「deflection aberration」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This structure restrains quadruple aberration to be small and the deflection sensitivity increases.例文帳に追加

よって、４重収差を小さく抑えることができ、また、偏向感度を上げることができる。 - 特許庁

To provide a charged corpuscular beam exposing device which can obtain a large deflection amount with small excitation electric current and of which deflection aberration is small.例文帳に追加

小さな励磁電流で大きな偏向量が得られ、かつ、偏向収差の小さい荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To correct a deflection chromatic aberration of a primary electron beam by an E×B separator in an electron beam device.例文帳に追加

電子線装置において、Ｅ×Ｂ分離器による一次電子線の偏向色収差を補正する。 - 特許庁

To provide a light beam deflector in which a wavefront aberration is properly corrected corresponding to the direction of the generation of a random wavefront aberration and the quantity of the random wavefront aberration generated due to a factor arising in the manufacturing process of a deflection member.例文帳に追加

偏向部材の製作時の要因で発生するランダムな波面収差の発生方向とランダムな波面収差の量とに対応して、波面収差を適正に補正できる光ビーム偏向器を提供する。 - 特許庁

The E×B separators can work with such intensity as to set the deflection chromatic aberration by the electrostatic deflector 10 nearly equal to the chromatic aberration by the electromagnetic deflector 9.例文帳に追加

Ｅ×Ｂ分離器は、静電偏向器１０による偏向色収差と電磁偏向器９による色収差とをほぼ等しくさせるような強度で動作可能である。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner wherein blur and distortion of an image caused by deflection aberration is suppressed for large deflection amount even when an aperture half angle of electron beam is large.例文帳に追加

電子線の開き半角を大きめにとった場合でも、偏向収差による像のぼけ、歪みを小さく押さえ、大きな偏向量のとれる電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide charged beam equipment which has further improved resolution by a simple structure while suppressing deflection aberration on a sample.例文帳に追加

簡易な構成で試料上での偏向収差を抑制しながら分解能をさらに高めた荷電ビーム装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical deflection device which can reduce the aberration due to the difference in optical path length, by the constitution in which the deflection directions of the light in the optical detection operation are made symmetrical with respect to the incident optical axis and in which the deflection angles agree.例文帳に追加

光偏向動作における光の偏向方向を入射光軸と対称にし、かつ偏向角を一致させるような構成とすることで、光路長差による収差を少なくすることができる光偏向素子を提供する。 - 特許庁

A charged particle beam deflection device D is arranged in front of the aberration correction device C, and it is made possible to change an incident direction of the charged particle beam against a multipole at a first step of the aberration correction device C.例文帳に追加

収差補正装置Ｃの前方に荷電粒子線の偏向器Ｄを設け、収差補正装置Ｃの一段目の多極子に対する荷電粒子線の入射方向を変えることを可能とする。 - 特許庁

To reduce influence of space charge and generation of deflection aberration by reducing optical path length of an electron optical system.例文帳に追加

空間電荷効果の影響を電子光学系の光路長を短くして、空間電荷の影響及び偏向収差の発生を低減する - 特許庁

To provide a deflection yoke device having a dynamic convergence correcting coil and a coma-aberration correcting coil, sharing a magnetic pole or magnetic axis, but less liable to interfere with each other.例文帳に追加

磁極、または磁軸が共通するダイナミックコンバーゼンス補正コイルとコマ収差補正コイルの干渉が少ない偏向ヨーク装置を得る。 - 特許庁

To effectively correct degradation in scanning line deflection and wave front aberration in an optical scanner of an oblique incidence system suitable for low cost, low power consumption and downsizing.例文帳に追加

低コスト，低消費電力，小型化に適した斜入射方式の光走査装置における走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正する。 - 特許庁

To provide a deflector array for alleviating deflection aberration of a charged beam exposure device, an exposure device equipped with the deflector array, and a device manufacturing method.例文帳に追加

荷電ビーム露光装置の偏向収差を低減する偏向器アレイ、その偏向器アレイを有する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an observation device eliminating a deflection aberration of a lens system for providing a clear image as to an observation device photographing a sample via a lens system.例文帳に追加

レンズ系を介して試料を撮像する観察装置に関し、レンズ系の歪曲収差を除去し、鮮明な画像を取得することができる観察装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that coma aberration affects the spot shape of an electron beam and distorts the spot shape when a distortion of an image on a projecting screen is corrected by using a sub deflection yoke.例文帳に追加

