「fine resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive composition which has high removability of development residue, allows formation of a fine pattern and is excellent in heat resistance, toughness, resolution and insulation; a forming method of a photosensitive film, a photosensitive laminate and a permanent pattern, using the photosensitive composition; and a printed board.例文帳に追加

現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which has high resolution and allows fine holes to be formd and allows a cured pattern with a good elastic modulus and a low relative dielectric constant to be formed, and to provide a cured pattern obtained using the negative radiation-sensitive composition, and a method for forming the cured pattern.例文帳に追加

高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the imaging apparatus can employ a photographing method whereby the imaging apparatus ordinarily carries out color photographing using R, G, B colors and executes monochromatic photographing with high resolution using only the green wavelength region in the case of reading a fine image pattern with a high density such as the QR code.例文帳に追加

これにより、通常はＲ，Ｇ，Ｂの各色によるカラー撮影を行い、ＱＲコードのような細かく密度の高い画像パターンを読み取る場合には、緑色波長域のみを用いた解像度の高いモノクロ撮影を行うような撮影方法が可能となる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of expanding the width of selectivity of a usable material, excellent in antistatic effect, having high sensitivity, and capable of efficiently forming a high-resolution fine resist pattern free of pattern defects and dislocation in a simple and easy way at a low cost.例文帳に追加

使用可能な材料の選択性の幅を広くすることができ、帯電防止効果に優れ高感度であり、パターン欠落や位置ずれ等がなく、高解像度で微細なレジストパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an optical waveguide with good accuracy and with sufficient mass-productivity by using an electrodeposition process or an optical electrodeposition process by which a fine pattern having excellent resolution can be easily formed and little harmful waste liquid is produced, and its manufacturing apparatus.例文帳に追加

解像度に優れた微細パターン形成を簡易に行なえ、有害廃液が少ない、電着法または光電着法を用いることにより、精度のよい光導波路を簡易にまた量産性よく作製する方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming an extremely fine pattern of a high resolution, suppressing a parasitic effect and forming a field effect transistor of high performance by using electron beam lithography, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィを用いて、高解像度の極めて微細なパターンを形成するとともに、寄生効果を抑えて高性能の電界効果型トランジスタを形成することができるパターン形成方法、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置を提供する。 - 特許庁

When a certificate photograph of the person 20 wearing a dress with a pattern of lateral or longitudinal fine stripes or cross stripes is taken, the resolution of the dress can be lowered to restrain a moire pattern of the dress without deteriorating the sharpness of the face picture.例文帳に追加

被撮影者２０が細いストライプ等の縦縞や横縞、格子模様等の服装を着て証明写真を撮った場合に、服装部分の解像度を低減できるので、顔画像のシャープネスを損なうことなく、服装部分のモアレ模様を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask by which defects in a fine pattern and a hole on a mask for exposure with charged particle rays are accurately detected and to provide an apparatus for inspecting a mask capable of shortening inspection time while ensuring high resolution.例文帳に追加

荷電粒子線露光用のマスク上の微小なパターンやホールの欠陥を高精度に検出するマスク検査方法を提供すると共に、高解像度でありながら検査時間の大幅な短縮が可能なマスク検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To evaluate a fine resolution and a slight difference in solubility of radiation-sensitive resin, and to obtain a radiation-sensitive resin composition which generates no development defect and has superior LER characteristic, while maintaining conventional resist performance using this evaluation method.例文帳に追加

感放射線性樹脂の微小な解像性や溶解性の僅かな相違点を評価し、この評価方法を用いて、従来のレジスト性能を維持したまま、現像欠陥を発生することがなく、またＬＥＲ特性に優れた感放射線性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

When a size of 1 pixel of imaging device 74 is 7 μm×7 μm, a moving amount F toward X axis and Y axis of the loading head 36 corresponding to 25 μm of the half resolution is 25 μm, and it can be solved by a fine moving function prepared in the loading head 36 originally.例文帳に追加

撮像素子７４の１画素の大きさが７μｍ×７μｍのとき、その１／２の２５μｍに対応する搭載ヘッド３６のＸ軸及びＹ軸への移動量Ｆは２５μｍであり本来搭載ヘッド３６が備える微小移動機能で対応できる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy, and to provide a polymer used therefor.例文帳に追加

