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deprotectionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 56



例文

DEPROTECTION OF OLIGONUCLEOTIDES例文帳に追加

オリゴヌクレオチド類の脱保護方法 - 特許庁

METHOD FOR SELECTIVE DEPROTECTION OF ACETAL例文帳に追加

アセタールの選択的脱保護法 - 特許庁

DEPROTECTION OF N-BOC COMPOUND例文帳に追加

N−BOC化合物の脱保護 - 特許庁

SELECTIVE DEPROTECTION BY HYDROGENATION REACTION OF BENZYL PROTECTIVE GROUP OR THE LIKE例文帳に追加

ベンジル保護基等の水素添加反応による選択的脱保護 - 特許庁

例文

DEPROTECTION OF CARBOXYL GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYL GROUP例文帳に追加

アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 - 特許庁


例文

N-FMOC DEPROTECTION ENHANCED BY MICROWAVE IN PEPTIDE SYNTHESIS例文帳に追加

ペプチド合成におけるマイクロ波により向上されたN−FMOC脱保護 - 特許庁

DEPROTECTION OF AMINO GROUP AND HYDROXY GROUP PROTECTED WITH ALKYNYLMETHYLOXYCARBONYL GROUP例文帳に追加

アルキニルメチルオキシカルボニル基で保護したアミノ基および水酸基の脱保護方法 - 特許庁

To provide a method for selective deprotection of an acetal originated from aldehyde under a mild condition.例文帳に追加

緩和な条件下でアルデヒド由来のアセタールを選択的に脱保護する方法を提供する。 - 特許庁

IMPROVED SYNTHON FOR SYNTHESIS, AND METHOD FOR DEPROTECTION OF PEPTIDE NUCLEIC ACID UNDER MILD CONDITION例文帳に追加

合成用の改良されたシントンと、緩やかな条件下でのペプチド核酸の保護解除方法 - 特許庁

例文

An optically active bis(alkynylphosphino)ethane derivative is obtained by the deprotection of the optically active bis(alkynylphosphino)ethane-borane derivative by deboranation.例文帳に追加

脱ボラン化により脱保護することで、光学活性なビス(アルキニルホスフィノ)エタン誘導体が得られる。 - 特許庁

例文

The protection and deprotection of a hydroxy group are not required at all according to the process as opposed to the conventional process.例文帳に追加

本プロセスによれば、従来のようなヒドロキシ基の保護ならびに脱保護は全く必要としない。 - 特許庁

Compounds that scavenge acrylonitrile produced during the deprotection of phosphate groups bearing ethylnitrile protecting groups, are provided.例文帳に追加

エチルニトリル保護基を有するホスフェート基の脱保護中に生成したアクリロニトリルを捕獲する化合物に関する。 - 特許庁

The deprotection reaction of the NAP group is made possible by an oxidation reaction by which the deprotection is carried out more easily than that of the Bn group, and which has high chemical structure specificity, and the CRX3C can be produced in high yield.例文帳に追加

このNAP保護基の使用により、脱Bn保護基の反応よりも容易で化学構造特異性の高い酸化反応により、脱NAP反応が可能となり、高収率でCTX3Cを得ることができることを見出した。 - 特許庁

To improve peptide synthesis chemistry, specifically improving deprotection in solid phase peptide synthesis (SPPS).例文帳に追加

ペプチド合成の化学、具体的には固相ペプチド合成(SPPS)における脱保護化学を改良することを目的とする。 - 特許庁

To provide a nondestructive method capable of evaluating the ratio of deprotection, which is freely used for further use, and evaluating the quality of biopolymers, without the need for further processing, once final deprotection or detection is performed.例文帳に追加

非破壊的であり、いったん最終脱保護または検出が行なわれたら、さらなる工程を必要とせず、脱保護の割合の評価ならびに後の使用に自由に利用し得るバイオポリマーの品質の評価を可能にする方法を提供すること。 - 特許庁

The post-exposure processing preferably involves ambient to moderately elevated temperature and the presence of a deprotection reaction-dependent co-reactant (e.g. water).例文帳に追加

