「correction techniques」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEVICE AND METHOD FOR RESPONDING TO DATA RETENTION LOSS IN NONVOLATILE MEMORY UNIT USING ERROR-CHECKING AND CORRECTION TECHNIQUES例文帳に追加

エラーチェック訂正技法を用いて不揮発性メモリユニットのデータ保持損に応答する装置及び方法 - 特許庁

The WG also receives correction information from the suppliers of submitted cryptographic techniques, and conducts security evaluation of ciphers taking the correction information into account. 例文帳に追加

なお、暗号技術調査WGは、応募元等より修正情報の提供を受け、同修正情報を加味した暗号の安全性評価も行う。 - 経済産業省

To realize working, without overetching or insufficient shaping in defect correction on a mask using atomic force microscope techniques.例文帳に追加

原子間力顕微鏡技術を用いたマスクの欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工を実現する。 - 特許庁

Correction techniques can be used to reduce determination errors due to detection of light other than that from fluorescence of a chemical in the tissue.例文帳に追加

組織の反射などの蛍光以外の光の検出による誤差を低減するために、補正技術を使用できる。 - 特許庁

To provide a method for automatically applying techniques of optical proximity correction to a reticle design containing a plurality of features.例文帳に追加

複数のフィーチャを含むレチクル設計に光近接補正技術を自動的に適用する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加

レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正（ＯＰＣ）または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide techniques in which unnatural images can be prevented from being formed by color correction, in an overlapping region exhibiting color correction characteristics for a first color correction region and those for a second color correction region, in an overlapped manner, when there is such an overlapping region.例文帳に追加

第１の色補正領域に対する色補正特性と、第２の色補正範囲に対する色補正特性が重複する重複領域が存在する場合、この重複領域での色補正により却って不自然な画像とならないようにする。 - 特許庁

The DCDC differential amplifier provides completely differential techniques for the correction of duty cycle distortion in the differential output.例文帳に追加

ＤＣＤＣ差動増幅器は、差動出力の中のデューティサイクル歪みの補正に対する完全に差動的な手法を提供する。 - 特許庁

To provide techniques to prevent a decrease in control stability when a center bias for optical shake correction is enhanced.例文帳に追加

本発明では、光学的ブレ補正のセンタバイアスを強める場合に、制御安定性の低下を防止する技術を提供する。 - 特許庁

To provide completely differential techniques for the correction of duty cycle distortion of a differential clock signal propagated via a differential amplifier.例文帳に追加

差動増幅器を介して伝搬する差動クロック信号のデューティサイクル歪みの補正に対する完全に差動的な手法を提供する。 - 特許庁

To improve gradation correction precision in an image forming apparatus for forming a toner image of which gradations are represented by error diffusion techniques.例文帳に追加

誤差拡散法で階調表現されたトナー画像を形成する画像形成装置における階調補正の精度を向上する。 - 特許庁

To provide techniques of preventing the accuracy of image correction for ambient light from being degraded due to the effect of an image displayed by an image display apparatus.例文帳に追加

画像表示装置の表示している画像の影響により、環境光に対応する画像補正の精度が低下することを防止する技術を提供する。 - 特許庁

To achieve a process without overetching or insufficient etching and a process with high accuracy in surplus defect correction of a photomask by using atomic force microscope techniques.例文帳に追加

原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスクの余剰欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工や高精度な加工を実現する。 - 特許庁

To provide Model Based Optical Proximity Correction (MOPC) biasing techniques for optimizing a mask pattern, which takes into account the influence of neighboring features with respect to the mask.例文帳に追加

マスクに対する近傍の特徴構造の影響を考慮するマスク・パターンの最適化のためのモデル・ベースの光学的近接効果補正（ＭＯＰＣ）バイアス技術を提供する。 - 特許庁

To provide mask designing techniques capable of shortening the increased OPC (Optical Proximity Correction) processing time, shortening the manufacture TAT (Turn Around Time) of a semiconductor device, thereby reducing cost.例文帳に追加

増大するＯＰＣ（近接効果補正）処理時間の短縮を実現し、半導体デバイスの製造ＴＡＴを短くし、コストを削減するマスクパターン設計技術を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit structure and a photomask for the circuit structure, the photomask pattern including lines and pickup pads that can be more easily corrected by OPC (optical proximity correction) than by conventional techniques.例文帳に追加

