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evaluation grid methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加
本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン1を含む原画パターン14を設計する工程と、設計された原画パターン14をグリッド90上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド90上に位置づけられたパターンを透明基板11上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク5を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
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