「resolution resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(383ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve the problems such as the decrease in a pattern resolution which may occur during the forming of second and later layers when a multi- layer circuit board is manufactured by an ordinary MCM-D process and the decrease in the flatness of the layer and to achieve the purpose at a low cost without necessitating a polishing process or the like in a damascene method.例文帳に追加

多層回路基板の製造方法に関し、通常のＭＣＭ−Ｄプロセスで多層回路基板を作製するに際し、第２層以後の作製時に発生するパターン解像度の低下や各層に於ける平坦性低下の問題を解消し、ダマシン法に於ける研磨プロセスなどを必要とすることなく、低コストで目的を達成しようとする。 - 特許庁

To obtain a UV-curing resin composition excellent in developability, resolution, development latitude and resistance to the heat of soldering and capable of preparing a photo-soldering resist ink developable with a dilute aqueous alkali solution and capable of forming a soldering resist which exhibits excellent adhesion to a substrate, excellent electric corrosion resistance and particularly excellent resistance to the heat of soldering and to gold plating on the substrate.例文帳に追加

現像性、解像性、現像幅及びはんだ耐熱性に優れ、また優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製できる紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the inclination detection system, quantization width corresponding to angle resolution required for inclination detection with respect to an optical disk 1 with the minimum disk reflectivity is set to A/D converters 21a, 21b, and to how much reflectivity the inclination detection is exactly performed is determined with respect to an optical disk 1 with reflectivity larger than that of the optical disk 1 with the minimum reflectivity.例文帳に追加

Ａ／Ｄ変換器２１ａ・２１ｂに、最小ディスク反射率の光ディスク１に対して傾き検出に必要な角度分解能に対応する量子化幅を設定し、それよりも大きな反射率の光ディスク１に対して、どの程度大きな反射率まで正確に傾き検出を行うことができるのかを定める。 - 特許庁

Color signals of R, G, and B available through a photographing lens 10 having a phase modulation function for expanding a focal depth and a color imaging element 12 are subject to a deconvolution process using a single restoration filter (restoration gain data) stored in a memory part 24 by a restoration processing part 22 of a restoration processing block 20, for restoring color signals of high resolution.例文帳に追加

被写界深度を拡大する位相変調機能を有する撮影レンズ１０及びカラー撮像素子１２を介して得られるＲ、Ｇ、Ｂの各色信号に対し、復元処理ブロック２０の復元処理部２２は、メモリ部２４に記憶された単一の復元フィルタ（復元ゲインデータ）によるデコンボリューション処理を行うことにより高解像度の色信号に復元する。 - 特許庁

To provide a compound sensitive to radiations including KrF excimer laser, extreme ultraviolet radiations, electron beams and X-rays, which is a nonpolymeric composition sensitive to such radiations, and producible by a simple process without using any metal catalyst, wherein the composition is highly sensitive, has high resolution, high heat resistance and high etching resistance and is soluble to solvents.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物であり、金属触媒を使用することなくかつ簡単な工程で製造できる、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymeric ultrathin film and a pattern thereof, having little variance in the film thickness and excellent adhesiveness to a substrate, showing sufficient pattern resolution by irradiation exposure to electron beams, short-wavelength exposure light or the like, and having a structure controlled in a nanometer level, and to provide a method for forming a polymeric ultrathin film pattern.例文帳に追加

本発明は、膜厚のバラツキが少なく、かつ基板との密着性に優れ、電子線や短波長の露光光などの照射露光によって十分なパターン解像度を示し、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜およびそのパターン、並びに、高分子超薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The presently disclosed subject matter describes the use of fluorinated elastomer-based materials, in particular perfluoropolyether (PFPE)-based materials, in high-resolution soft or imprint lithographic applications, such as micro-and nanoscale replica molding, and a first nano-contact molding of organic materials to generate high fidelity features using an elastomeric mold.例文帳に追加

