例文 (58件) |
diffraction correctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 58件
DIFFRACTION ABERRATION CORRECTION DEVICE OF ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子ビームの回折収差補正装置 - 特許庁
ANGLE CORRECTION METHOD IN X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT AND X-RAY DIFFRACTION SYSTEM例文帳に追加
X線回折測定における角度補正方法及びX線回折装置 - 特許庁
A diffraction type liquid crystal lens is used as aberration correction means.例文帳に追加
収差補正手段として回折型液晶レンズを用いる。 - 特許庁
The plurality of grooves of this convex diffraction grating 100 provide correction for field aberrations.例文帳に追加
この凸面格子100の複数の溝がフィールド収差を補正する。 - 特許庁
Further, the optical unit for the chromatic aberration correction is provided with a diffraction plane and is designed such that the diffraction order of the second luminous flux having the maximum diffraction efficiency is lower than the diffraction order of the first luminous flux.例文帳に追加
また、色収差補正用光学ユニットが回折面を有し、最大の回折効率を有する第2光束の回折次数が、第1光束の回折次数より低くなるように設計される。 - 特許庁
To actualize an array waveguide diffraction grating element capable of easily realizing wavelength correction.例文帳に追加
波長補正を簡易に実現することのできるアレイ導波路回折格子素子を実現すること。 - 特許庁
INTENSITY CORRECTION AT OBLIQUE INCIDENCE TO DETECTOR OF DIFFRACTION X-RAY IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加
X線構造解析における回折X線の検出器への斜め入射時の強度補正 - 特許庁
The diffraction correction part 100 uses only a part of signal components composing an image as a diffraction correction processing target to accelerate processing as compared with processing all signal components as targets.例文帳に追加
回折補正部100は、画像を構成する信号成分の一部のみを回折補正処理の対象とすることで、全信号成分を対象として処理する場合よりも処理の高速化を図る。 - 特許庁
A diffraction structure for chromatic difference of magnification correction is formed on the rear surface of the diffracting element 16.例文帳に追加
この回折素子16の後面には、倍率色収差補正用の回折構造が形成されている。 - 特許庁
When a pixel at the estimated position contains a color tone component of the diffraction ghost image, it is regarded that the diffraction ghost image is being generated, thereby correction processing is performed (S108).例文帳に追加
そして、推定位置における画素が、回折ゴースト像の色味成分を有している場合、回折ゴースト像が発生しているものとして、補正処理を行う(S108)。 - 特許庁
A diffraction grating is formed in the optical path correction body 4 by engraving grooves (grating grooves) 4A onto the surface of the transparent plate.例文帳に追加
光路補正体4は、透明な板の表面に溝(格子溝)4aを切ることで回折格子を形成してなる。 - 特許庁
ANTIHALATION FILTER, IMAGE ANALYZING DEVICE EQUIPPED WITH THE ANTIHALATION FILTER, DIFFRACTION DIAGRAM STRENGTH ANALYZING METHOD USING THE ANTIHALATION FILTER, AND CORRECTION PROGRAM FOR THE DIFFRACTION DIAGRAM STRENGTH例文帳に追加
ハレーション防止フィルター、当該ハレーション防止フィルターを備える画像解析装置、当該ハレーション防止フィルターを用いる回折図形強度解析方法および当該回折図形強度補正プログラム - 特許庁
The phase correcting element 13B has phase correction areas Z1 to Z4 of a false kinoform-shaped diffraction optical structure of a staircase structure, spherical aberration correction is applied to B at Z1 and Z3, and spherical aberration correction is applied to C at Z2 and Z4.例文帳に追加
位相補正素子13B は階段構造の擬似キノフォーム形の回折光学構造の位相補正領域Z1乃至Z4を有し、Z1、Z3でBに対し球面収差補正をし、Z2、Z4でCに対し球面収差補正をする。 - 特許庁
A tilt correction amount of each color is calculated from a detected color shift amount, and a pulse motor for tilt correction drive is driven according to the calculated tilt correction amount, so that operations for the correction of the tilt amount of a diffraction lens in each laser scanning unit can be performed selectively from one color after another.例文帳に追加
検出した色ずれ量から各色の傾き補正量を算出し、算出された傾き補正量に応じて傾き補正駆動用パルスモーターを駆動して各レーザー走査ユニット内の回折レンズの傾き量の補正動作を、一色毎に選択的に行う。 - 特許庁
