意味 | 例文 (999件) |
film- formationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7318件
FORMATION METHOD FOR ELECTRODEPOSITION FILM AND MEMBER HAVING ELECTRODEPOSITION FILM例文帳に追加
電着膜の形成方法および電着膜を有する部材 - 特許庁
FORMATION OF SILICON OXIDE FILM AND SILICON OXYNITRIDE FILM UNDER LOW PRESSURE例文帳に追加
低圧下のシリコン酸化膜及び酸窒化膜形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM AND ANTIREFLECTION FILM例文帳に追加
反射防止膜形成用組成物および反射防止膜 - 特許庁
DRY FILM FOR PROTECTIVE FILM FORMATION AND FABRICATED ARTICLE USING SAME例文帳に追加
保護膜形成用ドライフィルムおよびそれを用いた加工品 - 特許庁
MEMBER FOR FILM FORMING DEVICE, FILM FORMING DEVICE, FILM FORMATION AND FILM-FORMED SUBSTRATE FOR MAGNETIC HEAD例文帳に追加
成膜装置用部材、成膜装置、成膜方法および成膜された磁気ヘッド用基板 - 特許庁
MULTICOMPONENT THIN FILM AND ITS FORMATION METHOD例文帳に追加
多成分系薄膜及びその形成方法 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION FILM FORMATION METHOD, PROTECTIVE FILM FORMATION METHOD, AND DEVICE FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
蒸着膜の形成方法、保護膜の形成方法及びプラズマディスプレイパネル製造装置 - 特許庁
FILM FORMATION METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
膜の形成方法及び基板処理装置 - 特許庁
GATE FILM FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ゲート膜形成方法及び半導体装置 - 特許庁
PLASMA CVD APPARATUS AND THIN-FILM FORMATION METHOD例文帳に追加
プラズマCVD装置、薄膜形成方法 - 特許庁
COATING FILM FORMATION METHOD OF APPLICATION TYPE VIBRATION DAMPING MATERIAL例文帳に追加
塗布型制振材の塗膜形成方法 - 特許庁
To improve reproducibility of thin film formation.例文帳に追加
薄膜形成の再現性を向上させる。 - 特許庁
PROTECTIVE FILM FORMATION APPARATUS AND LASER BEAM MACHINE例文帳に追加
保護膜形成装置およびレーザー加工機 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND FORMATION OF THIN FILM例文帳に追加
半導体装置及び薄膜形成方法 - 特許庁
RAW MATERIAL SUPPLY DEVICE AND FILM FORMATION DEVICE例文帳に追加
原料供給装置及び成膜装置 - 特許庁
METHOD OF CLEANING THIN FILM FORMATION APPARATUS, THIN FILM FORMATION METHOD AND APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加
薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、薄膜形成装置及びプログラム - 特許庁
DEW FORMATION PREVENTING SOLID-TYPE PERMEABLE FILM例文帳に追加
透過性のある一体型結露防止フィルム - 特許庁
STRONG DIELECTRIC FILM AND FORMATION THEREOF例文帳に追加
強誘電体膜及びその形成方法 - 特許庁
METHOD FOR CONFIRMING FORMATION OF TRANSPARENT INORGANIC COATING FILM例文帳に追加
透明無機塗膜の形成確認方法 - 特許庁
FORMATION OF FILM USING ELECTRON BEAM PLASMA例文帳に追加
電子ビームプラズマを用いる膜生成方法 - 特許庁
FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR THIN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THIN-FILM TRANSISTOR BY THE FORMATION METHOD例文帳に追加
半導体薄膜の形成方法及びそれを用いた薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF THIN FILM例文帳に追加
スパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁
COATING MATERIAL COMPOSITION AND FORMATION OF COATING FILM例文帳に追加
塗料組成物及び塗膜形成方法 - 特許庁
COATING COMPOSITION AND FORMATION OF COATING FILM例文帳に追加
塗料組成物および塗膜形成方法 - 特許庁
FORMATION METHOD OF CONDUCTIVE FILM FOR GLASS SUBSTRATE例文帳に追加
ガラス基板用導電膜の形成方法 - 特許庁
PLASMA CVD DEVICE AND FORMATION OF FILM例文帳に追加