本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の使用を記載する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has proper storage stability, avoids odor annoyance, ensures proper solvent resistance and satisfactory surface smoothness of a cured resin pattern formed therefrom, does not cause coating defects, such as a granular foreign substance, has a high resolution for forming a fine pattern, and can form a photospacer with a superior recovery rate.例文帳に追加

良好な貯蔵安定性で、臭気問題がない感光性樹脂組成物であり、形成した硬化樹脂パターンの耐溶剤性が良好で、表面平滑性に優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、微細パターンが解像可能で、回復率に優れたフォトスペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The mobile phone comprises a main controller 109 including a determining part 31 for determining an encoding format of encoded image data and the presence/absence of an accelerator in the encoding format, and a decoding part 33 for switching the resolution of the image data to be displayed in the first display area based on the determination result of the determining part 31 for decoding the image data.例文帳に追加

携帯電話機は、エンコードされた画像データのエンコード形式を判定し、当該エンコード形式のアクセラレータの有無を判定する判定部３１と、その画像データをデコードするときに、判定部３１の判定結果を基に第１の表示領域における画像データの解像度を切り替えるデコード部３３とを有するメインコントローラ１０９を備えている。 - 特許庁

To provide an image formation sheet showing high versatility and enabling an image with a high resolution to be easily formed on a surface of a cementitious cured body, and to provide the cementitious cured body on whose surface the image is formed using the image formation sheet, a method for manufacturing the same, and a method for forming the image on the surface of the cementitious cured body.例文帳に追加

汎用性が高く、セメント質硬化体の表面に解像度の高い画像を容易に形成することができる画像形成用シート、当該画像形成用シートを用いて表面に画像が形成されてなるセメント質硬化体及びその製造方法、並びにセメント質硬化体の表面に画像を形成する方法を提供する。 - 特許庁

When the ink droplets are delivered in the intermediate region using a main pixel pitch Xp and a sub-pixel pitch Yp as sides to print an image with a high resolution among a plurality of the nozzles formed on the inclined line, the position of the print head is controlled so that the ink droplets are delivered in the same intermediate region from the nozzles included in the same managing unit.例文帳に追加

高解像度画像をプリントするために主画素ピッチＸｐと副画素ピッチＹｐとを一辺とする中間領域にインク滴を吐出する場合には、傾斜ライン上に形成された複数のノズルのうち、同じ管理単位に含まれるノズルからインク滴を同じ中間領域に吐出すようにプリントヘッドの位置を制御する。 - 特許庁

The movable shaft has a female thread for accepting a grinding mechanism and attaching the thread part of the torque receiving assembly, the protrusion of the indicating click is caused by the respective rotation of the pulling in cover, the indicating click reciprocates the displacement of the movable shaft and the grinding mechanism, the displacement is constituted of the difference of the thread pitch defining a fine resolution.例文帳に追加

可動シャフトが、切削機構を受け入れ、トルク受けアセンブリのねじ部分を取り付けるための雌ねじを有しており、引込みカバーの各回転により、指示クリックの飛出しがもたらされ、指示クリックが、可動シャフトと切削機構の変位を往復運動し、変位が、微小分解能を画定するねじピッチの差によって構成される。 - 特許庁

To provide a coloring light-sensitive resin composition, which has high line width stability relative to development and can form a pattern with high resolution, as well as a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure, and particularly to provide a coloring light-sensitive resin composition suitable for forming a colored pixel of a color filter or the like and a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure.例文帳に追加

現像に対する線幅安定性が高く、高解像度のパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When a switching detecting part 24 detects switching between display screens 11a and 12a of first and second displays 11 and 12, each resolution of each image data to be displayed on the first and second displays 11 and 12 is adjusted in accordance with display sizes of the display screens 11a and 12a of the first and second displays 11 and 12.例文帳に追加