To suppress the generation quantity of aberration small even when a diffraction element for chromatic aberration correction is slanted to the optical axis of a scanning lens.例文帳に追加
色収差補正用の回折素子を走査レンズの光軸に対して傾けた場合にも、収差の発生量を小さく抑えること。 - 特許庁
An outside shape of an aberration correction element 501 is a circular shape same as a boundary of a diffraction area 502a and a flat part 502b.例文帳に追加
収差補正素子501の外形形状を、回折領域502aと平坦部502bとの境界と同様の円形状とする。 - 特許庁
To manufacture a lens molding die capable of forming a diffraction structure for aberration correction in an optical lens without causing deterioration of diffraction efficiency or deterioration of a product value, and an optical element molding die for an optical aberration correction element or the like by using drawing by the electron beam drawing device.例文帳に追加
回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。 - 特許庁
To realize an array waveguide diffraction grating element capable of easily performing a wavelength correction, its manufacturing method, an array waveguide module using an array waveguide diffraction grating element and an optical communication system.例文帳に追加
波長補正を簡易に実現することのできるアレイ導波路回折格子素子、その製造方法、このようなアレイ導波路回折格子素子を使用したアレイ導波路モジュールおよび光通信システムを実現すること。 - 特許庁
This extent of movement of an extent of correction which is obtained by setting the center of turning of the diffraction optical element 28 to the right end and performing calculation in the same manner.例文帳に追加
この移動量が回折光学素子28の回動中心を右端に設定して同様に算出して得られる補正量である。 - 特許庁
To improve analysis efficiency when X-ray diffraction quantitative analysis of many samples is performed using a base standard absorption correction method.例文帳に追加
多数の試料について基底標準吸収補正法を用いたX線回折定量分析を行う場合の分析効率を向上させる。 - 特許庁
Then, the diffraction spot image after the correction is inversely Fourier-transformed into an image of the real space, the scale is converted into an inverse number, and it is set as a scale of the real space.例文帳に追加
そして、補正後の回折スポット像を逆フーリエ変換して実空間の画像とするとともに、スケールを逆数に変換して実空間のスケールとする。 - 特許庁
The first optical correction element 11 and the second optical correction element 13 incline a first laser beam 25 by diffraction, and transmit a second laser beam 27 and a third laser beam 29 without being inclined.例文帳に追加
第1光学補正素子11および第2光学補正素子13は、第1レーザー光25を回折させることで傾斜させる一方、第2レーザー光27および第3レーザー光29は傾斜させずにそのまま透過させる。 - 特許庁
Then, the refraction part of the diffraction optical element OE corrects an aberration component obtained by compositing the aberration component of the design reference wavelength of the diffraction optical element OE displaced with the correction and the aberration component of the design reference wavelength of the dioptric element RE.例文帳に追加
そして、回折光学素子OEの屈折部は、補正に伴って変位した回折光学素子OEの設計基準波長の収差成分と屈折光学素子REの設計基準波長の収差成分を合成した収差成分を補正する。 - 特許庁
A white light from a light source 1 is made incident on a concave diffraction grating 8 via a heat ray cutting filter 3, a sensitivity correction filter 4, a lens 5, a flow cell 6, and a slit 7, and is spectrally dispersed.例文帳に追加
光源1からの白色光は熱線カットフィルタ3、感度補正フィルタ4、レンズ5、フローセル6、スリット7を介して凹面回折格子8に入射し、分光される。 - 特許庁
A diffraction optical element 106 includes two concentric split regions 106b, 106c of an aberration correction function and a region 106a of unnecessary light measure.例文帳に追加
回折光学素子106は収差補正機能の同心円状に分割された2つの領域106b,106cと不要光対策の領域106aを有する。 - 特許庁
