| 意味 | 例文 (64件) |
firing pointの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 64件
To provide a glass ceramic composition which enables the manufacturing of an electronic circuit board which has a high coefficient of linear expansion and does not have drastic change in expansion curve at 200-270°C, by simultaneous firing with a non-high melting point metal electrode material and nonlead glass.例文帳に追加
線膨張係数が大きく、２００〜２７０℃における膨張曲線の急激な変化がない電子回路基板を非・高融点金属電極材料との同時焼成によって製造が可能なガラスセラミックス組成物および無鉛ガラスの提供。 - 特許庁
To provide a lightweight panel with stone-like texture which generates minus ions with an excellent effect for the environment and health without firing, which is excellent from the view point of energy and resources saving and has an excellent external appearance and workability.例文帳に追加
軽量にして環境及び健康上優れた効果のあるマイナスイオンを発生し、省エネルギー、省資源の観点からも焼成することなく、外観的にも優れた易施工性軽量石目調マイナスイオン発生パネルを提供することである。 - 特許庁
In this case, it is desirable that at least a part of the lime based flux for dephosphorization supplied from the top-blown lance, together with gas for carrying, is injected to the firing point and the injecting speed of the solid oxygen source is made to 0.03-1 kg/min×ton of molten iron.例文帳に追加
その際に、上吹きランスから供給される石灰系脱燐用フラックスのうちの少なくとも一部を火点に吹き付けること、また、固体酸素源の吹き込み速度を０．０３〜１ｋｇ／分・溶銑ｔｏｎとすることが好ましい。 - 特許庁
There is the relationship of T1<T3<T2<T3+30°C among the softening point of the major glass powder used for the lower dielectric layer (T1), that of the major glass powder used for the upper dielectric layer (T2), and firing temperature of the major glass powders (T3).例文帳に追加
上記下側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点（Ｔ１）と、上記上側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点（Ｔ２）と、上記主要ガラス粉末の焼成温度（Ｔ３）とが関係Ｔ１＜Ｔ３＜Ｔ２＜Ｔ３＋３０℃を満たす。 - 特許庁
To provide a method of connecting fibrous yens uniformly tangled without creating a knotting point at a connection for securing connecting strength sufficiently endurable to tension in the following process, and a carbon fiber producing method for preventing the end breakage of the yarn in a firing process.例文帳に追加
接続部分に結節点が生じることなく均一に交絡され、後の工程における張力にも十分に耐え得る接続強度が確保できる繊維糸条の接続方法と、焼成工程での糸切れのない炭素繊維の製造方法とを提供する。 - 特許庁
A chip resistor is formed so that glass in an undercoating 5, glass frit in a resistor film 4 or glass frit in the upper surface electrodes 2 and 3 has softening point higher than the firing temperature when a protection coating 7 and side electrodes 8, 9 are formed.例文帳に追加
前記アンダーコート５のガラス、又は、前記抵抗膜４におけるガラスフリッド、或いは、前記上面電極２，３におけるガラスフリットを、前記保護コート７及び側面電極８，９を形成するときの焼成温度よりも高い軟化点を有するものにする。 - 特許庁
The method of forming the ceramic crucible to be installed in a high frequency heating furnace 5 comprises: forming a ceramic crucible body 2 by firing a silicon dioxide powder at a temperature lower than the melting point of silicon dioxide, and then heat treating the ceramic crucible body 2 at a temperature higher than the melting point of silicon dioxide in order to form a film 3 covering the ceramic crucible body 2.例文帳に追加
高周波加熱炉５に設置される磁製るつぼ１の成形方法において、二酸化ケイ素の粉末を二酸化ケイ素の融点より低い温度で焼成して磁製るつぼ本体２を形成した後、この磁製るつぼ本体２を二酸化ケイ素の融点より高い温度で一定時間加熱処理して、磁製るつぼ本体２を覆う被覆膜３を生成するようにしている。 - 特許庁
The method is to fire glass frit containing glass power whose softening point lies not more than 620°C, wherein the pressure P of the atmosphere in which the firing is conducted is over 10^4 Pa while the water content of the atmosphere is 2.0 g/m^3 or less.例文帳に追加