切替検出部２４により第１と第２のディスプレイ１１、１２の各表示画面１１ａ、１２ａの切り替えが検出されると、これら第１と第２のディスプレイ１１、１２の各表示画面１１ａ、１２ａの各表示サイズに応じて当該第１と第２のディスプレイ１１、１２に表示する各画像データの各解像度を調整する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern having high sensitivity and resolution, small line width roughness (LWR), and a superior exposure latitude (EL) and pattern form is formed, to provide a pattern formed by the pattern forming method, and to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming method, and a resist film formed of the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a signal processing apparatus of an optical signal output device, along with an optical displacement detecting device with this signal processing apparatus, capable of achieving an improvement in detection sensitivity of an absolute position and enlargement of a detection range thereof by a simple constitution, while maintaining resolution and stability of position detection at a high level.例文帳に追加

位置検出の分解能及び安定性を高いレベルで維持しつつ絶対位置の検出感度の向上及び検出範囲の拡大を簡便な構成で実現することが可能な光学式信号出力装置の信号処理装置及びそのような信号処理装置を備えた光学式変位検出装置を提供すること。 - 特許庁

The optical wavelength detection means 3 is equipped with an array waveguide grating 31 which separates the transmitted light from the sensor elements 21-2n for each wavelength and an arithmetic circuit 32 which computes a wavelength detected by each of the sensor elements 21-2n based on a signal obtained from separation in the array waveguide grating 31, and the means enables measurement with a high resolution.例文帳に追加

光波長検波手段３は、センサ素子２１〜２ｎからの透過光を波長毎に分波するアレイ導波路格子３１と、このアレイ導波路格子３１で分波された信号に基づいて各センサ素子２１〜２ｎで検出される波長を演算する演算回路３２とを備えており高分解能な測定を可能とする。 - 特許庁

To provide a supporting structure of optical elements, in which lens surface deformation due to the strain produced during assembling can be reduced and stable and high resolution with small aberration can be obtained, and an optical apparatus such as an exposure apparatus constructed by using the supporting structure, and a method for manufacturing a semiconductor device constructed from the optical apparatus, etc.例文帳に追加

温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を得ることが可能となる光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a width value of a predetermined span (analysis-object frequency range) is higher than a boundary value, a reference signal frequency is set to a predetermined reference value, a loop filter band narrower than an RBW (resolution bandwidth) is selected, thereby the fractional spurious within the RBW to prevent the fractional spurious is kept from being displayed as a spectrum waveform.例文帳に追加

指定されたスパン（分析対象周波数範囲）の幅値が境界値より大きい場合、基準信号周波数を所定の基準値に設定し、ＲＢＷ（分解能帯域幅）より狭いループフィルタ帯域を選択することによってフラクショナルスプリアスをＲＢＷの内側にしてスペクトラム波形として表示されないようにする。 - 特許庁

A high-resolution image acquiring processing section 453 performs the indication of operation to a microscopic device 2 and acquires a plurality of specimen region sectional images photographed at each section of the specimen region, while moving an electromotive stage 21, on which the specimen S subjected to multiple staining by a plurality of staining coloring matters is placed, within an XY plane.例文帳に追加

本発明のある実施の形態において、高解像画像取得処理部４５３は、顕微鏡装置２に対する動作指示を行い、複数の染色色素によって多重染色された標本Ｓを載置した電動ステージ２１をＸＹ平面内で移動させながら、標本領域を部分毎に撮像した複数の標本領域区画画像を取得する。 - 特許庁

To solve the problem that, in the future, because of further increase in resolution of moving image or enlargement of capacitance by various content, when processing an entire video image, conventional video data may require a long time for transfer to a device or the like and when bringing out video data with a portable device, storage capacity of the portable device may be lacking.例文帳に追加

今後、動画像の更なる高解像度化や、多彩なコンテンツによる大容量化の為、映像全体を処理する場合に従来の映像データでは機器等への転送の際に時間が必要となってしまうことや、ポータブル機器に映像データを持ち出す際にはポータブル機器のストレージ容量が不足してしまうことが考えられる。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive film capable of simply and conveniently forming a conductive pattern, having full adhesiveness with a substrate and full small surface resistivity on the substrate with full resolution, and provide a forming method of a conductive membrane, using the photosensitive conductive film, and the forming method of the conductive pattern, and to provide a conductive film substrate.例文帳に追加

