| 例文 (9件) |
edge preservationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
To improve the noise elimination precision and the edge preservation precision even in the case of a wide DR image.例文帳に追加
広ＤＲ画像であってもノイズ除去精度及びエッジ保存精度が良いものにする。 - 特許庁
The preservation cylinder 22 is connected onto a periphery of the cradle 12 at a fixed distance, and has a storage chamber 221 for storing liquid, and also has an injection hole 222 linked to the outside and the storage chamber 221 on the bottom edge of the preservation cylinder 22.例文帳に追加
保存筒２２は、一定の距離で受け台１２の周辺上に連接され、その中に液体を収納するための収納室２２１を有し、保存筒２２の底縁に外界と収納室２２１に繋がる注入孔２２２を有する。 - 特許庁
To provide an image processing device that sets a coefficient of an edge preservation type smoothing filter based on statistical information relating to brightness, and prevents increase in circuit size and processing time.例文帳に追加
輝度に関する統計情報に基づいてエッジ保存型平滑化フィルターの係数を設定し、回路規模と処理時間を増大させない画像処理装置等を提供できる。 - 特許庁
To provide a tubular container wherein a connected section between the pripheral edge section of a shoulder section and a tube main body is prevented from becoming thinner, and the preservation stability of a content and the strength of the container can be improved.例文帳に追加
肩部の周縁部とチューブ本体との接続部が薄肉にならないようにして内容物の保存安定性や容器の強度を向上できるチューブ容器を提供する。 - 特許庁
To provide photomask blanks which is highly sensitive and excellent in preservation stability and a photomask made by using the photomask blanks high in resolution and excellent in linearity of the image edge part.例文帳に追加
高感度であり且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供すること。 - 特許庁
To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.例文帳に追加
有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation, giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts.例文帳に追加
優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。 - 特許庁
To provide an edge bead remover having an excellent resist dissolution rate, low toxicity and very high safety, excellent also in environmental preservation giving out little unpleasant odor, having a relatively high boiling point and good operability, forming no residue or deposit and capable of efficiently producing a high-grade substrate for the production of electronic parts.例文帳に追加
優れたレジスト溶解速度を有し、低毒性で極めて安全性が高く、環境保全にも優れ、不快臭も極めて少なく、比較的高沸点で操作性が良好であり、残さや析出物を生じることがなく、高品位の電子部品製造用基材を高効率で製造することができるエッジビードリムーバを提供する。 - 特許庁
To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加
レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
| 例文 (9件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|