「fine resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The compound containing the phenol substituent expressed by formula 1 constitutes a resist composition together with a photo acid generator, and provides the resist composition excellent in sensitivity, resolution and line edge roughness while capable of drawing a super fine pattern.例文帳に追加

式１で表されるフェノール置換基を含む化合物は、光酸発生剤と共にレジスト組成物を構成し、超微細パターンの描画が可能でありながらも、感度、解像度、およびラインエッジラフネスに優れたレジスト組成物。 - 特許庁

Article 63-2-6 A person who has suspended or terminated the whole or part of Dispute Resolution, etc. without obtaining the authorization set forth in Article 52-83, paragraph (1) shall be punished by a fine of not more than 500,000 yen. 例文帳に追加

第六十三条の二の六　第五十二条の八十三第一項の認可を受けないで紛争解決等業務の全部若しくは一部の休止又は廃止をした者は、五十万円以下の罰金に処する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a fine patterning method for a semiconductor element by which a problem that critical dimension (CD) becomes poor by superimposition is eliminated to form a pattern finer than resolution of an exposure process.例文帳に追加

本発明は、重畳(overlay)により臨界寸法(Critical Demension; ＣＤ)が不良になる問題を除去し、露光工程の解像度より微細なパターンを形成することができる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By this constitution, projection data almost twice the number of views obtained by one rotation can be obtained at fine angular intervals and the reconstitution of images is performed on the basis of the projection data to obtain the tomographic image of high resolution.例文帳に追加

これにより、１回転で得るビュー数の略２倍の投影データが細かい角度間隔で得られ、この投影データを基に画像再構成を行うことにより、解像度の高い断層画像を得ることができる。 - 特許庁

To facilitate peeling of fastened toners by lessening the fastening of the toners to a transfer belt and to make it possible to obtain images of a high gradation and high resolution by improving the fine line reproducibility and gradation characteristic in image formation.例文帳に追加

転写ベルトへのトナーの固着を低減し、固着したトナーの剥離を容易にするとともに、画像形成の際の細線再現性や階調性を改善し、高階調・高解像度の画像を得ることを可能とする。 - 特許庁

When the fine particles of the tungstic oxide or the tungstic oxide composite material having a superior photocatalyst performance are used under radiation of a visible light, a decomposition property of organic matter contamination, a gas resolution property and an antibacterial/bacteria elimination property can be added thereto.例文帳に追加

可視光照射下において光触媒性能に優れる酸化タングステンまたは酸化タングステン複合材の微粒子を用いた場合には、有機物汚れやガス分解、抗菌・除菌性能を付加することができる。 - 特許庁

To realize highly precise temperature control by enabling fine capacity control by improving control resolution, in a freezing device for controlling the capacity of a compressor by controlling the frequency output of an inverter to a plurality of stages.例文帳に追加

インバータの周波数出力を複数段に制御して圧縮機の容量を制御する冷凍装置において、制御分解能を向上させて微小な能力制御を可能とすることによって、高精度な温度制御を実現させる。 - 特許庁

To provide a device attaching a material to be attached (a material to be loaded) into an extremely fine (acute) dot or line on an electrophoresis gel so as to provide an electrophoresis pattern of high resolution in an electrophoresis method.例文帳に追加

電気泳動法において、高い解像度の電気泳動パターンを得るために、被着物（被点着物）を、きわめて細かい（鋭い）点状もしくは線状に、特に電気泳動ゲル上に被着せしめることができる装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored alkali developing photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, developing, and adhesiveness, and can form a fine pattern with precision, and a color filter using it.例文帳に追加

感度、解像度、現像性、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern that can reduce the number of processes, can prevent melting of a first resist film in depositing a second resist film, and can form fine openings having a size equal to or less than the resolution of an exposure device.例文帳に追加

工程数を削減でき、第２のレジスト膜を成膜する際の第１のレジスト膜の溶解を防止できるとともに、露光装置の解像度以下の微細な開口部を形成できるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

