例文 (2件) |
ion beam sputter depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
Ion beams B generated from an ion beam source 3 are radiated toward a sputter target 2 to generate film deposition particles toward a substrate W.例文帳に追加
イオンビーム源3から発生されたイオンビームBをスパッタターゲット2に向かって放射し、基板Wに向かって成膜粒子を発生させる。 - 特許庁
The structure part and/or the electrode layers and the buffer part are consecutively formed by a sputter method, a vapor deposition method, an aerosol deposition method, an ion plating method, an ion cluster method, a laser beam abrasion method, etc.例文帳に追加
緻密構造部及び/又は電極層と上記バッファ部とを、スパッタ法、蒸着法、エアロゾルデポジション法、イオンプレーティング法、イオンクラスタ法及びレーザービームアブレーション法などによって連続して形成する。 - 特許庁
例文 (2件) |
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