フォトマスクパターンがＯＰＣによって従来技術よりも更に容易に補正できるラインとピックアップパッドとを含む回路構造およびそのフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide extremely easy nail correction fluid, with which even a non-professional person without special techniques is easily and effectively capable of correcting peeled parts of nails or gaps or the like generated as nails grow in short time.例文帳に追加

専門技術を持たない素人が、ネイルの剥がれた部分や爪が伸びて生じた隙間などの修正を簡単に美しく短時間で行える超簡単ネイル修正液を提供する。 - 特許庁

To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁

Through the use of pre-correction techniques, data signals are transmitted through the multiple transmission antennas so that signals received through the multiple transmission paths can be demodulated and decoded as a single signal.例文帳に追加

事前補正の技術の使用によって、多数の送信パスを介して受信された信号が単一の信号として復調および復号され得るように、多数の送信アンテナを介してデータ信号は送信される。 - 特許庁

Detection and correction of a fixed failure mode of a class of the three-dimensional data storage medium are performed by using recognition and characterization of the failure mode of the class of the three-dimensional data storage medium, selection and combination of fixed error control encoding techniques and selected and combined error control encoding techniques.例文帳に追加

本発明の一実施の形態は、３次元データ記憶媒体のクラスの障害モードの認識および特徴付けと、一定のエラー制御符号化技法の選択および組み合わせと、選択して組み合わせたエラー制御符号化技法を使用して、３次元データ記憶媒体のクラスの一定の障害モードの検出および訂正を行う方法の実施とを含む。 - 特許庁

For example, in a method for manufacturing a microlens array having a plurality of microlenses to be used for a liquid crystal projector, a microlens array with fidelity to a designed feature is manufactured by using a gray scale mask 30 for lithography which has a plurality of correction portions 32 to form an enhancing feature (protruding features) on the borders of the plurality of microlenses and by gray scale lithography techniques and etching techniques.例文帳に追加

例えば、液晶プロジェクタに用いられる複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレイの製造方法において、複数のマイクロレンズの境界部に強調形状（突出形状）を形成するための複数の補正部３２を有するグレースケールのリソグラフィ用マスク３０を用いて、グレースケールリソグラフィ技術およびエッチング技術により、設計形状に対して忠実なマイクロレンズアレイを製造する。 - 特許庁

An iterative timing analysis is performed analytically before a chip is fabricated, based on a technique that uses optical proximity correction techniques for shortening the gate lengths and adjusting metal line widths and proximity distances of critical time-sensitive devices.例文帳に追加

ゲート長を短縮し、金属配線幅およびクリティカル時間感応性デバイスの近接距離を調節するための光学近接補正技法を使用する方法に基づいて、チップが製造される前に、反復タイミング解析が解析的に実施される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for displaying simulation image of a charged particle beam device, which facilitate operator's or adjustor's mastering techniques for correcting aberration and understanding the procedures for the correction.例文帳に追加

本発明は荷電粒子ビーム装置のシミュレーション画像表示方法及び装置に関し、オペレータ又は調整員が収差補正の技術を習得し、その手順を理解するのを容易にすることができる荷電粒子ビーム装置のシミュレーション画像表示方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The method for forming the mask pattern uses techniques of optical proximity correction of the mask pattern having a phase shift region with a plurality off transmittance.例文帳に追加

複数の透過率の位相シフト領域を有するマスクパターンの光近接効果補正技術を用いたマスクパターン形成方法であって、単層の位相シフトマスクを想定した光近接効果補正を行うＯＰＣ処理工程と、光近接効果補正後に透過率を決定する工程と、透過率の決定後透過率に対応するマスクバイアスをかける工程を含む。 - 特許庁

To provide a device and a method for processing document image improved in operability and capable of easily preparing a document easy to read by easily performing addition or correction by suitably locating images to be synthesized inside an inputted document image when working the document image while using layout analysis techniques.例文帳に追加

本発明はレイアウト解析技術を用いて文書画像を加工する際に、合成すべき画像を入力された文書画像中に適切に配置して、追加、訂正等を簡単に行うことのできる、操作性がよく、読み易い文書を容易に作成できる文書画像処理装置及び文書画像処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