「immersion-liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

In a liquid immersion lithography equipment in which liquid immersion liquid is supplied to local space, the profile of the plan view of the local space is substantially parallel to a substrate and is substantially a polygon.例文帳に追加

局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。 - 特許庁

The liquid recovery system is used for immersion exposure wherein a substrate is exposed to exposure light through a liquid.例文帳に追加

液体回収システムは、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光に用いられる。 - 特許庁

To uniformize a liquid velocity profile, and to prevent optical distortions, in a liquid immersion photolithography system.例文帳に追加

液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。 - 特許庁

To provide a substrate for liquid immersion exposure which can suppress intrusion of the liquid into the rear surface side of the substrate.例文帳に追加

基板の裏面側に液体が浸入することを抑制できる液浸露光用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が液浸領域外に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist protective film which simultaneously prevents deterioration in a resist film during liquid immersion lithography using water or other various liquids for liquid immersion lithography and deterioration in the liquid itself for liquid immersion lithography used in a liquid immersion lithography process, does not increase the number of processing steps, and improves the post exposure time delay resistance of the resist film.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数を増加させることなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができるレジスト保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide a purifier of a liquid for liquid immersion lithography, wherein the impurity generated by exposure in the liquid for liquid immersion lithography is efficiently removed, to stabilize optical nature of the liquid, for reusing.例文帳に追加

露光により液浸型露光用液体中に生成された不純物を、効率よく除去し、液浸型露光用液体の光学的性質を安定させた上で、再利用を可能とする、液浸型露光用液体の精製器を提供すること。 - 特許庁

Unwanted droplets of immersion fluid may form on a plurality of different surfaces of the immersion apparatus, such as on a liquid barrier member.例文帳に追加

液浸流体の不要な滴は、液浸装置例えば液体バリア部材上の複数の異なる表面に形成されうる。 - 特許庁

The non-leaching adhesive system and its use in the liquid immersion objective for immersion-writing of masters for optical discs are disclosed.例文帳に追加

非浸出接着剤系及び光ディスク用の原型の浸漬書き込み用の液浸対物系におけるその使用を開示する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a liquid sealing unit and an immersion photolithographic apparatus having the same.例文帳に追加

液体シーリングユニット及びそれを有するイマージョンフォトリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion objective capable of stably holding supplied liquid.例文帳に追加

供給された液体を安定して保持し得る液浸対物レンズを提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING RESIST COMPOSITION OR COMPOSITION FOR UPPER-LAYER FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION例文帳に追加

レジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法 - 特許庁

A high electric voltage-generating device 21 is joined with the dissolved liquid immersion vessel 10.例文帳に追加

溶解液浸漬槽１０には高電圧発生装置２１が接続されている。 - 特許庁

To reduce a thermal load imposed on a projection system and/or a liquid immersion system.例文帳に追加

投影システム及び／又は液浸システムに加えられる熱負荷を減少させる。 - 特許庁

To disclose a fluid handling structure designed for all wet liquid immersion lithography.例文帳に追加

オールウェット液浸リソグラフィ用に設計された流体ハンドリング構造を開示する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

The recycling system includes a fiber configured to remove organic contaminants from the immersion liquid.例文帳に追加

リサイクルシステムは、液浸液から有機汚染物質を除去する繊維を含む。 - 特許庁

IMMERSION LIQUID COOLING BOARD COOLING STRUCTURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT例文帳に追加

浸漬液冷型のボード冷却構造及びこれを用いる半導体試験装置 - 特許庁

Then, an immersion liquid is filled between a projection lens and the semiconductor substrate (S104).例文帳に追加

次に、投影レンズと半導体基板の間に液浸液を満たす（Ｓ１０４）。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The detector 194a detects the amount of liquid recovered from the liquid immersion space based on the output from the liquid volume sensor 193.例文帳に追加

検知部１９４ａは、液量センサ１９３の出力に基づいて液浸空間からの液体の回収量を検知する。 - 特許庁

The liquid immersion system is used in a liquid immersion exposure in which a substrate is exposed to an exposure light through an optical member and a liquid, and that fills the optical path of the exposure light between the optical member and the substrate with the liquid.例文帳に追加

液浸システムは、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光で用いられ、光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で満たすためのものである。 - 特許庁

An exposure device forms a liquid immersion region of liquid LQ between a projection optical system PL and a substrate P and exposes the substrate P via the projection optical system PL and the liquid LQ of the liquid immersion region.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

