「elution profile」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a centrifugal flow granulation method for producing medical granules containing a bioactive substance, which reduces the variability in elution profile of the principal agent from the granules.例文帳に追加

生理活性物質を含有する顆粒からの主薬の溶出プロファイルのばらつきの改善主薬顆粒の遠心流動造粒方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a favorable profile by preventing elution of an acid generating agent from a resist film into a liquid used for immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液体にレジスト膜からの酸発生剤の溶出を防止できるようにして、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a resist protective film for forming a protective film that does not have affinity with respect to an immersion liquid, can suppress the elution of low-molecular weight components from a resist layer or swelling in a resist film, can be removed easily in a process of alkali development after exposure, and can provide a preferable pattern profile.例文帳に追加

液浸液に対しては親和性を有さず、レジスト層からの低分子成分の溶出やレジスト膜の膨潤を抑制することができるとともに、露光後のアルカリ現像のプロセスで容易に除去でき、良好なパターンプロファイルを得ることができる保護膜を形成できるレジスト保護膜形成用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