「step formation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing a semiconductor device includes a pattern formation step and an opening formation step.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、パターン形成工程と、開口部形成工程とを含む。 - 特許庁

A microfabrication method for a substrate comprises a thin film formation step, a V-shaped trench formation step, a thin film etching step, a substrate etching step, and a thin film elimination step.例文帳に追加

基板の微細加工方法は、薄膜形成過程と、Ｖ字溝形成過程と、薄膜エッチング過程と、基板エッチング過程と、薄膜除去過程と、からなる。 - 特許庁

The method includes a film formation step and a heating-and-drying step.例文帳に追加

本発明は、皮膜形成工程と、加熱乾燥工程とを含む。 - 特許庁

Further, a lamination step and a press step are performed after the solder resist formation step and before the exposure step.例文帳に追加

なお、ソルダーレジスト形成工程後かつ露光工程前には、ラミネート工程及びプレス工程が行われる。 - 特許庁

This method is composed of a cell transistor formation step and a peripheral transistor formation step, so as to perform trench separation 2.例文帳に追加

トンチ分離２されるように、セルトランジスタ形成ステップ、周辺トランジスタ形成ステップとからなる。 - 特許庁

The wiring board incorporating a via array capacitor is manufactured through a preparation step, an incorporation step, a via hole formation step, and a via conductor formation step.例文帳に追加

本発明のビアアレイキャパシタ内蔵配線基板は、準備工程、内蔵工程、ビアホール形成工程、ビア導体形成工程を経て製造される。 - 特許庁

The wiring board is manufactured by going through a board preparation step, a solder resist formation step, an exposure step, a development step and a curing step.例文帳に追加

配線基板は、基板準備工程、ソルダーレジスト形成工程、露光工程、現像工程及び硬化工程を経て製造される。 - 特許庁

The method for producing the capsule toner includes an adhesion step and a film formation step.例文帳に追加

カプセルトナーの製造方法は、付着工程と成膜化工程とを含む。 - 特許庁

In the method of manufacturing the color filter using first mixed gas and second mixed gas, the color filter is manufactured by a first stopper layer formation step, a colored layer formation step, a second stopper layer formation step, a photo resist layer formation step, an image formation step, a first etching step, a photo resist layer removal step and a second etching step.例文帳に追加

第１の混合ガスと第２の混合ガスとを用いたカラーフィルタの製造方法において、第１のストッパー層形成工程と、着色層形成工程と、第２のストッパー層形成工程と、フォトレジスト層形成工程と、画像形成工程と、第１のエッチング工程と、フォトレジスト層除去工程と、第２のエッチング工程とによりカラーフィルタを製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing the same includes a slurry sheet formation step, a lamination step, a local magnetic field application step and a hardening step.例文帳に追加

その製造方法は、スラリーシート形成工程、積層工程、局所磁場印加工程および硬化工程からなる。 - 特許庁

In this method, the amorphous silicon film formation step and the oxidizing protective film formation step are continuously performed in a chamber which is used for the amorphous silicon film formation step.例文帳に追加

この方法では、非晶質シリコン膜形成工程と酸化保護膜形成工程とが、非晶質シリコン膜形成工程で使用されるチャンバー内で連続して行われる。 - 特許庁

The base film 6 is formed by combining a step of normal incidence film formation, and a step of oblique-incidence film formation.例文帳に追加

該下地膜６は、直入射成膜工程と斜入射成膜工程とを組み合わせて成膜する。 - 特許庁

The manufacturing method of an epitaxial wafer includes a barrier layer formation step, and a device active layer formation step.例文帳に追加

また、バリア層形成工程と、デバイス活性層形成工程とを含むエピタキシャルウェーハの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing an electret material includes: an irradiation step, a formation step and a charging step.例文帳に追加

本発明のエレクトレット材の製造方法は、照射工程と、形成工程と、帯電工程とを含む。 - 特許庁

In the method of manufacturing the color filter using first mixed gas and second mixed gas, the color filter is manufactured by a stopper layer formation step, a colored layer formation step, a photo resist layer formation step, an image formation step, a first etching step, a second etching step and a photo resist layer removal step.例文帳に追加

第１の混合ガスと第２の混合ガスとを用いたカラーフィルタの製造方法において、ストッパー層形成工程と、着色層形成工程と、フォトレジスト層形成工程と、画像形成工程と、第１のエッチング工程と、第２のエッチング工程と、フォトレジスト層除去工程とによりカラーフィルタを製造する。 - 特許庁

A first inner hole is formed on the first housing with the formation of first step, second step, third step and fourth step in due order.例文帳に追加