In this immersion exposure method and device 1 for carrying out exposure by interposing immersion liquid L between a lens 10 and a chemical amplification type resist, surfactant solution is used as the immersion liquid L.例文帳に追加

本発明は、レンズ１０と化学増幅型のレジストとの間に液侵液Ｌを介在させて露光を行う液侵露光方法および液侵露光装置１において、液侵液Ｌとして界面活性剤溶液を用いるものである。 - 特許庁

In the edge cleaning processing (S4), the immersion liquid is jetted with pressure equal to or higher than the pressure of the immersion liquid applied to the end of the wafer by movement of a stage where the wafer is mounted in the immersion lithography processing (S5).例文帳に追加

エッジ洗浄処理（Ｓ４）では、液浸露光処理（Ｓ５）においてウェハが戴置されるステージが移動することによりウェハの端部にかかる液浸液の圧力以上の圧力で液浸液を噴射させる。 - 特許庁

It is possible to provide the liquid immersion exposure apparatus with a little impaired image performance, since a contamination of an iron and a particle to the ultrapure waters can be lessened which are oil immersion liquids used for the liquid immersion exposure.例文帳に追加

本発明によれば、液浸露光に使用する液浸液である超純水へのイオンやパーティクルの混入を少なくできることにより、像性能の劣化の少ない液浸型露光装置を提供することができる。 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithography system which minimizes the introduction of particles into the immersion liquid by preventing the immersion liquid from contact with the particulate contamination areas, and which prevents distortions and defects from occurring on the photoresist image and pattern on the wafers.例文帳に追加

液浸流体が微粒子汚染領域に接触しないように、液浸流体に入る微粒子を最小に抑え、ウェーハ上のフォトレジストの画像及びパターンに歪みや欠陥が発生しないようにする液浸リソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by a liquid immersion method by which follow-up property of a liquid for liquid immersion exposure along a lens for liquid immersion exposure can be improved without decreasing water-repelling property, and transparency to light at a wavelength of 193 nm or 157 nm can be improved.例文帳に追加

撥水性を損なうことなく、液浸露光用液体の液浸露光用のレンズへの追随性を向上させ、また１９３ｎｍや１５７ｎｍの波長の光に対する透明性なども改善することができる液浸法によるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が光学素子の光入射面側の空間側に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

According to a place of the liquid immersion member 6 to be cleaned, at least one of a positional relationship of the liquid immersion member 6 and the vibration member C, and the wavelength of sound wave is changed.例文帳に追加

液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係もしくは、音波の波長の少なくとも一方を変更する。 - 特許庁

The exposure device forms the immersion area of liquid on the image surface side of a projection optical system, and exposes a substrate to light via the projection optical system and the liquid of the immersion area.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域の液体とを介して基板を露光する。 - 特許庁

The immersion liquid is pushed into orifices 121 that permit fluid communication between a first chamber 120 and a second chamber 122, causing a first pressure drop in the immersion liquid.例文帳に追加

第１のチャンバ１２０を第２のチャンバ１２２と液体連通させるオリフィス１２１に浸漬液を押し込むことによって、浸漬液に第１の圧力降下が生じる。 - 特許庁

To provide a system to remove an immersion liquid capable of controlling the level of the immersion liquid present in space among a barrier member, a final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

バリア部材と投影システムの最終要素と基板との間のスペースにある液浸液のレベルを制御することができる、液浸液を除去するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in DOF and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the outer peripheral edge of an organic film from peeling from a substrate when an immersion liquid is moved from the outer peripheral stage to the exposure stage of a liquid immersion exposure apparatus.例文帳に追加

液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion solution just suitable for reduction in fall of resist pattern generated during liquid immersion exposure and reduction in fluctuation of resist sensitivity.例文帳に追加

液浸露光時に生じるレジストパターンの倒れおよびレジスト感度の変動を低減させるのに好適な液浸液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sealing member or barrier member which reduces a turbulent flow and reduces overflowing of an immersion liquid in a liquid supply system used for an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムにおいて、乱流を低減し、且つ浸漬液のオーバーフローを低減するシール部材またはバリア部材を提供すること。 - 特許庁

To provide a top coating composition for a photoresist that can be used in a liquid immersion lithography process, and to provide a method for forming a photoresist pattern by a liquid immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Lithographing method and system using this immersion liquid is also provided.例文帳に追加

また、この液浸液を使用したリソグラフィ方法およびリソグラフィシステムが提供される。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND FLUORINE CONTAINED COPOLYMER例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含フッ素共重合体 - 特許庁