To provide an array waveguide diffraction grating type optical multiplexer/demultiplexer in which the refractive index of a refractive index correction resin is increased by applying pressure on the refractive index correction resin which is filled in a groove according to the variation in ambient temperature.例文帳に追加
周囲温度の変化に応じて、溝に充填された屈折率補償樹脂に圧力を加えることで、屈折率補償樹脂の屈折率を増加させるアレイ導波路回折格子型光合分波器を提供することを目的とする。 - 特許庁
By limiting a processing object only to a part of signal components composing an image, the diffraction correction section 100 performs a processing at a higher speed than in a processing of all the signal components.例文帳に追加
回折補正部100は、画像を構成する信号成分の一部のみを処理対象とすることで全信号成分を対象として処理するよりも高速処理にする。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography capable of performing correction of canceling working errors accumulated in other processes and plotting a diffraction structure by which a prescribed optical performance is obtained.例文帳に追加
他工程にて蓄積した加工誤差を解消する補正を行い、所定の光学的性能が得られる回折構造を描画することができる電子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁
A diffraction lens structure having such wavelength dependence as to make spherical aberrations insufficient in correction with an increase in the wavelength is formed on the one lens surface of the objective lens 20.例文帳に追加
対物レンズ20の一方のレンズ面には、波長が長くなるにしたがって球面収差が補正不足なるような波長依存性を有する回折レンズ構造が形成されている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffraction optical element capable of performing phase correction without adding an etching process and without being subjected to the restriction due to resolution ability of photolithography.例文帳に追加
エッチング工程を追加することなく,また,フォトリソグラフィの解像能力による制限を受けることなく位相補正を行うことの可能な回折光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
This diffraction lens structure has a spherical aberration characteristic so as to change in the direction that a spherical aberration becomes correction shortage when the wavelength of an incident beam is shifted to the long wavelength side.例文帳に追加
この回折レンズ構造は、入射光の波長が長波長側にシフトした際に、球面収差が補正不足となる方向に変化するような球面収差特性を有している。 - 特許庁
To manufacture a lens mold with which a diffraction structure for aberration correction can be formed on the light converging surface side of an optical lens and further an optical element mold for an optical aberration correcting element etc., without decrease in diffraction efficiency nor a decrease in product value by using an electron beam drawing device.例文帳に追加
回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズの集光面側に収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。 - 特許庁
To produce a lens molding die capable of forming a diffraction structure for correcting aberration on an optical lens without causing the reduction in diffraction efficiency and the reduction in a product value, and further, to produce a molding die for an optical element such as an optical aberration correction element using drawing by an electron beam drawing system.例文帳に追加
回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。 - 特許庁
Aberration detection is performed on the basis of diffraction intensity distribution in the reflected luminous flux of the pair of sub-luminous-fluxes from the optical disk 102, and aberration correction is performed by generating aberration being of inverse polarity and the same kind as aberration detected by an aberration correction element 228.例文帳に追加
そして、光ディスク102からの一対の副光束の反射光束における回折強度分布に基づいて収差検出を行い、収差補正素子228により検出された収差と逆極性の同種の収差を発生させて収差補正を行う。 - 特許庁
