含んでいる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.例文帳に追加

PEB温度が低温であっても、感度等に優れ、LWR、DOF等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁

The heat radiated from the heat sink 7 goes up intactly to be radiated efficiently without being disturbed by the light emitting diode 8 and reflectors 9, 10, and the sufficient heat radiation effect is obtained, since the heat sink 7 is positioned in a vehicular-width-directional inside the light emitting diode 8 and the reflectors 9, 10.例文帳に追加

ヒートシンク7が、発光ダイオード8及びリフレクタ9、10の車幅方向内側に位置しているため、ヒートシンク7から放熱される熱気は、発光ダイオード8及びリフレクタ9、10に邪魔されることなくそのまま上昇して効率良く放出され、十分な放熱効果を得ることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

例文

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The radiation part 81 of the rotary antenna 8 is bent in nearly L-shape toward the end part to radiate microwave and the length passing the center in width direction from the jointing part 82 to the end part is made longer than a half wavelength of the microwave, and the rotation diameter to the jointing part 82 is made the wavelength or less of the microwave.例文帳に追加

回転アンテナ8の放射部81は、マイクロ波を放射する端部に向かって略L字状に曲がり、結合部82から端部に至る幅方向の中心を通る長さをマイクロ波の半波長より長くし、結合部82に対する回転直径をマイクロ波の波長以下にして構成する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic treatment apparatus which efficiently carries out washing treatment and resist separation treatment by radiating ultrasonic waves evenly to the wide entire surface area using ultrasonic oscillators each of a smaller size than the ultrasonic wave radiation region with a prescribed width and to provide a manufacture method of electron parts using the treatment apparatus.例文帳に追加

所定幅の超音波照射領域よりも小さいサイズの超音波発振素子を用いて、広い領域全面に均一な超音波を照射して、洗浄処理やレジスト剥離処理などを効率的に実施可能とする超音波処理装置と、これを用いた電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To sufficiently enhance the heat radiating effect, by reducing a width of a cooling fluid passage between adjacent cut and raised parts, and increasing the length of its parallel part, as a louver having a large number of louver-shaped cut and raised parts cut and raised in an inclined shape from a plate surface of a metallic plate, mainly for use of heat radiation.例文帳に追加

主として放熱の用途のため、金属板の板面から傾斜状に切起してなる多数のルーバー状切起し部を有するルーバーとして、隣り合う切起し部の間の冷却用流体通路の幅を小さくかつその平行部分の長さを大きくして、放熱効果を充分に高める。 - 特許庁

In this array antenna, in a ridge waveguide 12, plural probes 14 for coupling are made to pass through a pipe wall perpendicularly to a pipe axial direction and a wide width surface and disposed in the pipe axial direction, radiation elements 18 are respectively provided on the outer side end and the probe 24 for feeding power is provided on one end side of the ridge waveguide 12.例文帳に追加

リッジ導波管12に、管軸方向および幅広面に対して直角に結合用プローブ14、14…を管壁を貫通させて複数本管軸方向に配列し、その外側端に放射素子18、18…をそれぞれ設け、またリッジ導波管12の一端側に給電用プローブ24を設ける。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

The slot antenna 10 is provided with: a radiation conductor layer 13 with a slot 12 formed to an upper side of a dielectric board 11; and a feeder line 14 formed at a position of a bottom of the dielectric board 11 for crossing the slot 12 in the width direction, and a closing end of the slot 12 is formed to be a wide part 12a wider than the other parts.例文帳に追加

スロットアンテナ10は、誘電体基板11の上面に形成されてスロット12を有する放射導体層13と、誘電体基板11の底面でスロット12を幅方向に横切る位置に形成された給電ライン14とを備えており、スロット12の閉端部は他部よりも幅広な幅広部12aとなっている。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient pattern form even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude.例文帳に追加

薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In an OFS scanning optical device which makes a luminous flux made incident on a deflection surface wider than the deflection surface, angles formed between center axes of emitted distributions from light emitting points of lasers being light sources and the optical axis of a corresponding optical system within a main scanning section and the overall angular width of laser beam radiation angles within the main scanning section are regulated.例文帳に追加

そのために、偏向面に入射する光束を偏向面より広い光束としたOFS走査光学装置で、主走査断面内に於いて、光源であるそれぞれのレーザの発光点からの射出分布の中心軸と、それに対応する光学系の光軸とがなす角度、また主走査断面内のレーザビーム放射角の全角幅を規制する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのLWRに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