この露光後処理は、好ましくは、室温からやや高い温度と脱保護反応依存共反応体(例えば、水)の存在を伴う。 - 特許庁

In the manufacturing method, a copolymer which has a block having a functional group capable of being converted into an ion exchange group by deprotection and a block which does not have, in substance, a functional group capable of converting into the ion exchange group by deprotection is film-formed and thereafter, the functional group is converted into the ion exchange group by deprotection in a liquid containing one kind or more selected from acid, base and salt.例文帳に追加

脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を有するブロックと、脱保護によりイオン交換基に変換可能な官能基を実質的に有しないブロックとを有する共重合体を製膜した後、前記官能基を、酸、塩基および塩からなる群より選ばれる1種以上を含む液中で脱保護によりイオン交換基に変換することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。 - 特許庁

The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加

前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁

When a strong acid such as trifluoroacetic acid(TFA) is allowed to act on the obtained alkynylmethyloxycarbonyl derivative 3a or 3b in the presence of a cobalt carbonyl complex, the deprotection is rapidly and efficiently carried out to regenerate the original alcohol 2a or amine 2b.例文帳に追加

一方、コバルトカルボニル錯体の存在下に、トリフルオロ酢酸を使用させることにより、アミノ基あるいは水酸基を遊離させることができる。 - 特許庁

The 1,7,8-trifluoro-2-naphthol derivative is produced by subjecting a 1,7,8-trifluoronaphthalene derivative represented by formula (12) to a deprotection reaction.例文帳に追加

一般式(12)で表される1,7,8−トリフルオロナフタレン誘導体を、脱保護反応を行うことにより、1,7,8−トリフルオロ−2−ナフトール誘導体を製造する。 - 特許庁

The method for producing the objective carbapenem compound comprises reacting an aryl glyoxalate compound with a 2-azetidinone derivative followed by conducting halogenation, phosphidation and then deprotection.例文帳に追加

2−アゼチジノン誘導体にアリルグリオキサレート化合物を反応させ、のちハロゲン化、リン化、脱保護化することを特徴とするカルバペネム化合物の製造方法。 - 特許庁

To provide an alkoxysilane comprising a hydroxy group protected by an alkylalkoxysilyl group wherein a silyl group detached from the alkylalkoxysilyl group by deprotection is integrated into its silsesquioxane skeleton.例文帳に追加

アルキルアルコキシシリル基により保護された水酸基を含有し、脱保護により脱離したシリル基がシルセスキオキサン骨格に組み込まれるアルコキシシランを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a desired optically active β-amino acid derivative in high optical purity and high yield without needing a deprotection process.例文帳に追加

脱保護工程を必要とせず、所望の光学活性β−アミノ酸誘導体を光学純度よく、収率よく製造する方法を提供すること。 - 特許庁

Reactions are conducted on a solid phase support and acidic deprotection conditions are avoided, as is the necessity of oxidizing the phosphite linkage between each coupling reaction.例文帳に追加

反応は固相支持体で行われ、各結合反応の間の亜リン酸結合を酸化する必要はあるが、酸性の脱保護条件が避けられる。 - 特許庁

To provide a production method where all steps of condensation, oxidation, capping and deprotection can be conducted under anhydrous conditions, in synthesizing an oligo-DNA and RNA by the phosphoramidite method.例文帳に追加

ホスホロアミダイト法によるオリゴDNA、RNAの合成において、縮合、酸化、キャピング、脱保護の全工程を無水条件下で行える製造方法の提供。 - 特許庁

The data protection/deprotection state of the nonvolatile memory is specified by volatile protection state specifying sections, and the state of the protection states specifying sections is stored by nonvolatile initial state storage sections.例文帳に追加

揮発性の保護状態指定部により、不揮発性メモリのデータ保護/非保護状態を指定し、不揮発性の初期状態記憶部により、保護状態指定部の状態を記憶する。 - 特許庁

The method for carrying out synthesis of peptide comprises application of microwave irradiation to the deprotection reaction and simultaneously deprotecting an Fmoc-protected amino acid with piperazine.例文帳に追加

脱保護反応に対してマイクロ波照射を適用すると同時に、Fmoc保護アミノ酸をピペラジンにより脱保護することを含む、ペプチド合成を実施するための方法を開示する。 - 特許庁