解像性に優れ、矩形性が良好な微細パターンを形成でき、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物等の提供。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging element which can satisfy a required wide clamp adjustment range and fine clamp resolution while suppressing increase of a circuit area, and suppressing variation of a clamp level in a moving image, and a camera system.例文帳に追加

回路面積の増大を抑止しつつ、必要とされる広いクランプ調整レンジと、細かいクランプ分解能を満足することができ、動画中のクランプレベルの変動を抑えることが可能な固体撮像素子およびカメラシステムを提供する。 - 特許庁

To provide rotational speed feedback control with accuracy and good responsiveness even in a system in which the resolution of an output voltage is rough and the fine regulation of the rotational speed cannot be performed and to prevent a cost rise required when an apparatus is constituted.例文帳に追加

出力電圧の分解能が粗く、回転数の微調節ができないようなシステムにおいても、正確で応答性の良い回転数フィードバック制御を提供するとともに、装置を構成する際に要するコストアップを防止する。 - 特許庁

To provide a newsprint paper for cold offset printing which solves the trouble of poor resolution in cold offset printing with a penetration drying ink in multicolor fine color printing, and has good printability and color printing quality.例文帳に追加

多色カラー高品位印刷方式における浸透乾燥性インキを用いたコールドオフセット印刷時のガサツキトラブルを改善し、しかも良好な印刷作業性及びカラー印刷品質を有するコールドオフセット用新聞印刷用紙を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance and capable of accurately forming a fine pattern, and a color filter using the alkali developable colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin layered product which retains excellent resolution and adhesion of a resist pattern and suppresses intrusion of air when laminated on a substrate, accordingly, being suitable for use in production of a fine conductor pattern.例文帳に追加

レジストパターンの優れた解像度および密着性を維持し、かつ感光性樹脂積層体を基板にラミネートする際のラミエアーを抑制し、もって微細な導体パターンの製造に適した感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

Because of micro-area high-speed scanning by means of the cylindrical piezoelectric element 2 for fine movement and high-speed scanning area position adjustment by means of the cylindrical piezoelectric element 1 for coarse movement, the sample 3 can, be scanned at a high speed with high resolution.例文帳に追加

この微動円筒型圧電素子２による微小領域の高速走査と、粗動用円筒型圧電素子１の高速走査領域の位置調整により、試料３を高速に、かつ高分解能に走査することが可能となる。 - 特許庁

Since the motor is drive-controlled with 2-2 phase excitation when the paper is supplied/discharged, and when recording action of low resolution is operated, the time required for recording is reduced by feeding the paper at high speed, when fine feeding of the paper is unnecessary.例文帳に追加

また、用紙の給排紙時及び低解像度の記録動作時には、モータが２−２相励磁で駆動制御されるので、微少な紙送りが必要でないときには用紙送りが高速に行われ、記録に要する時間が削減される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate which excels in sensitivity, resolution and adhesion and makes it possible to form fine patterns on a substrate to be processed in a good yield as a mask material for sandblasting, and to provide a surface sandblasting method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a turning stage device capable of restraining the angular vibration or the fine movement at a stop position of a turning stage on which a member such as a telephotographic lens is fixed and improving resolution accuracy at the repeated stop position of the turning stage.例文帳に追加

望遠レンズ等の部材が固定される旋回ステージの角振動や停止位置での微小移動を抑制して、旋回ステージの繰り返し停止位置の分解精度を向上させることができる旋回ステージ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method which improves higher resolution, realizes a higher throughput and also provides an exposure apparatus, an X-ray mask, a resist, and a semiconductor device and a fine structure by using these.例文帳に追加

従来よりも高解像度化を図ると同時に高いスループットを実現することが可能な露光方法、露光装置、Ｘ線マスク、レジスト、さらにこれらを用いて製造される半導体装置および微細構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent sensitivity, resolution and adhesion property as a mask material for sand blasting with which a fine pattern can be worked with high yield in a base material to be worked, and to provide a method of sand blast surface working by using the laminate.例文帳に追加