基板上に、基板との接着性が十分であり且つ表面抵抗率が十分小さい導電パターンを十分な解像度で簡便に形成することを可能とする感光性導電フィルム、並びに、この感光性導電フィルムを用いた導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板を提供する。 - 特許庁

Then, based on drawing positions of the line drawing that the line-drawing drawing instructions represent, the print data generation device 100 specifies contour pixels constituting a contour of the line drawing among the plurality of pixels constituting the raster data, and also specifies, for each of the contour pixels, contour pattern information representing an arrangement pattern of pixels reproducing a contour of higher resolution in the contour pixels.例文帳に追加

そして、線画描画命令が表す線画の描画位置に基づき、ラスターデータを構成する複数の画素のうち、線画の輪郭を構成する輪郭画素を特定し、この輪郭画素のそれぞれについて、輪郭画素内に高解像度化された輪郭を再現する画素の配置パターンを示す輪郭パターン情報を特定する。 - 特許庁

When the performance is measured, a low pressure mercury lamp 9 is arranged on the luminous flux 2 between the xenon flash lamp 1 and spectroscope 4, a light shield plate 11 constituting a shutter mechanism is operated to shield or transmit light, and light intensity is detected, thereby measuring "wavelength accuracy" or "resolution" using the bright-line spectrum of the low pressure mercury lamp 9.例文帳に追加

性能測定を行うときは、キセノンフラッシュランプ１と分光器４との間の光束２上に低圧水銀ランプ９を配置し、シャッター機構を構成する遮光板１１を作動して遮光及び透過させて光強度を検出することで、低圧水銀ランプ９の輝線スペクトルを用いた「波長正確さ」または「分解」の測定を行う。 - 特許庁

To provide a preparation method of a color curable composition excellent in dispersibility and dispersion stability; and to provide a color curable composition obtained by the method, a method for producing a color filter having high color purity and reduced color unevenness, a color filter obtained by the production method, and a solid-state imaging device having high resolution.例文帳に追加

分散性、分散安定性に優れた着色硬化性組成物の調製方法を提供し、それによって得られた着色硬化性組成物を提供し、また、色純度が高く、色ムラ発生が抑えられたカラーフィルタの製造方法を提供し、それによって得られたカラーフィルタを提供し、さらに高解像度の固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a blind-spot image display system for vehicles, which can effectively contribute to safe driving due to resolution of blind spots by prompting a driver to understand a system for showing a blind-spot image from the point of view of the driver through a semitransparent vehicle interior image, and to provide a blind-spot image display method for vehicles.例文帳に追加

半透明車室内映像を透過して運転者の視点位置からの死角映像を見せるシステムであるとのユーザー理解を促すことで、死角解消による安全運転への寄与を、実効性を持たせて実現することができる車両用死角映像表示システムと車両用死角映像表示方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer having methylol group and a lactone ring, having a suitable hydrophilicity and hydrophobicity, e.g. on using as a resist material, exhibiting an excellent transparency and dry etching resistance, also excellent in alkali-dissolution property and close adhesion with a substrate, and capable of realizing a high resolution, and a positive resist material using the same.例文帳に追加

適度な親水性及び疎水性を有し、例えば、レジスト材料として用いた場合には、優れた透明性及び耐ドライエッチング性を発揮するとともに、アルカリ溶解性や基板密着性に優れ、高解像性を実現できるメチロール基及びラクトン環を有する重合体、並びに、該重合体を用いたポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, excellent in resolution, low-cost, and wide in the range of structurally applicable choices of polymer precursors whose reactions into the final products are accelerated by a basic substance or by heating in the presence of a basic substance; and to provide a base generator utilizable in such photosensitive resin composition.例文帳に追加

