「immersion-liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

In an immersion lithography apparatus, formation of bubbles in an immersion liquid is reduced or prevented by reducing the size or the region of a gap above a substrate table.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置では、基板テーブル上のギャップのサイズ又は領域を低減することで液浸液内の泡の形成が低減又は防止される。 - 特許庁

The surface may maintain the characteristic so that the immersion liquid has the contact angle enabling the immersion for a long period of time.例文帳に追加

表面の液浸液が液浸液内の長期間にわたる液浸を可能にする接触角を有するように、表面はその特性を維持することができてもよい。 - 特許庁

The immersion lithographic apparatus has a pressure sensor configured to measure the pressure of the immersion liquid in a space between the substrate and a projection system.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、基板と投影システムとの間の空間内の液浸液の圧力を測定するように構成された圧力センサを有する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus and a method of manufacturing devices adapted to reduce the effects of bubbles in immersion liquid on the imaging quality in immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィの結像品質に対する浸漬液中の気泡の影響を低減するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce the formation of unwanted droplets or to remove unwanted droplets of immersion liquid on one or more surfaces of an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の１つ又は複数の表面における液浸液の望ましくない小滴の形成を減少させる、または小滴を除去する。 - 特許庁

To provide a refining device capable of efficiently removing impurities generated in the liquid for liquid immersion exposure by exposure and impurities flowing out of a resist film, stabilizing the optical properties of the liquid for liquid immersion exposure, and reusing the liquid for liquid immersion exposure without reducing efficiency in the production process of an electronic device using exposure.例文帳に追加

露光により液浸型露光用液体中に生成された不純物やレジスト膜から溶出した不純物を、効率よく除去し、液浸型露光用液体の光学的性質を安定させた上で、露光を用いる電子デバイスの生産過程にかかる効率を低下させることなく、液浸型露光用液体の再利用を、現に可能とする精製器を提供すること。 - 特許庁

To keep an extent narrow in which liquid (soaking liquid) intervenes in an image space in a catadioptric and off-axis field of view type liquid immersion projection optical system.例文帳に追加

反射屈折型で且つ軸外視野型の液浸投影光学系において、像空間において液体（浸液）が介在する範囲を小さく抑える。 - 特許庁

To provide a liquid-repellent treatment composition for an immersion exposure apparatus and a liquid-repellent treatment method to form a liquid-repellent treated layer with excellent adhesion.例文帳に追加

密着性の良好な撥液処理層を形成するための液浸露光装置用撥液処理組成物、および撥液処理方法を提供する。 - 特許庁

The liquid immersion lithography equipment, where one or a plurality of liquid flow divider is located in a space enclosed by a liquid closing structure, is disclosed.例文帳に追加

１つ又は複数の液体分流器が液体閉じ込め構造によって囲まれた空間内に配置された液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To provide an immersion lithography projection apparatus in which a liquid removal system surrounds a liquid supply system that supplies a liquid to a space between a projection system and a substrate.例文帳に追加

液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To ensure exposure having an original refractive index of liquid by suppressing the occurrence of the turbulence of the liquid due to the movement of a stage in a liquid-immersion type aligner.例文帳に追加

液侵式の露光装置において、ステージの移動による液体の乱流発生を抑制して液体本来の屈折率を得た露光を可能にすること。 - 特許庁

There are provided a liquid supply device 7 and a liquid recovery device 8 for forming a liquid immersion space LS so that at least a part of an optical path of an exposure light is filled with a liquid, and a liquid immersion area is movable from one to the other between a substrate holding part P and a plate member T.例文帳に追加

露光光の光路の少なくとも一部が液体で満たされるように液浸空間ＬＳを形成するために液体供給装置７及び液体回収装置８を備えるもので、基板保持部Ｐとプレート部材Ｔで一方から他方へ液浸領域が移動可能である。 - 特許庁

The liquid being used in liquid immersion exposure device or method performing exposure through a liquid filling the space between the lens of a projection optical system and a substrate is a chain-like saturated hydrocarbon compound which takes a liquid state in the operating temperature region of the liquid immersion exposure device.例文帳に追加

投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は、液浸露光装置が作動する温度領域において液状であり、鎖状飽和炭化水素化合物である。 - 特許庁

To obtain a liquid immersion microscope device which is used by filling space between a lens part in the objective lens barrel of a liquid immersion microscope and a sample with liquid, and which surely detects the existence of liquid supplied to a sample surface or liquid adhering to the sample surface.例文帳に追加

本発明は、液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒のレンズ部と試料との間を液体で満たして使用される液浸顕微鏡装置に関し、試料面に供給された液体あるいは試料面に付着した液体の有無を確実に検出することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system for removing liquid from an upper surface of a substrate table in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて基板テーブル上面から液体を除去するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography, a resist pattern forming method and a fluorine contained copolymer.例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide: an immersion lithographic apparatus having a projection system; a liquid supply system; and a recycling system.例文帳に追加

投影システム、液体供給システム、及びリサイクルシステムを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for liquid immersion having higher receding contact angle and good resolution.例文帳に追加

後退角が高く、かつ解像性能が良好な液浸用フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

DETERMINATION METHOD, EVALUATION METHOD, EXPOSURE METHOD, EVALUATION APPARATUS, LIQUID-IMMERSION EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

決定方法、評価方法、露光方法、評価装置、液浸露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

This pressure variation can be passed through the immersion liquid and cause inaccuracy in the exposure.例文帳に追加

この圧力変動が液浸液内を通過して露光の不正確さを引き起こすことがある。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

A plurality of extraction conduits 21 and 22 are provided to remove an immersion liquid and put them into a chamber.例文帳に追加