電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound suitable for preparing a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape, and gives good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material from which a high resolution negative pattern is obtained using supercritical carbon dioxide without deteriorating dry etching resistance, and also to provide a pattern forming material and a developing method which enable a fine pattern to be formed without pattern falling.例文帳に追加

本発明の目的は、ドライエッチング耐性を低下させることがなく、高解像度のネガ型パタンが超臨界の二酸化炭素で得られるパタン形成材料を提供し、微細なパタンをパタン倒れなしに形成できるパタン形成材料及び現像方法を提供するものである。 - 特許庁

The above-mentioned problem is solved by configuring an alignment mark formed on a reflective mask with slit structures having a fine line width and a space less than the resolution limit for a wavelength of alignment light of a laser drawing device and reducing intensity of a reflection signal in alignment light irradiation.例文帳に追加

反射型マスクに形成するアライメントマークを、レーザ描画装置のアライメント光の波長に対し、解像限界以下の微細な線幅および間隔を有するスリット状の構造体で構成して、アライメント光照射における反射信号の強度を小さくすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a CF (color filter), having excelling performance in image characteristics, including fine resolution of pixels and sharpness of a pixel, solving the problems such as complicatedness of processes and shortening of the operation time, and easily and economically coping with enlargement and miniaturization of a liquid crystal display.例文帳に追加

画素の微細さ、シャープさなどの画像特性に優れた性能を有するＣＦの製造において、工程の煩雑さ、作業時間の短縮化などの問題点を解決し、容易にかつ経済的に、液晶ディスプレーの大型化にも、小型化にも対応できるＣＦを製造する方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in transparency to radiation and dry etching resistance and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, sensitivity, flatness and heat resistance, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device with a fine pattern having a high degree of integration using the resist composition.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性に優れ、解像度、感度、平坦性、耐熱性に優れるレジストパターンを形成できるレジスト組成物、ならびに、該レジスト組成物を用いる微細で集積度の高いパターンを持つ半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

(2) A person who has, in violation of Article 15, had an organized crime group member engage in the services of certified dispute resolution or act as an assistant for such services shall be punished with imprisonment with work for not more than 1 year or a fine of not more than 1 million yen, or both (cumulative imposition). 例文帳に追加

２　第十五条の規定に違反して暴力団員等をその認証紛争解決手続の業務に従事させ、又は当該業務の補助者として使用した者は、一年以下の懲役若しくは百万円以下の罰金に処し、又はこれを併科する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a photomask blank capable of forming a pattern high in sensitivity and superior in resolution, and to provide a photomask which is prepared by using the photomask blank and is superior in film strength of a light shielding film and resistance to a solvent in mask cleaning even when having a fine pattern such as narrow lines.例文帳に追加

本発明は、高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクス、及び前記本発明のフォトマスクブランクスを用いてなり、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する - 特許庁

To provide a filter circuit in which total circuit scale is not extremely increased, a filter characteristic frequency is made variable using a simple method and a fine resolution of about 1% of a signal bandwidth over 100 times or more and further, a frequency varying step is proportional to the filter characteristic frequency.例文帳に追加

総回路規模が著しく増大せず、簡便な方法で、フィルタ特性周波数を１００倍以上にわたり、しかも信号帯域幅の１％程度の微小な分解能によって可変でき、さらには周波数可変ステップがフィルタ特性周波数に比例するフィルタ回路を提供する。 - 特許庁

The relation between the rotational amount of the LD holder 42 and the movement amount of the wedge member 45 can be arbitrarily changed by the angle of the wedge member so that the resolution of the position adjustment mechanism of the laser beam can be raised without increasing the size of the LD holder 42 even in fine rotation movement.例文帳に追加

ＬＤホルダ４２の回転量とクサビ部材４５移動量の関係は、クサビ角度により任意に変更できるため、微小な回転方向の移動に対してもＬＤホルダ４２を大型化することなくレーザビームの位置調整機構を高分解能化することができる。 - 特許庁