投影スクリーン上での画像の歪みをサブ偏向ヨークを用いて補正する場合にコマ収差の影響で電子ビームのスポット形状が歪んでしまう。 - 特許庁

To provide a spherical aberration correction device with improved correction accuracy of each component through adjustment of a dynamic range of deflection components, while suppressing fluctuation of electron beams.例文帳に追加

偏向成分のダイナミックレンジを調整し、電子線のふらつきを押さえながらも、各成分の補正精度を向上することができる球面収差補正装置を提供する。 - 特許庁

Changing the ray deflection action of the variable mirror 409 together with revision of an object range corresponding to the image in use optimizes the aberration of the imaging optical system 301.例文帳に追加

利用する像に対応する物体範囲の変更と共に可変ミラー４０９の光線偏向作用を変化させて、撮像光学系３０１の収差を最適化する。 - 特許庁

To provide a highly accurate method of controlling electron beam exposure where optical aberration or an electron beam shape dimensional error due to deflection is corrected, and its electron beam exposure apparatus.例文帳に追加

偏向による光学収差ぼけや電子ビーム形状寸法誤差を補正した高精度の電子ビーム露光制御方法とその電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

To improve operability of spherical aberration coefficient C_S correction by easily correcting a deflection component accompanying generation of three astigmatic component, a two astigmatic component and four astigmatic component, and therefore, very easily operating spherical aberration coefficient C_S correction.例文帳に追加

３回非点成分の生成に伴う偏向成分、２回非点成分、４回非点成分を容易に補正し、よって球面収差係数Ｃ_ｓ補正を行う操作を非常に容易に行い、球面収差係数Ｃ_ｓの操作性を向上する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam apparatus which does not make an electrode inside diameter too small and a deflection voltage too high and can decide a beam incident position on an objective lens image surface and rectify a deflecting coma aberration and a deflecting color aberration simultaneously.例文帳に追加

電極内径を小さくしすぎることなく、また偏向電圧を高くしすぎることなく、対物レンズ像面におけるビーム入射位置を決定しつつ偏向コマ収差と偏向色収差を同時に補正することのできる荷電粒子ビーム装置を提供する。 - 特許庁

As described above, it is made possible to reduce easily the aberration as the whole optical system by defining a deflection orbit at the time of projecting the subfield 3 in the position distant from the optical axis.例文帳に追加

このように偏向軌道を定めることにより、光軸から離れた位置にあるサブフィールド３を投影するときの、光学系全体としての収差を容易に低減することができる。 - 特許庁

To provide a supplemental function for a spherical aberration correction optical system 5, simply deciding a control parameter at any time while canceling a deflection field and quadrupole field of a multipolar field generating device.例文帳に追加

球面収差補正光学系５において、装置の偏向場や４極子場を打ち消しながら、制御パラメータの決定を随時、簡便に行うための補助機能を提供する。 - 特許庁

To provide a light beam deflector which is manufactured at low cost by furnishing a simply structured wavefront aberration correcting means on a prism member having a reflection face which reflects a focused beam for deflection scanning.例文帳に追加

偏向走査を行うため集光ビームを反射させる反射面を持つプリズム部材に簡素な構成の波面収差補正手段を施して廉価に製造可能な光ビーム偏向器を提供する。 - 特許庁

A pair of coma aberration correcting coil devices 60 in each of which coils are wound around a substantially U-shaped core are vertically disposed closer to the electron gun 16 side than to a deflection coil 34 with the horizontal plane held in between.例文帳に追加

略Ｕ字状のコアにコイルが巻装された一対のコマ収差補正コイル装置６０が垂直偏向コイル３４よりも電子銃１６側に水平方向面を挟んで上下に配置される。 - 特許庁

To provide a control method of charged particles in which the shading by optical aberration can be minimized at the time the charged particle beams such as electron beams are deflection controlled, and its device as well as an electron beam lithography device.例文帳に追加

電子ビーム等の荷電粒子ビームを偏向制御した際に、光学収差によるぼけを小さくできる荷電粒子の制御方法とその装置ならびに電子ビーム描画装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain an optical scanner which effectively corrects degradation of scanning line deflection and wave front aberration in an oblique incidence system, and which permits low power consumption by enabling downsizing and slowing an optical deflector, and to obtain an image forming apparatus using the optical scanner.例文帳に追加

