| 例文 (58件) |
diffraction correctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 58件
A central area 503a of a second diffraction plane 503 corresponds to a NA 0.65 of the HD system 117, and transmits the first luminous flux to be condensed on the BD system, diffracting the first luminous flux for aberration correction of the HD system, forming a dual focusing lens together with the objective lens 106 to obtain good spots.例文帳に追加
第２の回折面５０３の中心領域５０３ａは、ＨＤ系１１７のＮＡ０．６５に相当し、第１の光束を透過しＢＤ系に集光、ＨＤ系を収差補正するため回折し、対物レンズ１０６と合わせ２焦点レンズとし、良好なスポットを得る。 - 特許庁
An electrostatic latent image measurement apparatus comprises an electron gun 11, a light source 100, an acousto-optic deflection element 103, a polygon mirror 105, a second electron detector 24 and correction means which corrects the effect of changed drive frequency of the acousto-optic deflection element 103 on diffraction.例文帳に追加
電子銃１１と、光源１００と、音響光学偏向素子１０３と、ポリゴンミラー１０５と、２次電子検出器２４と、音響光学偏向素子１０３の駆動周波数の変化が回折に与える影響を補正する補正手段と、を備えた静電潜像計測装置。 - 特許庁
To provide a diffraction grating which is easily manufactured without reducing the size of the grating, to provide an optical scanner having such effects as a chromatic aberration correction and a temperature compensation even when a light source of a short wavelength of ≤500nm is used and to provide an image forming apparatus using the optical scanner.例文帳に追加
本発明の目的は、格子のサイズを小さくすることなく、製造が容易な回折格子を提供し、５００ｎｍ以下の短波長光源を使用した場合においても、色収差補正や温度補償などの効果を有する光走査装置及びそれを用いた画像形成装置の提供することにある。 - 特許庁
An objective lens OB is subjected to aberration correction to exhibit good aberration performance when the blue laser beam LB is used, and respective coefficients of the phase function of diffraction grating surfaces provided in the wave surface conversion element WC are set to desired values, thereby realizing the optical pickup coping with three different wavelengths and substrate thicknesses.例文帳に追加
対物レンズ(OB)は、青色レーザー光(LB)を用いる場合に良好な収差性能となるように収差補正がなされており、波面変換素子(WC)に設けられた回折格子面の位相関数の各係数を所望の値とすることで異なる３つの波長及び基板厚に対応した光ピックアップ系になる。 - 特許庁
Emitted light from the three semiconductor laser light sources is made to be substantially a parallel light by a collimator lens, optical axis deviations of the passed luminous fluxes generated due to the deviation of positions of the light sources are corrected by an optical axis correction element 601 and the luminous fluxes are condensed on an optical recording medium via a diffraction grating, a polarization beam splitter, an objective lens and the like.例文帳に追加
３つの半導体レーザ光源からの出射光は、それぞれコリメートレンズで略平行光にされ通過した光束は、光軸補正素子６０１にて光源の位置ずれで発生の光軸ずれを補正し、回折格子，偏光ビームスプリッタ，対物レンズ等を介して光記録媒体に集光される。 - 特許庁
The array waveguide diffraction grating type optical multiplexer/demultiplexer includes, on a silicon substrate: an input/output channel waveguide; an input/output slab waveguide; an array waveguide composed of a plurality of channel waveguides; and a groove which is formed by removing a part of the clad and the core of the input/output slab waveguide and filled by the refractive index correction resin.例文帳に追加
シリコン基板上に入出力チャネル導波路と、入出力スラブ導波路と、複数のチャネル導波路からなるアレイ導波路と、入出力スラブ導波路のクラッド及びコアの一部を除去して形成され、屈折率補償樹脂が充填される溝を備えることを特徴とする。 - 特許庁
The mechanical strength of the diffraction grating 8 is improved, and aberration measurement accuracy is improved, by forming a protective layer 22 adjusting a refractive index and thickness on the diffractive grating 8; and furthermore, the device composition can be significantly simplified and stable lens measurements in with stabilized accuracy can be achieved by possessing spherical aberration correction mechanism using a refractive index difference of the protective layer 22.例文帳に追加
回折格子８上に屈折率と厚みを調整した保護層２２を形成することにより、回折格子８の機械的強度を向上するとともに、収差測定精度を向上させ、さらに保護層２２の屈折率差を利用した球面収差補正機能を持たせることで、装置構成を大幅に簡略化することを可能とし、精度が安定したレンズ測定が実現できる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffractive optical element which permits the shape correction of a metal mold based on the measured shape of a base surface in the method for manufacturing the diffractive optical element formed with the diffraction gratings defined by a phase function on a continuous surface, i.e. a plane, spherical surface or aspherical surface, as a base surface.例文帳に追加
連続面である平面、球面あるいは非球面をベース面として、そのベース面上に、位相関数により定義される回折格子が形成される回折光学素子の製造方法において、ベース面の測定形状に基づいて金型の形状修正が可能な回折光学素子の製造方法、およびそれにより製造される回折光学素子を提供すること。 - 特許庁
| 例文 (58件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|