A low pass filter 15 removes high frequency components from the waveform with the frequency and amplitude obtained by the sectional process circuit for super fine resolution 14, and a data extracting circuit 16 extracts data contained in a region where each value of the amplitude exceeds a threshold being set by a threshold setting circuit 17.例文帳に追加

区分超解像処理回路１４で得られた周波数と振幅の波形に対し、低域通過フィルタ１５で高周波成分を除去し、データ切り出し回路１６で各振幅値が閾値設定回路１７で設定した閾値を越える領域についてデータを切り出す。 - 特許庁

To provide a technology of preventing occurrence of void at an edge part when a controller and an image forming engine respectively provided from manufacturers between which a code system of an arrangement pattern of fine pixels used for promoting a high resolution of pixels cannot be shared with each other and are mounted and activated on one and same composite machine.例文帳に追加

画素の解像度化に用いる微画素の配列パターンのコード体系を共有化し得ていないメーカから夫々提供されるコントローラと画像形成エンジンとを同一の複合機に搭載させて稼動させる場合におけるエッジ部の白抜けの発生を防ぐこと。 - 特許庁

To enhance toner-releasing properties of the surface layer of a photoreceptor without lowering electrical characteristics and the resolution of an image by dispersing and incorporating fine silica particles which have a specified volume average particle diameter into the surface layer of the photoreceptor, containing a modified polycarbonate copolymer resin which has a specified structure as a bonding resin.例文帳に追加

電気的特性及び画像の解像度を低下させることなく、感光体表面層のトナーに対する離型性を向上させ、トナーのクリーニング性能に優れた電子写真感光体、それを備えた電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真装置の提供。 - 特許庁

A band drawing processing part 205 analyzes input information, draws the image of RGB data of a pixel unit corresponding to an image to be printed, also analyzes the input information and generates the shape information (DOT information) of the fine pixels of a high resolution (1200[dpi]).例文帳に追加

バンド描画処理部２０５は、入力情報を解析し、印字する画像に対応する画素単位のＲＧＢデータの画像を描画するとともに、入力情報を解析し、高解像度（１２００［ｄｐｉ］）の微小画素の形状情報（ＤＯＴ情報）を生成する。 - 特許庁

The magnetic probe 30 detects magnetism even if ultra-fine particles of a grain size of approximately several nm are used as the paramagnetic seed 31 fixed to the inside of the tip of the tubular vessel 34, thus achieving a high space resolution in the order of several nm.例文帳に追加

この磁気プローブ３０においては、管状容器３４の先端内側に固定される常磁性シード３１として粒径数ナノメートル程度の超微粒子を用いた場合でも磁気を検知することができるので、数ナノメートルオーダーの高い空間分解能を実現することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which suppresses deterioration of resolution and a depth of focus caused when forming a fine wiring pattern using optical lithography in a connection region between regions where wiring pitches are different, reduces possibilities of occurrence of disconnection and a short circuit of the wiring pattern, and attains high integration.例文帳に追加

配線ピッチが異なる領域間の接続領域における光リソグラフィを用いた微細な配線パターンを形成する時の解像度や焦点深度の悪化を抑制し、配線パターンの断線やショートが発生する可能性を低減し、高集積化が可能となる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加

マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁

When current date and time represent a memorial day or an important event of a user and the number of recording pixels and the recording format are set to record image data representative of low resolution image like 1M normal JPEG, a warning display is presented and the number of recording pixels and the recording format are altered so that the user records a high resolution image like 6M fine JPEG.例文帳に追加

現在の日付および時刻がユーザの記念日または重要なイベントな場合において、記録画素数および記録フォーマットが例えば１ＭノーマルＪＰＥＧのように低精細な画像を表す画像データを記録するように設定されている場合には、警告表示を行って、ユーザに例えば６ＭファインＪＰＥＧのように高精細な画像を表す画像データを記録するように、記録画素数および記録フォーマットを変更させるようにする。 - 特許庁

Article 961 When a representative bondholder or a Resolution Administrator (meaning the Resolution Administrator prescribed in Article 737(2); the same shall apply hereinafter), for the purpose of promoting such person's own interest or the interest of a third party or inflicting damage on a bondholder, commits an act in breach of such person's duties and causes financial damages to the bondholder, such person shall be punished by imprisonment with work for not more than five years or a fine of not more than five million yen, or both. 例文帳に追加