In the slot antenna 10, although power is fed to the radiation conductor layer 13 in the vicinity of the slot 12 via the feeding line 14 to be able to excite the slot 12, since the width of the slot 12 is widened at the closing end in a magnetic field region (maximum current region), the path length of a current is increased to lower the resonance frequency.例文帳に追加

このスロットアンテナ10は、給電ライン14を介してスロット12近傍の放射導体層13に給電することにより、スロット12を励振させることができるが、スロット12の幅寸法が磁界領域(電流最大領域)である閉端部で拡幅されているため、電流の経路長が増大して共振周波数が低くなる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, suppressing variations in wafer in-plane attainment temperature caused by a difference in optical characteristics such as wafer in-plane radiation rate and in characteristics caused by a difference in form such as the wiring width in a heat-treating process of the semiconductor manufacturing step.例文帳に追加

半導体製造工程の加熱処理プロセスにおいて、ウェーハ面内における輻射率など光学特性の差異に起因するウェーハ面内の到達温度のばらつきを抑えるとともに、配線幅などの形状の差異に起因する特性のばらつきを抑えることが可能な半導体装置の製造装置と半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加

高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device comprising the metal thin film resistance body 7 which is disconnected or subjected to adjustment of resistance value with radiation of the laser beam 21, a light shielding body 15 is arranged on the metal thin film resistance body 7 via an insulating film 13 and an aperture 17 having the width sizes smaller than the beam diameter D corresponding to the laser beam irradiating region is formed to the light shielding body 15.例文帳に追加

レーザビーム21が照射されて切断又は抵抗値調整される金属薄膜抵抗体7を備えた半導体装置において、金属薄膜抵抗体7上に絶縁膜13を介して遮光体15が配置されており、遮光体15により、レーザビーム照射予定領域に対応してビーム径Dよりも小さい幅寸法Sをもつ開口部17が形成されている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間(PED)により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Many pins 50 are arranged with spacings and fixed in mutually approximately parallel so as to counterpose pin supports 41A, 41B of a frame 40, and mutually approximately parallel tapes 60 made of a radiation absorbing material are spread between the mutually counterposed approximately parallel pins 50 to form a flat plate-like grid, having thickness in the width direction of the tape 60 as a whole.例文帳に追加

枠体40の対向するピン支持部41Aおよび41Bに、互いに略平行に対向するように多数のピン50を間隔をおいて順次配列固定すると同時に、互いに略平行に対向するように設けられたピン50の間に順次放射線吸収材料からなるテープ60を張架して、全体としてテープ60の幅方向に厚みを有する平板状のグリッドを構成する - 特許庁

The electrode leads 132 has an overlapped area α in contact with the heater 130 at its upper end and formed on the upper shield layer in the layering direction and a heat radiation area β extending from the overlap in the height and track width direction.例文帳に追加

上下シールド層間に形成された再生素子と、上部シールド層上に積層された記録素子と、記録素子のコイル層よりも下層に形成され、通電時に発熱して再生素子を熱膨張により記録媒体側へ突出させる発熱体と、該発熱体に対する一対の電極引出線とを備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、上記一対の電極引出線は、発熱体のハイト方向後端に接し、上部シールド層と積層方向で重なるオーバーラップ領域と、該オーバーラップ領域からハイト方向及びトラック幅方向に延出させた放熱領域とを有する。 - 特許庁

例文

The first radiation portion is formed like a band having a predetermined width in length, in which one end portion thereof being connected to the feeding portion 310, the other end portion thereof being connected to the grounding portion 320, and forms a loop-shaped current path by being arranged along the edge portion of an upper surface of a dielectric supporting portion 390 for supporting the antenna.例文帳に追加

本発明の一実施例による内蔵型アンテナは、前記アンテナに電流を供給するための給電部310と、前記アンテナを接地させるための接地部320と、所定の長さの幅を有する帯状に形成され、一端が前記給電部310と接続され他端が前記接地部320と接続され、前記アンテナを支持する誘電体支持部390上部面の縁端に沿って配列されループ形状の電流経路を形成し、前記給電部310を通して引き入れられる電流を用いて所定の低周波数帯域に対する放射を司る第1放射部330とを含む。 - 特許庁




  
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