液浸液を除去してチャンバに入れるために、複数の抽出導管２１，２２が設けられる。 - 特許庁

In a step 16, at least one exposure is performed for the wafer by liquid immersion lithography.例文帳に追加

そして、ステップ１６において、液浸リソグラフィにより少なくとも一つの露光をウェーハに行う。 - 特許庁

To provide a method for reducing the risk of contamination of immersion liquid and components of the apparatus.例文帳に追加

液浸液および装置コンポーネントの汚染のリスクを低減するための方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an immersion lithography apparatus having an improved positioning method of a liquid supply system.例文帳に追加

改良した液体供給系の位置決め方法を有する液浸型リソグラフィー装置の提供。 - 特許庁

MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

The chuck 2 also has an elevated rim, delimiting a space 6 into which an immersion liquid is charged.例文帳に追加

チャック２はまた、浸液が充填されるスペース６を画成する隆起した周縁を有する。 - 特許庁

The tile carpet is preferably irradiated with ultrasonic waves after immersion in the washing liquid.例文帳に追加

タイルカーペットを洗浄液に浸漬させた後に、タイルカーペットに超音波を照射することが好ましい。 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR PROTECTIVE LAYER OF PHOTORESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

At the sterilization, a reflection mirror 30 is shifted to the optical axis (L1) of the liquid-immersion objective lens 8.例文帳に追加

殺菌時には、反射ミラー３０を、液浸対物レンズ８の光軸（Ｌ１）位置に移動させる。 - 特許庁

The wafer chuck 402 fixes a wafer 406 onto the top thereof, and performs processing by liquid immersion lithography.例文帳に追加

ウェーハチャック４０２は、ウェーハ４０６をその上に載置してから液浸リソグラフィにより処理を行う。 - 特許庁

The laser beam is guided by use of a reflection mirror 8 and condensed by use of a liquid immersion lens 9.例文帳に追加

レーザー光の導光には反射鏡８を用い、集光には液浸レンズ９を用いる。 - 特許庁

To achieve high exposure precision by suppressing malfunction such as generation of vibration when liquid is collected in a liquid immersion exposure device.例文帳に追加

液浸露光装置において、液体回収の際の振動発生のような不具合を抑制して、高い露光精度を実現する。 - 特許庁

The liquid supply system further comprises a de-mineralizing unit, a distillation unit and a UV radiating source for the purification of an immersion liquid.例文帳に追加

液体供給システムは、浸漬液を浄化するために、さらに、脱塩ユニット、蒸留ユニットおよびＵＶ放射ソースを有する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure apparatus capable of suppressing deterioration in performance due to a cover member in exposing a substrate via a liquid.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する際、カバー部材に起因する性能の劣化を抑制できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent reflecting surfaces (reflecting surfaces of a Z interferometer) arranged on the side surface of stages from getting wetted with a liquid, in a liquid immersion area.例文帳に追加

ステージ側面に設けられた反射面（Ｚ干渉計の反射面）が液浸領域の液体で濡れることを防止する。 - 特許庁

The system includes a process that forms a first liquid immersion region on the substrate to expose the substrate by radiating exposing beam onto the substrate through the first liquid and an immersion process that immerses the substrate in a second liquid before an exposure process.例文帳に追加

第１の液体の液浸領域を基板上に形成し、第１の液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する工程と、露光工程の前に、基板を第２の液体に浸漬する浸漬工程とを含む。 - 特許庁

The liquid immersion optical system is characterized in that there is provided between a lens and the wafer or the mask the immersion liquid in which a moisture content rate in the liquid is reduced from several hundreds of ppm-several tens of ppm to several ppm by dehydrating agent.例文帳に追加

脱水剤によって、液中の水分含有率を数百ｐｐｍ〜数十ｐｐｍから数ｐｐｍまで低減する前述の液浸液が、レンズと、ウェハ又はマスクとの間に設けられていることを特徴とする液浸光学系。 - 特許庁

To provide a liquid feed system that can supply immersion liquid at a very stable flow rate with the minimum pressure fluctuation to a space between the last element and the substrate of a projection lens in an immersion liquid lithography equipment.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置において、投影レンズの最終エレメントと基板との間の空間に、極めて安定した流量で、且つ最小の圧力変動で浸液を供給することができる液体供給システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a protective film forming material which simultaneously prevents deterioration of a resist film during liquid immersion lithography and deterioration of a liquid used for the liquid immersion lithography, and which forms a resist pattern of a good shape without increasing the number of processing steps.例文帳に追加

液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

A liquid handling structure for a lithographic apparatus comprises a droplet controller configured to allow a droplet of immersion liquid to be lost from the handling structure and to prevent the droplet from colliding with the meniscus of the confined immersion liquid.例文帳に追加

リソグラフィ装置の液体ハンドリング構造は、液浸液の液滴が液体ハンドリング構造から失われるようにし、閉じ込められた液浸液のメニスカスと液滴が衝突するのを防止するように構成された液滴コントローラを備える。 - 特許庁

The recovering portion 190 includes a container 192 to separate the liquid and gas recovered from the liquid immersion space and a liquid volume sensor 193 to measure the liquid volume in the container 192.例文帳に追加

回収部１９０は、液浸空間から回収された液体と気体とを分離するための容器１９２と、容器１９２内の液体の量を計測する液量センサ１９３とを含む。 - 特許庁

A heat attenuating device 111 is provided, and is constituted to reduce variation induced by a temperature distribution TE of the liquid immersion elements by the liquid immersion medium 110.1.例文帳に追加

熱減衰装置１１１が設けられており、この熱減衰装置１１１は、液浸媒体１１０．１によって液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。 - 特許庁

In the exposure device, an immersion area of a liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P, and exposure of the substrate P is performed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the immersion area.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