Deprotection of the unexposed portions of the resist on a surface of the substrate thus proceeds, the resist surface is changed from hydrophobic to hydrophilic, and the phenomenon that a foreign substance readheres to the resist surface does not occur.例文帳に追加

これにより、基板表面のレジストの未露光部分の脱保護が進みレジスト表面が疎水性から親水性となり、異物がレジスト表面に再付着する現象が生じない。 - 特許庁

To produce industrially and advantageously produce an iminothiazole compound without complex operations of protection and deprotection and without using methyl isocyanate which has problems in availability and safety.例文帳に追加

煩雑な保護、脱保護という操作がなく、また入手性や安全性の点で問題のあるメチルイソシアネートを使用することなく、工業的に有利に目的とするイミノチアゾール化合物を製造する。 - 特許庁

To provide a method of producing a pattern-formed structure by which deprotection of functional groups can be carried out in a short time and post treatment or the like after the exposure is unnecessary.例文帳に追加

本発明は、官能基の脱保護を短時間で行うことが可能であり、かつ露光後の後処理等が不要であるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

At polarity change of a resist material, isomerization reaction of oxanorbornadienes into phenols, particularly, isomerization reaction of oxabenzonorbornadienes into naphthols is utilized, rather than a deprotection reaction.例文帳に追加

かかる発明においては、レジスト材料の極性変化の際に、脱保護反応ではなく、オキサノルボルナジエン類からフェノール類への異性化反応、特にオキサベンゾノルボルナジエン類からナフトール類への異性化反応が利用される。 - 特許庁

To provide a preparation method for telmisartan in which a commercial or easily preparable intermediate is utilized and, if possible, the additional protection and deprotection steps for carboxyl functional group are omitted.例文帳に追加

テルミサルタンの調製方法であって、市販のもしくは調製の容易な中間体を利用する、できれば追加的なカルボキシル官能基の保護および脱保護ステップの無い方法を提供すること。 - 特許庁

Cyclic polyamines containing N nitrogens on the ring are protected with high yields in an N-1 manner, e.g. all protected but one amino group, by using certain fluoro-containing agents that offer easy deprotection.例文帳に追加

環上にN窒素を含む環式ポリアミンは、容易な脱保護を提供する特定のフッ素含有試薬を使用することによって、N−1様式(例えば、1個のアミノ基を除いてすべて保護される)で高収率で保護される。 - 特許庁

The method for preparing the amino acid-substituted taxanes comprises coupling of a blocked amino acid to taxanes, and deprotection with about an equimolar amount of a secondary amine to substantially avoid base-catalyzed hydrolysis of amino acid from the taxane of formula (4).例文帳に追加

ブロック化されたアミノ酸をタキサン類と結合した後、ほぼ等モル量の二級アミンを用いて脱保護を行ない、下記式のタキサン類からアミノ酸の塩基触媒化加水分解を回避する製造方法。 - 特許庁

The invention relates to the method for deprotection of acetal comprising conversion of acetal group originated from aldehyde group to the aldehyde group by sequentially adding an organic base and TMSOTf (Trimethylsilyl Trifluoromethanesulfonate) or TESOTf (Triethylsilyl Trifluoromethanesulfonate) to a compound having acetal group originated from aldehyde group in methylene chloride atC.例文帳に追加

塩化メチレン中、O℃下で、アルデヒド基由来のアセタール基を有する化合物に対し、有機塩基、及びTMSOTf又はTESOTfを順次加えて反応を行うことによりアルデヒド由来のアセタール基をアルデヒド基へと変換する。 - 特許庁

Pyrazole-4-carboxylic acid azide (2) is heated in alcohol shown by R^2OH, thereby 4-amino pyrazole derivatives (1a) are obtained, subsequently, deprotection is performed, and thereby 4-amino pyrazole derivatives (1b) are produced.例文帳に追加

ピラゾール−4−カルボン酸アジド(2)をR^2OHで示されるアルコール中で加熱することにより、4−アミノピラゾール誘導体(1a)を得、次いで脱保護することにより、4−アミノピラゾール誘導体(1b)を製造することができる。 - 特許庁