When measuring a sample, each relational expression corresponding to each rotation angle of the diffraction grating 3 is applied to each slit selected and used from among the band width conversion slits NS, and the center wavelength is corrected by a wavelength correction part 14 which is a wavelength correction means.例文帳に追加
試料測定に際してはバンド幅変換用スリットNSのなかから選択使用される各スリットに対して回折格子3の各回転角に対応する各関係式を適用して波長補正手段である波長補正部14により中心波長を補正する。 - 特許庁
Some diffraction orders are detected by a detector 30 for the purpose of correction, which is used for detecting a wafer table lateral displacement caused by a non-zero Abbe arm or an Abbe arm.例文帳に追加
較正目的で、いくつかの回折次数が検出器30によって検出され、非ゼロのアッベ・アームに起因するウェーハテーブル横方向変位、すなわちアッベ・アームを検出するために用いられる。 - 特許庁
To provide a multiple beam scanning system characterized in that a polygon beam deflector having a minimum facet size is easily used, having a low level bow, diffraction-limit aberration correction, wobble correction and reasonable telecentric characteristic, and further comparatively large operating distance given between an output window and a light receiving body.例文帳に追加
最小ファセットサイズを有するポリゴン・ビーム偏向器の使用を容易にし、かつ低レベルのバウ、回折限界収差補正、ウォブル補正、および合理的な程度のテレセントリック性を特徴とし、さらには比較的大きな作動距離を出力窓と光受容体の間に提供する。 - 特許庁
An image display device 1A includes a diffraction correction part 100 for suppressing influence appearing in image information upon the image information acquired by an imaging apparatus 20 through a plurality of light transmitting parts formed on an image display part 10 due to a diffraction effect of the light transmitting parts by action from the side face of signal processing.例文帳に追加
画像表示装置1Aは、画像表示部10の複数の光透過部を通して撮像装置20により取得された画像情報に対して、光透過部による回折効果によって画像情報に現われる影響を信号処理の側面からの対処により抑制する回折補正部100を備える。 - 特許庁
In the spherical aberration correction element 22 used together with the refraction type objective lens 21 of this composite objective lens, a diffraction lens structure is formed on its one side lens surface 221 as a ring- shaped pattern around an optical axis.例文帳に追加
屈折型対物レンズ21とともに用いられる球面収差補正素子22は、その一方のレンズ面221上に、光軸を中心とした輪帯状のパターンとして回折レンズ構造が形成されている。 - 特許庁
This improved TEM comprises a correction system completely placed between an objective system lens and the phase plate, and uses lenses of the corrector to form a magnified image of a diffraction plane on the phase plate.例文帳に追加
改善されたTEMは、対物系のレンズ及び位相板の間に完全に置かれた補正系を具備すると共に、位相板における回折平面の拡大された像を形成するために補正器のレンズを使用する。 - 特許庁
The coupling optical system 2 is provided with a lens part 2a making a luminous flux emitted from a light source 1 roughly parallel to an optical axis, and the diffraction part 2b of a first means for correcting the color aberration of the entire optical system caused by the wavelength fluctuation of the light source 1 is reduced by the color aberration correction of the diffraction part.例文帳に追加
カップリング光学系2は、光源1から出射した発散光束を光軸に対して略平行な光束にするレンズ部2aと、光学系全体の色収差を補正する第1手段の回折部2bにより構成し、光源1の波長変動で発生する光学系の色収差は、回折部の色収差補正により低減する。 - 特許庁
A first modulation optical system 30 is equipped with a first relay lens system 33, a piezo mirror 34 for the correction for plane tilts, a second relay lens system 35, a diffraction divergence element 31, a condensing lens 36, a multichannel AOM32, and a collimating lens 37.例文帳に追加
第1の変調光学系30は、第1のリレーレンズ系33、面倒れ補正用のピエゾミラー34、第2のリレーレンズ系35、回折分岐素子31、集光レンズ36、マルチチャンネルAOM32、コリメートレンズ37を備える。 - 特許庁
A liquid crystal element 6 for spherical aberration correction is provided with an electrode 66 for diffraction for converting a light beam to diverging light when reproducing a CD and an electrode 67 for phase shift for giving a phase difference to the light beam when reproducing a BD.例文帳に追加