軟化点が６２０℃以下であるガラス粉末を含有するガラスフリットを焼成する方法であって、該焼成を行う雰囲気の圧力Ｐが１０^4Ｐａ以上であり、かつ、該雰囲気の水の含有量が２．０ｇ／ｍ^3以下であることを特徴とするガラスフリット焼成方法。 - 特許庁
The microwave firing furnace is provided with an antenna length limiting part 10 for setting an earth ground for an auxiliary thermocouple 7 and an auxiliary thermocouple fixing part 13 for adjusting length from an antenna length base point part 101A of a tip end part 7A of the auxiliary thermocouple so that the auxiliary thermocouple 7 is free from the influence of the microwave.例文帳に追加
補助熱電対７に対してアースを設定するためのアンテナ長規制部１０と、補助熱電対７がマイクロ波の影響を受けないように、その先端部分７Ａのアンテナ長基点部１０１Ａからの長さを調整するための補助熱電対固定部１３とを備える。 - 特許庁
Also, on the side face of the work support lower part 13 into which the assist gas 3 after use is flowed, for example, a vent hole 16 to flow in the atmosphere inside is provided, firing of an object in the vicinity of a machining point can be prevented by reducing the concentration of the assist gas 3 inside the work support lower part 14.例文帳に追加
また、使用後のアシストガス３が流入するワークサポート下部１３の側面には、例えば大気を内部へ流入させるための通気孔１６を設け、ワークサポート下部１４内部のアシストガス３の濃度を低下させることで、加工点付近の物体が発火することを防止する。 - 特許庁
The photosensitive thick-film dielectric paste composition includes a glass frit having a glass softening point 0° to 40°C lower than a firing temperature ranging above 450°C and up to 600°C; an organic polymer binder; a photoinitiator; a photocurable monomer; and an organic solvent, wherein the composition is aqueous-developable upon exposure to actinic radiation.例文帳に追加
４５０℃を超えて６００℃までの焼成温度より０°から４０℃低いガラス軟化点を有するガラスフリット；有機ポリマー結合剤；光開始剤；光硬化性モノマー；および有機溶媒を含み、組成物が化学線で露光すると湿式現像できる感光性厚膜誘電体ペースト組成物を開示する。 - 特許庁
The method for producing the aluminum titanate-based ceramic comprises firing a raw material mixture containing a titanium source compound, an aluminum source compound, and preferably a magnesium source compound, and a glass frit having a yield point of not less than 700°C and/or a viscosity at 900°C of not less than 1.0×10^6 poises.例文帳に追加
本発明は、チタン源化合物、アルミニウム源化合物および好ましくはマグネシウム源化合物と、屈服点が７００℃以上および／または９００℃の粘度値が１．０×１０^６ポイズ以上のガラスフリットとを含む原材料混合物を焼成するチタン酸アルミニウム系セラミックスの製造方法である。 - 特許庁
A method of manufacturing the ceramic package formed by dividing a ceramic substrate which is obtained by stacking an uncalcinated ceramics and firing the stacked ceramics, according to a groove formed in a prescribed pattern, includes a step of dividing the ceramic substrate while applying bending moment with a principal surface of the ceramic substrate as a point of action, and also applying drawing moment in a direction parallel to the principal surface.例文帳に追加
本発明にかかるセラミックパッケージの製造方法は、未焼成セラミックを積層し焼成して得たセラミック基板を所定のパターンに形成された溝に従って分割することによりパッケージとするセラミックパッケージの製造方法であって、セラミック基板の主面を作用点とし、曲げモーメントを加えるとともに、主面に平行な方向に引っ張りモーメントを加えながらセラミック基板を分割する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
The internal-combustion engine including at least one cylinder in which a mixture gas of fuel and air in the cylinder is compressed by a piston, wherein the temperature of the mixture gas in the combustion chamber is raised to 80-98 % of the natural firing point of the mixture gas, and the combustion ignition is controlled on the time basis by incidence of a laser beam into the combustion chamber.例文帳に追加
シリンダ内の燃料・空気−混合気がピストンによって圧縮される少なくとも１本のシリンダを有した内燃機関において、燃焼室内の燃料・空気−混合気の温度が燃料・空気−混合気の自然着火温度の少なくともおよそ８０％以上から最高にておよそ９８％までに引き上げられ、燃焼点火は燃焼室内へのレーザ光の入射によって時間的に制御されて行われる内燃機関。 - 特許庁
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