「reflection function」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The element has a function of changing a liquid crystal alignment angle at a predetermined apparent twist angle with respect to a substrate with stably aligned liquid crystal under the action of a direct light, and as a result, the transmission or reflection of a liquid crystal cell between two crossed or parallel polarizers, varies according to the correlation of the exposure energy to the apparent twist angle in the liquid crystal cell.例文帳に追加

本発明の素子は、直接光の作用下で、安定に液晶が配向された基材に対して所定の見かけのねじれ角で液晶配向角度を変化させ、その結果、交差しているかまたは平行である２つの偏光子間の液晶セルの透過または反射が、液晶セル中の見かけのねじれ角に対する暴露エネルギーの相関に応じて変化する。 - 特許庁

Even when the color of the lens 33 can not be made up of original lens color of functional color, and the thickness of the lens 33 can not be made thick, it is possible to turn the irradiation light into a light with original function color by reflecting the white light of the white bulb 43 with the reflection surface of the reflector 2, and emitting outside through the lens 33.例文帳に追加

レンズ３３の色を本来の機能色のレンズ色に形成することができず、またレンズ３３の厚さを厚く形成することができない場合においても、白色バルブ４３からの白色光をリフレクタ２の反射面で反射し、かつ、レンズ３３を透過して外部に照射することで、当該照射光を本来の機能色の色光とすることが可能になる。 - 特許庁

The method includes a first step for creating attribute values to be set for each field of an object for which an attribute value is to be set and for storing the attribute values in a storage means, and a second step for implementing a public accessor method set for each object, using a reflection function provided by JavaAPI, and for setting the attribute value of the object stored in the storage means.例文帳に追加

属性値設定対象オブジェクトの各フィールドに設定する属性値を作成して記憶手段に格納する第１のステップと、ＪａｖａＡＰＩで提供されるリフレクション機能を用いて各オブジェクトに設定されたパブリックなアクセサメソッドを実行し、前記記憶手段に格納された当該オブジェクトの属性値を設定する第２のステップとを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The diffraction grating type optical function element has a Bragg diffraction grating formed halfway in an optical path guiding a light signal along the optical path and uses the transmission peak or reflection peak by the diffraction of the grating, and the diffraction grating is formed by irradiating a high-refractive-index glass material layer on a plane substrate with ultraviolet rays and performing a heat treatment at 510 to 850°C for 10 minutes to 24 hours.例文帳に追加

光信号を導波する光路の途中に、当該光路に沿ってブラッグ回折格子が形成され、その格子の回折による透過ピークあるいは反射ピークを利用する回折格子型光機能素子であって、平面基板上の高屈折率ガラス材料層に対する紫外線照射と、５１０〜８５０℃で１０分〜２４時間の熱処理により回折格子を形成する。 - 特許庁

The double-sided self-adhesive tape 2 formed so as to contain a transparent plastic base material having ≥1 μm and <10 μm thickness has <30 μm total thickness of the tape, ≤0.3% transmittance (at 550 nm wavelength), ≥55% reflectance (at 550 nm wave length) in at least one surface and has the reflection and light shielding function.例文帳に追加

厚み１μｍ以上１０μｍ未満である透明プラスチック基材を含んで構成される両面粘着テープ２であって、テープの総厚みが３０μｍ未満、透過率（波長５５０ｎｍ）が０．３％以下、且つ、少なくとも一方の表面の反射率（波長５５０ｎｍ）が５５％以上であり、反射及び遮光機能を有することを特徴とする両面粘着テープ。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 portion even if it is not stripped and in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e., the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the projection optical system 1 changes the projection magnification from expanding projection (reference projection) to reducing projection, the projection type image display device 100 can adjust the position of a light flux at the time when the projection light emitted from a refraction optical part 40 enters a reflection optical part 20 by adding a correction lens 51 having an adjustment function of the position of the light flux.例文帳に追加

投射型画像表示装置１００は、投射光学系１において、拡大投射（基準投射）から縮小投射へ投射倍率を変化させる際に、光束の位置の調整機能をもたせることができる補正レンズ５１を追加することにより、屈折光学部４０から出射された投射光が反射光学部２０に入射する際の光束の位置を調整することができる。 - 特許庁