第九百六十一条　代表社債権者又は決議執行者（第七百三十七条第二項に規定する決議執行者をいう。以下同じ。）が、自己若しくは第三者の利益を図り又は社債権者に損害を加える目的で、その任務に背く行為をし、社債権者に財産上の損害を加えたときは、五年以下の懲役若しくは五百万円以下の罰金に処し、又はこれを併科する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a photosensitive composition and a photosensive film for efficiently forming a highly fine permanent pattern superior in insulation reliability, transparency and glossiness by having excellent sensitivity and resolution, and also to provide a permanent pattern forming method using the photosensitive film, and a printed circuit board forming a pattern by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた感度及び解像度を有し、絶縁信頼性、透明性、及び光沢度に優れた高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法、該永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

Particularly, in the reproducing device in which various display forms can be achieved like a HDDVD, very fine image display in which feeling of pyhsical disorder is not felt visually can be performed by performing scaling in accordance with coordination of output resolution for a video device to be output and change of display size based on user operation.例文帳に追加

特に、ＨＤＤＶＤのように多様な表示形態を実現できる再生装置においては、出力先の映像機器との出力解像度の整合、ユーザ操作に基づく表示サイズの変更に応じたスケーリングを施すことで、視覚的に違和感のない高繊細な画像表示を行うことができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate which yields no residue by development, exhibits high sensitivity and high resolution, has high adhesiveness to a substrate and excellent etching resistance, is developable with a diluted alkali aqueous solution, and produces fine chips of stripped material in a stripping process with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Thus high resolution images having a high brightness through fine-pitched microlens arrays are attained, and a directional light diffusion layer sheet having different radiation angles in lateral and vertical directions is employed to be able to easily and arbitrarily adjust the vertical viewing angle while maintaining a wide lateral viewing angle.例文帳に追加

これにより、高い輝度を有しマイクロレンズアレイの微細ピッチ化を通じて高解像度の映像を得ることができ、水平及び垂直方向に相違する放射角特性を有する方向性光拡散層シートを適用して広い水平視野角を維持しながら、垂直視野角の制御を容易かつ任意に調節することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing line of a semiconductor device or the like, that can execute processes with high resolution to semiconductor device make very fine, without being substantially affected by electromagnetic noise, viblations, and the like generated by a carrier device or the like in a charged particle beam process device, such as an SEM apparatus.例文帳に追加

ＳＥＭ装置などの荷電粒子ビームプロセス装置において、搬送装置等から発生する電磁波ノイズや振動等に対して影響を殆ど受けることなく超微細化された半導体デバイスなどに対して高分解能でプロセスを実行できるようにした半導体デバイス等の製造ラインを提供することにある。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

０．３５μｍ以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

For weak fluorescent X rays 6 from the set fine site, wavelength distribution characteristics are roughly examined quickly by an energy-distribution-type first detection means 30 with high sensitivity, and then intensity is measured by a wavelength-distribution-type second detection means 7 with high resolution only within a required wavelength range.例文帳に追加

その設定された微小部位からの強度の微弱な蛍光Ｘ線6 について、まず、感度の高いエネルギー分散型の第１検出手段30によって、短時間に大まかに波長分布特性を調べた後、必要な波長範囲においてのみ、分解能の高い波長分散型の第２検出手段7で強度を測定する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive tape for high-resolution photomask protection which is excellent in re-peelability (properties of leaving no paste on adherend after peeling), and avoids entry of bubbles even when the pressure-sensitive adhesive tape is stuck on a photomask with a complex pattern having fine dots and thin lines arranged at narrow intervals.例文帳に追加

再剥離性（剥がした場合に被着体に糊残りしていない性能）に優れ、複雑で、ドットが小さく、線の細い、また線の間隔が狭いパターンの描かれたフォトマスクにフォトマスク保護用粘着テープを貼り付けても気泡が混入しない解像度の高いフォトマスク保護用粘着テープの提供。 - 特許庁