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「ion beam irradiation effect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ion beam irradiation effectに関連した英語例文

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ion beam irradiation effectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5



例文

To provide an ion beam irradiation device capable of performing maintenance without having an adverse effect on other processing chambers when performing maintenance of an ion beam supply device in use corresponding to an in-line method.例文帳に追加

インライン方式に相当する使用においてイオンビーム供給装置のメンテナンスを行う際、他の処理室に悪影響を与えることなくメンテナンスを行うことができるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

The probe device reduces adverse effect on the sample caused by sputter particles generated by ion beam irradiation to the probe, debris of the probe, and the ion beams passing through the vicinity of the probe.例文帳に追加

本発明により、プローブへのイオンビーム照射により発生したスパッタ粒子,プローブの破片,プローブの近傍を通過したイオンビームなどによる試料などへの悪影響を低減できる。 - 特許庁

As those protection layer, capable of forming by a thermal CVD method, a plasma CVD method, or an evaporation method with irradiation of ion beam or electron beam, has high sputtering resistant property and big dielectric glass protection effect, the life of the panel is prolonged.例文帳に追加

このような保護層は、熱CVD法、プラズマCVD法、或はイオンビームや電子ビームを照射しながら蒸着する方法で形成することができ、耐スパッタリング性が高く、誘電体ガラス層の保護効果が大きいのでパネル寿命が向上する。 - 特許庁

By optimizing the quantity of the introduced gas and an irradiation condition of the primary ion beam, a matrix effect between the compound and the substrate is removed, and simultaneously the position of the compound film/substrate interface can be specified.例文帳に追加

導入するガス量および一次イオンビームの照射条件を最適化することにより、化合物と基板におけるマトリックス効果を解消すると同時に、化合物膜/基板界面の位置を特定することが可能となる。 - 特許庁

例文

Cleaning by ion beam irradiation is performed to eliminate conductive smear after grinding a row bar or a floating plane of a magnetic head slider 10, oxygen exposure is performed to recover a damage region 14a formed at an end plane of an intermediate layer 14 of a magneto-resistance effect film 5 by ion beam irradiation , after that, floating plane protection films 7, 8 are formed, successively, rail processing is performed.例文帳に追加

ローバー50あるいは磁気ヘッドスライダ10の浮上面機械研磨後に、導電性スメアを除去するためにイオンビーム照射によるクリーニングを行い、イオンビーム照射により磁気抵抗効果膜5の中間層14の端面に形成されている損傷領域14aを回復させるために酸素曝露を行い、この後、浮上面保護膜7,8を形成し、続いてレール加工を行う。 - 特許庁





  
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