プラズマCVD装置及び膜形成方法 - 特許庁
FORMATION OF POROUS FILM, WIRING STRUCTURE, AND FORMATION THEREOF例文帳に追加
多孔質膜の形成方法、配線構造体及びその形成方法 - 特許庁
RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING FILM OF FERROELECTRIC THIN FILM AND FORMATION OF FILM例文帳に追加
強誘電体薄膜の成膜用原料溶液および成膜方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR THIN FILM, FORMATION OF SEMICONDUCTOR FILM AND DEVICE FOR FORMING SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加
半導体薄膜、半導体の成膜方法、及び半導体の成膜装置 - 特許庁
COMPOSITION FOR POLYIMIDE-BASED INSULATION FILM, INSULATION FILM AND FORMATION OF INSULATION FILM例文帳に追加
ポリイミド系絶縁膜用組成物、絶縁膜および絶縁膜の形成法 - 特許庁
A CVD(chemical vapor deposition) system 300 is provided with a plurality of film formation nozzles 112 to supply a film formation gas into a film formation chamber 110, cleaning gas nozzles 310 to supply a cleaning gas, and a film formation target supporting body 118 to position a film formation target subjected to a film formation step within the film formation chamber.例文帳に追加
成膜室110の内部に成膜ガスを供給するための複数の成膜ガスノズル112と、クリーニングガスを供給するためのクリーニングガスノズル310と、成膜工程の対象となる成膜ターゲットを成膜室の内部に位置づけるための成膜ターゲット支持体118が設けられている。 - 特許庁
On the surface of the frost-formation-suppressed coating film 14, a protection film 15 for protecting the frost-formation-suppressed coating film 14 is formed in a formation step of the protection film.例文帳に追加
当該着霜抑制被膜14の表面上には、保護膜形成工程において、該着霜抑制被膜14を保護する保護膜15が形成される。 - 特許庁
To provide a method for improving a film formation speed to improve controllability of the film formation speed, in film formation or the like of an MgO film of an AC type plasma display panel.例文帳に追加
AC型のプラズマディスプレイパネルのMgO膜の成膜等において、成膜速度を向上し成膜速度の制御性を向上する方法を提供する。 - 特許庁
Optical features ψ, δ of a film (the base film 7 with a magnetic film plus a DLC film) of after-film-formation (after-the film-formation 8-passing) at a position same as a position of before-film-formation by a spectrum ellipsometry measuring part 9b.例文帳に追加
次に分光エリプソ測定部9bによって、前記と同じ位置の、成膜後(成膜源8通過後)のフィルム(磁性膜付ベースフィルム7+DLC膜)の光学的特徴ψ、δを測定する。 - 特許庁
A low input frequency at least either start of film formation or end of film formation of the insulating film is higher than that in other timing excluding the start of film formation and the end of film formation.例文帳に追加
そして絶縁膜の成膜開始時あるいは成膜終了時の少なくとも一方において、低周波の入力が成膜開始時及び成膜終了時を除いた他のタイミングより高い。 - 特許庁
At least the two film-formation units in the film-formation units are arrayed so as to form the paired film-formation units at an interval while holding the carrying region by these film-formation units.例文帳に追加
前記成膜ユニットのうち少なくとも二つの成膜ユニットは、これらが前記搬送領域を挟んで互いに間隔を開けて対成膜ユニットを形成するように配列される。 - 特許庁
FORMATION OF EXPOSED CONCRETE PATTERNED COATING FILM例文帳に追加
打放しコンクリート模様塗膜の形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INSULATING FILM FORMATION例文帳に追加
絶縁膜形成用感光性樹脂組成物 - 特許庁
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