斜め入射方式において、走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正し、また、光偏向器の小型化、低速化を可能にして低消費電力を可能にする光走査装置およびこれを用いた画像形成装置を得る。 - 特許庁

To suppress a deterioration of aberration compensation as much as possible which is caused by the deflection, etc., of the direction of an optical axis of an expander lens or an angle of the optical axis when the position of the expander lens is adjusted, while not excessively increasing a driving load for the expander lens.例文帳に追加

エキスパンダーレンズの駆動負荷を必要以上に増やすことなく、かつ、エキスパンターレンズの位置調整に際して、エキスパンダーレンズの光軸方向や光軸の角度が振れてしまうことなどによる、収差補正の劣化を可及的に抑止できるようにすること。 - 特許庁

To provide a deflector forming a storing deflection field with small current which is stable against the temperature variation, slightly affected by eddy current, with small aberration depending on a geometric accuracy of a coil and a core, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

小電流でも強い偏向場を供給し、しかも温度変化に対しても安定な偏向場を作ることができ、更には渦電流の影響も少なく、コイル及びコアの幾何学的精度による収差も少ない偏向器及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device which is capable of reducing a change of the image magnification or rotation of an image caused by a focal correction to a minimum and also decreasing deflection aberration to a minimum when an astigmatic correction and a focal correction are superimposed on a deflector and carrying out a lithography operation with high accuracy.例文帳に追加

偏向器に非点補正と焦点補正を重畳した場合に、焦点補正による像倍率変化や像回転が最小になり、かつ、偏向収差も最小にして高精度な描画を行うことが可能な電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

The telescope is provided with an off-axis projected spherical surface reflector and a reflection/refraction optical element combined by off-axis, and is generally known as a Mangin mirror 206, a first refraction surface and a reflection rear surface are arranged and an aberration derived by the off-axis deflection of a beam 202 is cancelled.例文帳に追加

オフアクシス凸状球面反射器と、オフアクシスで組み合わされた反射／屈折光学素子とを有し、一般にマンジャンミラー２０６として知られ、屈折第１面及び反射裏面とを備え、ビーム２０２のオフアクシス偏向によって導き出される収差を相殺する。 - 特許庁

A pair of coma aberration correction coils and a pair of YH correction coils are arranged in upper and lower portions on an electron gun side relative to a ferrite core, and a pair of vertical auxiliary coils generating a magnetic field in the same direction as that of a vertical deflection magnetic field are arranged in right and left portions on the electron gun side relative to the ferrite core.例文帳に追加

一対のコマ収差補正コイル及び一対のＹＨ補正コイルがフェライトコアより電子銃側に上下に配置されており、垂直偏向磁界と同じ方向の磁界を発生する一対の垂直補助コイルがフェライトコアより電子銃側に左右に配置されている。 - 特許庁

By arranging the deflection device D, it becomes unnecessary to change an acceleration voltage, or re-adjust the position of a diaphragm 33 even if excitation of convergence lens is changed in order to change an irradiation current, therefore, it becomes unnecessary to re-adjust shift of the axis of the aberration correction device.例文帳に追加

偏向器Ｄを設けたことにより、加速電圧を変更したり、照射電流を変えるために集束レンズの励磁を変更しても対物レンズ絞り33の位置を再調整する必要が無いので、収差補正装置Ｃの軸ずれ補正をやり直す必要が無くなる。 - 特許庁

On the charged particle beam column comprising an aberration correction device 10, a convergent charged particle beam is formed, slanted against a sample 18 face in large angles by controlling an incident direction of the beams incident on a second condenser lens 7 without moving an object point of the condenser lens by using a deflection device 51, and also without moving an object point of an objective lens 17 located on a beam axis.例文帳に追加

収差補正器１０を含む荷電粒子ビームカラムにおいて、偏向器５１を用いてコンデンサーレンズの物点を動かすことなく、ビームの第２コンデンサーレンズ７への入射方向を制御することにより、光軸上にある対物レンズ１７の物点を動かすことなく、試料１８面に対し大角度で傾斜した収束荷電粒子線ビームを形成する。 - 特許庁