解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

An approximation plane is calculated from relative positions of a plurality of evaluation points to be obtained by developing focusing coordinate values of the respective focusing evaluation values to a three-dimensional coordinate system and estimated resolution for every imaging position on the respective image forming planes is calculated from intersections between a plurality of image forming planes to be created by moving the approximation plane and the respective pieces of continuous focusing evaluation data.例文帳に追加

各合焦評価値の合焦座標値を３次元座標系に展開することにより得られる複数の評価点の相対位置から近似平面を算出し、この近似平面を動かしてできる複数の結像平面と各連続合焦評価データとの交点から各結像平面における撮像位置毎の推定解像度を算出する。 - 特許庁

To provide a high-performance zoom lens system constituted of a small number of lenses, having high resolution, maintaining a zoom ratio of almost middle power, made suitable for wide-angle photography, and having a shake correction function for optically correcting blur of the image caused by camera shake, vibration or the like, and to provide an imaging apparatus including the zoom lens system, and a thin and compact camera including the imaging apparatus.例文帳に追加

本発明は、レンズ枚数が少なく、解像度が高く、中倍程度のズーム比が維持され、広角撮影に好適なだけでなく、手ぶれ、振動等による像のぶれを光学的に補正するぶれ補正機能を有する高性能なズームレンズ系、該ズームレンズ系を含む撮像装置、及び該撮像装置を備えた薄型でコンパクトなカメラを提供することである。 - 特許庁

To provide a layered structure, especially for a printed wiring board, that prevents a reduction in resolution and achieves excellent adhesion to an underfill resin section and a molded resin section, while keeping the coefficient of linear thermal expansion of the entire photosensitive resin layer as low as possible, and to provide a photosensitive dry film used as a solder resist, an interlayer resin insulation layer or the like in the layered structure.例文帳に追加

感光性樹脂層全体として線熱膨張係数をできるだけ低く維持できると共に、解像性の低下もなく、アンダーフィル樹脂部やモールド樹脂部との密着性に優れた積層構造体、特にプリント配線基板等の積層構造体、及びそのソルダーレジストや層間樹脂絶縁層等として用いられる感光性ドライフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a sampling device which materializes fast readout and extend a readout period of an output voltage VS by setting the relationship of fϕ1=fϕ2=2×fRS=2×fCP when frequencies of pixel transferring clocks ϕ1 and ϕ2, a reset pulse RS, and a clamp pulse CP are fϕ1, fϕ2, fRS, and fCP, respectively, wherein an error is reduced in high resolution.例文帳に追加

画素転送用クロックφ１，φ２と、リセットパルスＲＳと、クランプパルスＣＰとの周波数を、それぞれｆφ１，ｆφ２；ｆＲＳ，ｆＣＰとするとき、ｆφ１＝ｆφ２＝２・ｆＲＳ＝２・ｆＣＰの関係とすることで、高速読出しを実現しかつ出力電圧ＶＳの読出し期間を長くできるようにしたサンプリング装置において、高解像に誤差を低減する。 - 特許庁

Then the organic anti-reflection film 8 is etched to form an embedded mask covering a recess part 7a of the silicon oxide film 7, and the silicon oxide film 7 is etched to expose the etching member to be etched which does not overlap the side wall core or the embedded mask, and the etching member to be etched is etched to obtain the pattern with a dimension of less than a resolution limit of lithography.例文帳に追加

次いで、有機反射防止膜８をエッチングすることによって、シリコン酸化膜７の凹部７ａを覆う埋込マスクを形成し、シリコン酸化膜７をエッチングすることにより、サイドウォールコアまたは埋込マスクと重ならない被エッチング部材を露出させ、被エッチング部材をエッチングすることでフォトリソグラフィー解像限界未満のパターンを得る。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which facilitates forming of silica based coating as an interlayer insulating film, is excellent in storage stability, is comparatively inexpensive, and is excellent in heat resistance, crack resistance, resolution, and transparency, to provide a forming method of the silica based coating using the photosensitive resin composition, and to provide a semiconductor device, a flat panel display and an electronic device member comprising the silica based coating.例文帳に追加