第１ハウジングに第１内孔が形成され、且つ、順番通り１段目と、２段目と、３段目と４段目とを設ける。 - 特許庁

A second inner hole is formed on the second housing with the formation of fifth step, sixth step and seventh step in due order.例文帳に追加

第２ハウジングに第２内孔が形成され、且つ、順番通り５段目と、６段目と７段目とを設ける。 - 特許庁

Also, the surface treatment method of a titanium electrode material includes a titanium oxide layer formation step, an alloy layer formation step, and a heat treatment step.例文帳に追加

また、電極用チタン材の表面処理方法は、酸化チタン層形成工程と、合金層形成工程と、熱処理工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises an ion injection step, a carbon layer formation step, an ion activation step, and a removal step.例文帳に追加

半導体素子の製造方法は、イオン注入工程と、カーボン層形成工程と、イオン活性化工程と、除去工程と、を含む。 - 特許庁

First, a thin film layer of PLLA is formed (thin film formation step).例文帳に追加

まず、ＰＬＬＡの薄膜層を形成する（薄膜形成工程）。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device according to an embodiment comprises: a polishing step; a first amorphous silicon film formation step; a monocrystallization step; and a buffer layer formation step.例文帳に追加

一つの実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、研磨工程、第１のアモルファスシリコン膜形成工程、単結晶化工程、及びバッファ層形成工程を有する。 - 特許庁

In the manufacturing method for glass preform, glass preform is produced through a fixation step, a carbon film formation step, a deposition step, a drawing step, a clarification step, and a solidification step, in that order.例文帳に追加

本発明に係るガラス母材製造方法は、固定工程，カーボン皮膜形成工程，堆積工程，引抜工程，透明化工程および中実化工程を順に経て、ガラス母材を製造する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes an ion implantation step, a carbon layer formation step, an ion activation step, and a carbon layer removal step.例文帳に追加

半導体素子の製造方法は、イオン注入工程と、カーボン層形成工程と、イオン活性化工程と、カーボン層除去工程と、を含む。 - 特許庁

This method comprises the first step of continuous multi-step polymerization, the second step of continuous multi-step imide ring formation, and the third step of continuous evaporation of solvents.例文帳に追加

第一工程が連続多段重合、第二工程が連続多段イミド化反応、第三工程が連続脱揮工程よりなる連続的イミド化共重合体の製造方法。 - 特許庁

A film formation step and an annealing step during film formation are repeated a plurality of times.例文帳に追加

また、窒化物系化合物半導体膜が所望の厚みとなるまで、上記の成膜工程と成膜中アニール工程を複数回繰り返す。 - 特許庁

The formation step of the functional thin film has a film formation step of self-integrally supplying molecules by chemical absorption to the region.例文帳に追加

機能性薄膜の形成工程は、前記領域に、化学吸着により分子を自己集積的に供給する成膜工程を有する。 - 特許庁

Then, a protective layer formation process (step S7) is performed after the diffusion barrier layer formation process (step S6), and a protective layer is laminated on the diffusion barrier layer.例文帳に追加

そして、拡散バリア層形成工程（ステップＳ６）の後に保護層形成工程（ステップＳ７）を行い、拡散バリア層に保護層を積層する。 - 特許庁

In the protective layer removing step, the protective layers (23 and 67) formed in the protective layer formation step are removed.例文帳に追加

保護層除去工程では、保護層形成工程において形成した保護層（２３，６７）を除去する。 - 特許庁

A mounting step of a component includes a bonding material formation step S1, a component mounting step S2, a protruding state detecting step S3, and a shape pattern updating step S4.例文帳に追加

部品の実装工程では、接合用材料形成工程Ｓ１と、部品搭載工程Ｓ２と、はみ出し状態検出工程Ｓ３と、形状パターン更新工程Ｓ４とを含む。 - 特許庁

To obtain a polyester composition reduced in the formation of THF in a production step of a polymer, a compounding step or a molding and processing step.例文帳に追加

ポリマーの製造工程、コンパウンド工程や成形・加工工程でＴＨＦの生成が低減されたポリエステル組成物を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises a dicing step, a backside metal film formation step, and an expanding step.例文帳に追加

一つの実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、ダイシング工程、裏面金属膜形成工程、及びエキスパンド工程を有する。 - 特許庁

At a device-dependent key formation step 206, the device-dependent key is formed using the device-dependent ID formed at the device-dependent ID formation step 205.例文帳に追加

機器固有鍵生成ステップ２０６では、機器固有ＩＤ生成ステップ２０５で生成された機器固有ＩＤを用いて機器固有鍵を生成する。 - 特許庁

On the side face of the step between the isolation 105 and the element formation regions, a step side wall 106 is formed.例文帳に追加