球面収差補正用の液晶素子6は、CD再生時に光ビームを発散光に変換するための回折用電極66と、BD再生時に光ビームに位相差を与えるための位相シフト用電極67とを有する。 - 特許庁
The photon sieve can be used as a pupil defining element in an illumination system; as a field defining element in an illumination system; as a pupil lens element in a projection lens; as a color correction system in a projection system; or as a transmission diffraction element for EUV.例文帳に追加
このフォトンシーブは、照明システムの瞳定義素子として、照明システムのフィールド定義素子として、投影レンズの瞳レンズ素子として、投影システムの色補正システムとして、または、EUVの透過回折素子として、使用することができる。 - 特許庁
In carrying out aberration correction of a STEM device, a standard substrate with Au particles 102 deposited on a single-crystal substrate 101 made of Si is used, and based on electron diffraction images and a Kikuchi pattern, inclination of the standard substrate is adjusted.例文帳に追加
STEM装置の収差補正に際して、Siからなる単結晶基板101上にAuパーティクル102が堆積されてなる標準基板を用い、電子線回折像及び菊池パターンに基づいて、標準基板の傾斜を調節する。 - 特許庁
A scanning optical system applied the multi-beam optical system is composed of a light source 1, a beam expander 2, the diffraction diverging element 3, a correction optical system 4, a convergence mirror 5, a multichannel modulator 6, a collimating lens 7, a polygon mirror 8, an fθ lens 9, and a surface 10 for exposure.例文帳に追加
マルチビーム光学系が適用された走査光学系は、光源1、ビームエクスパンダー2、回折分岐素子3、補正光学系4、収束ミラー5,マルチチャンネル変調器6、コリメートレンズ7、ポリゴンミラー8、fθレンズ9、露光対象面10から、構成されている。 - 特許庁
The optical pickup device is provided with a 3-wavelength laser 101 having three laser elements 101a to 101c of different emitted wavelengths housed in the same casing, and a diffraction-grating 102 for axis correction for making the optical axes of laser beams emitted from laser elements nearly coincident.例文帳に追加
光ピックアップ装置は、出射波長の異なる3つのレーザ素子101a〜101cを同一筺体内に収容した3波長レーザ101と、各レーザ素子から出射されたレーザ光の光軸をほぼ一致させる軸補正用回折格子102を備えている。 - 特許庁
In addition to the application of processing to a video signal by information of only the frequency characteristic of the signal changed by an aperture shape and diffraction of the ND filter in a luminous quantity control section 13, a correction signal generating section 15 interlocks the changed frequency characteristic of the signal with an aperture change to allow an electric circuit to perform inverse correction thereby realizing high image quality with a resolution sense.例文帳に追加
光量制御部13の絞り形状やNDフィルタの回折現象により変化した信号の周波数特性だけの情報で映像信号処理を施すだけでなく、補正信号発生部15によってその変化した信号の周波数特性を絞り変化に連動させて電気回路で逆補正することにより、解像感のある高画質が実現できる。 - 特許庁
A scanning optical system to which this multibeam optical system is applied is constituted by arraying a light source 1, a beam expander 2, the diffraction branching element 3, a converging mirror 4, a correction optical system 5, a multichannel modulator 6, a collimating lens 7, a polygon mirror 8, an fθ lens 9 and an exposure object surface 10.例文帳に追加
マルチビーム光学系が適用された走査光学系は、光源1、ビームエクスパンダー2、回折分岐素子3、収束ミラー4、補正光学系5、マルチチャンネル変調器6、コリメートレンズ7、ポリゴンミラー8、fθレンズ9、露光対象面10が配列して構成されている。 - 特許庁
Besides, because achromatism or the correction of spherical aberration or the like can be performed with a few number of optical elements by bringing out the diffraction effect appropriately by using the difference in level formed on the optical surface of the optical element, the optical element is suitable for an optical pickup device to be miniaturized.例文帳に追加
又、前記光学素子の光学面に形成された段差を用いて回折効果を適切に発揮させれば、少ない数の光学素子で例えば色消しや球面収差補正などを行うことが出来るので、前記光学素子は、コンパクト化を図りたい光ピックアップ装置に好適である。 - 特許庁
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