層間絶縁膜としてシリカ系被膜の形成が容易で保存安定性に優れ、比較的安価で、耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photosensitive resin composition which can maintain high adhesion and peeling characteristics, even if using a less rugged circuit board and is superior in plating and etching resistance and resolution, and a photosensitive element and a resist pattern which uses this resin composite, and to provide a printed circuit board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high radiation sensitivity and sufficiently high resolution, excels in adhesion to a substrate, a base or an upper layer, suppresses generation of a sublimate during baking in a film forming process, ensures a large development margin, and can be suitably used for forming an interlayer insulation film or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、解像度が十分に高く、基板もしくは下地または上層との密着性に優れ、膜形成工程の焼成時における昇華物の発生が抑制され、且つ現像マージンが大きく、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適に使用できる感放射線樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an easy-to-manufacture droplet discharge head which can be miniaturized while attaining high resolution by achieving formation of nozzles at high density and fine pitch wiring incident thereto, and to provide a droplet discharge head manufactured through this process, and a droplet discharge device equipped with that droplet ejection head.例文帳に追加

製造しやすい上に、ノズルの高密度化と、それに伴う微細ピッチ配線の形成を実現可能にして高解像度化が図れ、かつ小型化も図れる液滴吐出ヘッドの製造方法と、その製造方法によって製造される液滴吐出ヘッドと、その液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a resist composition highly transparent to a light of a wavelength of at most 250 nm, particularly to an ArF excimer laser light, excellent in resist performances such as sensitivity, resolution, adhesion to a substrate and dry etching resistance, and therefore suitable for the far ultraviolet light excimer laser lithography, an electron beam lithography and the like, and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To speed up processing and to find out a good resolution by reducing the number of areas and expanding an area capable of setting up start/end cities in a method for hierarchically solving a large scale traveling salesman problem(TSP) for searching a shortest route out of plural routes for traveling many cities scattered in a problem area on a two-dimensional plane.例文帳に追加

二次元平面上の問題領域に多数散在する都市を一巡する経路のうち最短な経路を探索する大規模巡回セールスマン問題を階層化して解く方法に関し，領域数を削減し，開始／終了都市の設置可能な領域を拡大して，処理の高速化と，よい解を求めることを可能とする。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

An upper part photoresist layer 18 which is relatively thin is patterned with an improved resolution and, next, an intermediate metal or a ceramic layer 16 is stipulated by using the upper part photoresist layer 18 as a reactive ion etching(RIE) mask and the lowermost thick photoresist layer 14 is stipulated in a second RIE process by using the intermediate layer as an etching mask.例文帳に追加

改良された解像度で比較的薄い上部フォトレジスト層（１８）がパターニングされ、次に上部フォトレジスト層を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）マスクとして利用し中間金属またはセラミック層（１６）が規定され、次に中間層をエッチングマスクとして使用して、最下層の厚いフォトレジスト層（１４）が第２のＲＩＥプロセスにおいて規定される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin or photosensitive resin composition excellent in long-term shelf stability, high sensitivity, developing speed and resolution, excellent in heat resistance, adhesion to a substrate, hardness, solvent and alkali resistances in a coating film after curing by irradiation with light and suitable for ink for an alkali developable photosensitive black matrix and to provide a method for preparing the photosensitive resin or photosensitive resin composition.例文帳に追加

長期保存安定性、高感度で現像速度及び解像度に優れ、さらに、光照射によって硬化した後の塗膜においては、耐熱性、基板との密着性、硬度、耐溶剤性、耐アルカリ性に優れ、アルカリ現像型感光性ブラックマトリックス用インキに好適な感光性樹脂ないし感光性樹脂組成物並びにその製造方法。 - 特許庁