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Article 67 A person who has, in violation of Article 52-77, used any term in its name or trade name that is likely to mislead people to understand that said person is a Designated Dispute Resolution Organization shall be punished by a non-criminal fine of not more than 100,000 yen. 例文帳に追加

第六十七条　第五十二条の七十七の規定に違反してその名称又は商号中に、指定紛争解決機関と誤認されるおそれのある文字を使用した者は、十万円以下の過料に処する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a resist pattern forming material capable of giving a high resolution resist pattern adaptable to a fine pattern which is required when a semiconductor device is manufactured by a via first dual damascene method and producing no resist residue.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に要求される微細パターンに対応可能な高解像性のレジストパターンを与えることができ、しかもレジスト残りを生じないレジストパターン形成材料を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration in measurement accuracy because of fluctuation of intensity of spectra on a light source side in measurement of a fine spectral structure of an atmospheric material and absorption spectra with various intensity by means of a spectrometer having limited spectrum resolution.例文帳に追加

大気物質などのスペクトルの細かい構造や強弱がある吸収スペクトルを有限の分光分解能を有する分光計で観測する場合、光源側の分光スペクトルにも強弱があると、測定精度が低下する。 - 特許庁

A lattice pattern having fine resolution features reaching the limit of optical exposure is obtained rapidly by utilizing high dissolubility to developer of multi-exposed parts 10 and non-dissolubility to developer of the non-exposed parts 13.例文帳に追加

多重露光部１０の現像液への高い溶解特性、または非感光部１３の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve problems that a step of arraying a first mask step and a second mask step is not easy and a defect is caused when a double patterning step for overcoming the limit of resolution of exposure equipment is performed in a fine pattern forming method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターン形成方法に関し、露光装備の解像度の限界を克服するため二重パターニング(Double Patterning)工程を行うことにおいて、第1マスク工程と第2マスク工程を整列する工程が容易でなく不良が発生する。 - 特許庁

Since the mask areas 11 and 12 are exposed to the electron beams EB which are narrowed in the direction with the image resolution of the patterns P1 and P2 required therein namely, in the widthwise directions of the patterns, a fine pattern can be formed even when a large beam current having a noticeable coulomb effect is used.例文帳に追加

このように、パターンの解像度の要求される方向、すなわちパターンの幅方向に絞った電子線ＥＢで露光することにより、クーロン効果が顕著な大ビーム電流によっても微細なパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a device for producing a three-dimensional structure, which can easily produce the fine three-dimensional structure having spatial resolution in a micrometer scale by exposure only once by using an extremely compact device composed of a light source and an original picture body.例文帳に追加

光源と原画体とからなる非常にコンパクトな装置を用いて、わずか１回の露光で、マイクロメートルスケールの空間分解能を有する微細な三次元構造物を容易に作製することのできる三次元構造物作製装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain an aligner using EUV light, or the like, in which variation of EUV emission intensity due to temperature variation of a light source, or dimensional variation of a fine pattern and lowering of resolution incident thereto can be prevented while sustaining a long lifetime of a multilayer film mirror.例文帳に追加

ＥＵＶ光等を用いた露光装置において、多層膜ミラーの寿命を長く保ちながら、光源の温度変動に起因するＥＵＶ発光強度の変動やそれに伴う微細なパターンの寸法変化及び解像度低下などを防止する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive working resist composition which generates no resist residue when a semiconductor device is produced by a via first dual damascene method and can give a high resolution resist pattern capable of corresponding to a required fine pattern.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に、レジスト残りを生じず、要求される、微細パターンに対応可能な高解像性のレジストパターンを与えることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To achieve, in real time, a smooth simulated view video in accordance with arbitrary running speed including low-speed running, a simulated view video of a landscape in twilight or at night and of a road face and the like illuminated by headlights, and a simulated view video of high resolution based on a fine video.例文帳に追加