素子分離１０５と素子形成領域との段差部側面には、段差部サイドウォール１０６が形成されている。 - 特許庁

On the surface of the frost-formation-suppressed coating film 14, a protection film 15 for protecting the frost-formation-suppressed coating film 14 is formed in a formation step of the protection film.例文帳に追加

当該着霜抑制被膜１４の表面上には、保護膜形成工程において、該着霜抑制被膜１４を保護する保護膜１５が形成される。 - 特許庁

A cover photo PR is formed on a semiconductor wafer 10 (resist formation step).例文帳に追加

半導体ウエハ１０上にカバーフォトＰＲを形成する（レジスト形成工程）。 - 特許庁

In a step S14, the content after the file formation conversion is copied to a storage part of the PDA.例文帳に追加

ステップＳ１４で、ファイルフォーマット変換後のコンテンツを、PDAの記憶部にコピーする。 - 特許庁

This manufacturing method of a bimorph element comprises a metal layer formation step of forming a metal layer on a sacrifice layer; an annealing step of annealing the metal layer formed in the metal layer formation step; and a silicon oxide layer formation step of forming a silicon oxide layer on the metal layer annealed in the annealing step.例文帳に追加

バイモルフ素子の製造方法は、犠牲層の上に金属層を形成する金属層形成段階と、金属層形成段階で形成した金属層を焼き鈍しする焼き鈍し段階と、焼き鈍し段階において焼き鈍しされた金属層の上に酸化シリコン層を形成する酸化シリコン層形成段階とを備える。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises a protective film formation step of forming a protective film 30 on an introduction region 8 and a plasma step of exposing the introduction region 8 into a plasma containing negative ions after the protective film formation step.例文帳に追加

導入領域８上に保護膜３０を形成する保護膜形成工程と、保護膜形成工程の後に、導入領域８を負イオンを含むプラズマに曝すプラズマ工程を備えている。 - 特許庁

A cleaning step of the separation pawl is carried out in parallel with a toner replenishing step in which continuous image formation is temporarily interrupted.例文帳に追加

連続画像形成が一時、中断されるトナー補給工程と並行して分離爪のクリーニング工程を実施する。 - 特許庁

When a start lever is operated, a lottery related to the formation of the win combination is drawn (a step S2 and a step S3).例文帳に追加

始動レバーが操作されることを契機に、役の成立に関する抽選が行われる（ステップＳ２及びステップＳ３）。 - 特許庁

In the second formation step, a layer to be processed is formed on the nitride semiconductor layer.例文帳に追加

第２形成工程では、窒化物半導体層上に、被加工層を形成する。 - 特許庁

This analysis method includes a mesh formation step S11, an analytical calculation step S12, a differential computing step S13, mesh regeneration area specifying steps S14-S17, and a mesh regeneration step S18.例文帳に追加

この解析方法は、メッシュ生成ステップＳ１１、解析計算ステップＳ１２、差分算出ステップＳ１３、メッシュ再生成領域特定ステップＳ１４〜Ｓ１７、メッシュ再生成ステップＳ１８を含む。 - 特許庁

A formation amount of the ferrite film is measured by a quartz oscillator electrode device arranged in a film formation liquid pipe to which the film formation aqueous solution in the film formation device is supplied (step S7).例文帳に追加

皮膜形成装置の皮膜形成水溶液を供給する皮膜形成液配管内に配置された水晶振動子電極装置によって、フェライト皮膜の形成量を計測する（ステップＳ７）。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step (oxide film formation step) of forming a silicon oxide film on a silicon substrate surface, a step (etching step) of etching the silicon oxide film to a desired film thickness, and a step (high-k film formation step) of forming the high-k film on the silicon oxide film having been etched.例文帳に追加

本発明の半導体デバイスの製造方法は、シリコン基板表面にシリコン酸化膜を形成する工程（酸化膜形成ステップ）と、シリコン酸化膜を所望膜厚だけ残してエッチングする工程（エッチングステップ）と、エッチング後のシリコン酸化膜上に高誘電体膜を形成する工程（高誘電体膜形成ステップ）とを有する。 - 特許庁

The cell transistor formation step is provided with a gate electrode formation step for forming a gate electrode 8, a source wiring layer formation step for forming the source wiring layer at a cell transistor part, and a peripheral transistor part and a source wiring formation step for patterning the source wiring layer and connecting the source wiring 12 to a source diffused layer 10.例文帳に追加

セルトランジスタ形成ステップは、ゲート電極８を形成するためのゲート電極形成ステップと、ソース配線用層をセルトランジスタ部と周辺トランジスタ部に形成するためのソース配線用層形成ステップと、ソース配線用層をパターニングしてソース配線１２をソース拡散層１０に接続するためのソース配線形成ステップとを備える。 - 特許庁