The method for producing the hydroxypentafluorosulfanylbenzene compound represented by general formula (2) includes subjecting an oxypentafluorosulfanylbenzene compound represented by general formula (1) (wherein, P is a protective group) to deprotection reaction.例文帳に追加

一般式(1)(式中、Pは、保護基を示す。)で示されるオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を脱保護反応させることを特徴とする、一般式(2)で示されるヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法によって解決される。 - 特許庁

The objective monatin compound having high purity can be produced by converting the crude monatin compound into a derivative by a means such as the introduction of a protecting group, purifying the compound in the form of the derivative and removing the protecting group by deprotection reaction.例文帳に追加

得られたモナティン類に対し、保護基を導入する等の誘導体化を行い、得られる誘導体の形態で精製を行った後に、脱保護反応を行い保護基を除去して、目的とする高純度のモナティン類を製造することができる。 - 特許庁

The compound functions as a highly selective fluorescent probe responding exclusively to hydrogen peroxide without responding to superoxide, hydroxyl radical and singlet oxygen based on an absolutely new fluorescence reaction composed of a simple deprotection reaction.例文帳に追加

本発明の化合物は、単純な脱保護からなる全く新しい発蛍光反応に基づき、スーパーオキサイド、ヒドロキシルラジカルおよび一重項酸素には応答せず、過酸化水素だけに対して応答する高選択的な蛍光プローブとして機能する。 - 特許庁

To provide an useful and various polybranched polymer without an operation of conventional protection and deprotection, by synthesizing a polybranched polymer using a monomer having, in the same molecule, an azide group capable of rearranging to an isocyanate and a functional group reacting with the isocyanate.例文帳に追加

イソシアナートに転位可能なアジド基とイソシナートと反応する官能基を同一分子中に有するモノマーを用い、多分岐高分子を合成することで、従来の保護、脱保護の操作なしに、有用な種々の多分岐高分子を提供する。 - 特許庁

The method for synthesizing the indole compound expressed by formula (5) comprises using an indole compound having a substituent such as an alkoxy group, a halogen atom, an amino group or the like as a starting raw material, reacting the same with a pyridine compound having a substituent such as an amino group or the like and, if needed, performing deprotection or reduction.例文帳に追加

アルコキシ基、ハロゲン原子、アミノ基等の置換基を有するインドル化合物を出発原料として、アミノ基等の置換基を有するピリジン化合物と反応させ、必要に応じ脱保護、又は還元を行なって式(5)で表わされるインドール化合物の製造方法。 - 特許庁

Further the halogen atom except the fluorine atom at the 2'-β position of the compound is reduced, a hydroxy group at the 5'-position is deprotected and, if required, protection, deprotection and modification of nucleic acid base are carried out to synthesize the objective nucleoside derivative fluorinated at the 3'-α position and deoxidized at the 2'-position.例文帳に追加

更にこの化合物の2’−β位のフッ素以外のハロゲン原子を還元し、5’位水酸基の脱保護を行い、必要に応じ核酸塩基の保護、脱保護、修飾を行うことにより、3’−α位がフッ素化され、2’位が脱オキシ化されたヌクレオシド誘導体を合成することができる。 - 特許庁

The content of a compound represented by formula (2) or a salt thereof is increased by subjecting the salt of a compound represented by formula (1) to enzymatic reaction to perform the deprotection reaction of the 7-position amide bonding and bringing an aqueous solution of a compound represented by formula (3) into contact with activated carbon.例文帳に追加

下記式(1)で表される化合物の塩を酵素反応に付して7位アミド結合の脱保護反応を行い、式(3)で表される化合物の水溶液を活性炭と接触させて処理することにより、下記式(2)で表される化合物又はその塩の含有率の向上。 - 特許庁

Optically-active nucleoside 3'-phosphoroamidite represented by formula (1) is used for a method, for producing a highly stereoregular phosphorus atom-modified nucleotide analogue, comprising condensing with nucleoside using an activator, followed by reaction with an electrophilic reagent and deprotection.例文帳に追加

活性化剤を用いてヌクレオシドと縮合した後、求電子試薬との反応及び脱保護を行うことにより立体規則性の高いリン原子修飾ヌクレオチド類縁体を製造する方法に用いるための一般式(1)で表される光学活性なヌクレオシド3'−ホスホロアミダイト。 - 特許庁