低速走行を含む任意の走行速度に応じて滑らかな、また、薄暮や夜の風景及び前照灯に照明された路面等の模擬視界映像、さらに、精細な映像をもとに、高い解像度をリアルタイムに実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element having an arrangement structure capable of high density patterning with ultra-fine width and interval by utilizing a pattern of expressible size in a resolution limit of a photolithographic process, and to provide a patterning method of the semiconductor element.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程の解像限界内で、具現可能なサイズのパターンを利用して超微細な幅及び間隔を持つ高密度パターンを形成できる配置構造を持つ半導体素子及びその半導体素子パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The multi-format coder includes (k-1) format conversion units, one resolution determination unit 11, a first rough motion vector estimation unit 12, (k-1) motion vector conversion units, k fine motion vector estimation units 13, and k coding units 14.例文帳に追加

マルチフォーマット符号化装置は、（ｋ−１）個のフォーマット変換ユニット、１個の解像度決定ユニット、第１粗動きベクトル推定ユニット、（ｋ−１）個の動きベクトル変換ユニット、（ｋ）個の微細動きベクトル推定ユニット、および（ｋ）個の符号化ユニットを含む。 - 特許庁

To obtain a resist composition which retains high sensitivity and high resolution peculiar to a chemical amplification type resist, has stability through a pattern forming process and gives a fine resist pattern having a rectangular cross-section and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型レジストとして特有の高感度、高解像性能を保持し、パターン形成プロセスを通して安定であり、微細な断面矩形のレジストパターンを供することのできるレジスト組成物及びパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner wherein exposure can be made with high resolution but without exchanging a mask pattern having a fine width (e.g. smaller than 0.15 μm), with the pattern being a mixture pattern ranging from various patterns, isolated and complicated patterns including L and S patterns.例文帳に追加

微細な（例えば、０．１５μｍ以下の）線幅を持ち、各種パターンや、Ｌ＆Ｓパターンから孤立及び複雑なパターンまでが混在するマスクパターンを、マスクを交換せずに、解像度良く露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To perform selective growth of a solid on a fine scale of nano meter with high accuracy in a short time, by readily conducting drawing of a high resolution pattern at a high speed and a low cost, when a solid s selectively grown on a substrate surface.例文帳に追加

基材上に固体を選択的に成長させる場合のパターンの描画を、高速にかつ高解像度で、また低コストで容易に行い、固体の選択成長をナノメーターの微細なスケールで高精度にかつ短時間で行えるようにする。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition having favorable coating property, having either surface roughness nor decrease in transmittance, having favorable clearance property with sufficient resolution for a fine pattern, and capable of leaving a narrow pattern such as a photo spacer.例文帳に追加

塗布性良好で、表面荒れおよび透過率低下がなく、微細なパターンまで解像可能であることから抜け性が良好であり、さらに、フォトスペーサーのような細いパターンを残すこともできる新たな感光性樹脂組成物を提供する - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy.例文帳に追加

電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a norbornene copolymer for a photoresist which has transparency, high sensitivity, high resolution and etching resistance in order to be suitable for fine fabricating ultrahigh integrated semiconductor by excimer laser; a method for producing the same; and a photoresist composition containing the same.例文帳に追加

超高集積半導体のエキシマレーザ微細加工に適するように、透明性、高感度、高解像度及びエッチング耐性を有するフォトレジスト用ノルボルネン共重合体、その製造方法及び逸れを含むフォトレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high safety, excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

安全性が高く、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a means of forming a fine pattern with high accuracy while suppressing generation of an electric field without degrading the resolution of a resist on forming a pattern by irradiating a substrate having discontinuous electric conductivity with a charged particle beam.例文帳に追加

電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。 - 特許庁