The manufacturing method of the highly stereoregular phosphorus atom-modified nucleotide analogue represented by general formula (4) or (5), characteristically performs a reaction with an electrophilic reagent and deprotection after condensing an optically active nucleoside 3'-phosphoroamidite and a nucleoside by using an activating agent.例文帳に追加

光学活性なヌクレオシド3’−ホスホロアミダイトと、ヌクレオシドとを、活性化剤を用いて縮合した後、求電子試薬との反応及び脱保護を行うことを特徴とする、一般式(4)又は(5)で表される立体規則性の高いリン原子修飾ヌクレオチド類縁体の製造法。 - 特許庁

The method for safely manufacturing the theanine of high purity in the high yield comprises a step of synthesizing NPS-glutamic acid-γ-ethylamide, a useful intermediate of theanine, using a readily available 2-nitrophenylsulfenyl group (NPS) which can be deprotected under a condition such that an amino acid forms no salts, and a deprotection step using a thioamide compound.例文帳に追加

アミノ酸が塩を作らない条件下で脱保護、入手の容易な2−ニトロフェニルスルフェニル基(NPS)を用い、テアニンの有用な中間体であるNPS−グルタミン酸−γ−エチルアミドを合成し、さらにチオアミド類を用いた脱保護工程を有する、テアニンを安全にかつ、高収率、高純度で製造する。 - 特許庁

Successively, after carbon-nitrogen bonding is achieved at the carbon atom to which the halogen (X^1) of the above unsaturated intermediate is bonded, deprotection is performed to form an amine compound intermediate, and lastly, the amine compound intermediate is isothiocyanated to predominantly synthesize the target trans 4-methyl-3-butenyl isothiocyanate.例文帳に追加

続いて、前記不飽和中間体のハロゲン(X^1)が結合する炭素原子において、炭素−窒素結合を達成した後、脱保護してアミン化合物中間体を生成し、最後に、該アミン化合物中間体をイソチオシアナート化して、目的の4-メチルチオ-3-ブテニルイソチオシアナートのトランス体を優勢に合成する。 - 特許庁

The manufacturing method of D, L-2-amino-4-(hydroxymethylphosphinyl)-butanoic acid comprises reducing a nitro group of a compound represented by formula (3) [wherein R^1 is an alkyl group or a chloroethyl group; and R^2 is an alkyl group] to convert it into an amino group followed by deprotection by hydrolysis of a phosphoric ester and a carboxylic ester.例文帳に追加

次式(3)[式中、R^1はアルキル基、クロロエチル基を表し、R^2はアルキル基を表す]の化合物のニトロ基を還元することによってアミノ基に変換した後、さらにリン酸エステルおよびカルボン酸エステルを加水分解して脱保護することを含んでなる、D,L−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸の製造方法。 - 特許庁

To provide a new synthetic route and to establish the new total synthetic route by selecting a protective group of which a deprotection reaction progresses substrate-specifically in a comparative mild condition, as the protective group of a hydroxy group used in the final step of the total synthesis to improve the yield of ciguatoxins and the easiness of the production.例文帳に追加

新規合成ルートを提案し、シガトキシン類の収率および製造の容易性を改善するため、全合成の最終工程で使用する水酸基の保護基として、比較的温和な条件において、基質特異的に脱保護基反応が進行する保護基を選択し、新規全合成ルートを確立する。 - 特許庁

例文

The optically active 1,2-diamine derivative is stereoselectively obtained by converting a starting material being an optically active carbamate ketone derivative capable of being synthesized from an optically active amino acid into an optically active carbamate oxime derivative by using easily available hydroxylamine and subsequently effecting the erythroselective reduction of the oxime moiety and the deprotection of the carbamate moiety.例文帳に追加

光学活性なアミノ酸から合成可能な光学活性カーバメイトケトン誘導体を出発原料とし、入手が容易なヒドロキシルアミンを用いて光学活性カーバメイトオキシム誘導体へ変換し、続いてオキシム部分をエリスロ選択的に還元すると共に、カーバメイト部分を脱保護化することで光学活性1,2-ジアミン誘導体を立体選択的に得る。 - 特許庁




  
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