「laser vaporization」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The DOEs 42a, 42b convert the intensity distribution of the laser beam so that the laser intensity in the temperature rising region is high than that in the vaporization region.例文帳に追加

ＤＯＥ４２ａ，４２ｂは、昇温領域におけるレーザ強度が蒸発領域におけるレーザ強度よりも高くなるようにレーザ光の強度分布を変換する。 - 特許庁

To provide glass for laser beam machining which is capable of being machined to extend to the inside of the glass such as to be penetrated by the laser machining using ablation or vaporization by absorbed laser beam energy with precision machining and has small thermal expansion coefficient.例文帳に追加

吸収したレーザ光エネルギーによるアブレーションあるいは蒸発を利用するレーザ加工でガラスを貫通するようなガラス内部にいたる加工が行え、かつ熱膨張係数が小さく、精密な加工が可能なレーザ加工用ガラスを提供する。 - 特許庁

In another embodiment, the silicone polymer layer is subjected to sublimation, vaporization or ablation by a laser beam having the energy equal to or higher than the ablation threshold in advance, and then modified into silicon dioxide by reducing the energy quantity of the laser beam to be lower than the ablation threshold.例文帳に追加

また、シリコーンポリマー層を予めアブレーション閾値以上のレーザ光により昇華・蒸発またはアブレーションさせた上で、レーザ光のエネルギー量をアブレーション閾値よりも小さくし、二酸化ケイ素に改質する。 - 特許庁

Further, an operating liquid S which is vaporized and expanded by the supply of the laser beam L permeates through the shield body 9 from a liquid region 21 to a vaporization region 22.例文帳に追加

さらに、レーザー光Ｌの供給にて気化して膨張する作動液体Ｓを遮蔽体９に液体領域21から気化領域22へ浸透するように構成する。 - 特許庁

This method comprises a step for forming a liquid film 134 on a substrate and a step for laser energy irradiation from a laser 10 through the film 134 so as to etch a substrate surface, and an etched material is removed by vaporization of the film from the substrate surface during the etching.例文帳に追加

基板上での液体膜１３４の形成と、基板表面をエッチングするための該膜１３４を通じたレーザ１０からのレーザエネルギ照射を含み、エッチングされた物質は前記エッチングの間に該膜の気化により基板表面から除去される。 - 特許庁

The film deposition apparatus is equipped with a raw material introducing means including a vaporization unit, a film deposition chamber into which the raw material components are introduced through the raw material introducing means and in which the substrate is arranged, and a laser generating device for irradiating the substrate with laser, which is installed in the chamber.例文帳に追加

本膜形成装置は、気化装置を含む原料導入手段と、原料導入手段から原料成分が導入され且つ内部に基板が配設される膜形成室と、膜形成室に配設され且つ基板にレーザーを照射するためのレーザー発生装置と、を備える。 - 特許庁

In order to melt a certain region of the semiconductor 52, until the region of the semiconductor 52 reaches a melting basin temperature of the semiconductor 52 which is lower than a vaporization temperature of the semiconductor 52, a laser beam 54 is irradiated to the region of the semiconductor 52.例文帳に追加

半導体（５２）の或る領域を溶融するために、その半導体（５２）の領域が、その半導体（５２）の気化温度よりも低い、半導体（５２）の溶融槽温度に達するまで、半導体（５２）のその領域にレーザビーム（５４）が照射される。 - 特許庁

To reduce an adverse effect exerted on neighboring fuse electrodes by gasification energy produced by fusion/vaporization of a fuse electrode at the time of cutting, in the case of a fuse circuit in a laser-cutting type redundancy circuit.例文帳に追加

本発明は、レーザ切断型リダンダンシィ回路におけるフューズ回路において、カット時にフューズ電極の溶融蒸発にともなって発生する気化エネルギーの、隣接するフューズ電極への影響を減少できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

Then, a contact part is pressed onto the surface of the spectrochemical analysis target, the laser beam is applied onto the surface of the spectrochemical analysis target in the opening, the surface of the spectrochemical analysis target is vaporized, and a vaporization constituent is sent to the body of the spectrochemical analysis object by the gas.例文帳に追加

そして、分光分析対象の表面に接触部を押し当て、開口部内の分光分析対象の表面にレーザ光を照射して、その分光分析対象の表面を気化させ、その気化成分をガスにより分光分析装置本体へ送り出す。 - 特許庁

The consumable tape 59 includes the consumable medium including a polymer 23 and dispersed metallic component 25, is applied onto the surface of a substrate, and the shock peening is performed by a shock generated by the vaporization of the consumable medium at the irradiation of a high output laser beam pulse.例文帳に追加

消耗テープ５９は、ポリマー２３及び分散された金属成分２５を含む消耗媒体６１を含み、基板表面に貼られ、高出力レーザパルスの照射により、消耗媒体が気化する際に発生する衝撃性により衝撃ピーニングが施される。 - 特許庁

Diffractive optical elements DOEs 42a, 42b for converting the intensity distribution on a target path of the droplet discharged from a nozzle from Gaussian distribution to the intensity distribution of the top hat type distribution which has a temperature rising region and a vaporization region are arranged on each light path of the first and second laser beam Le1, Le2.例文帳に追加

第１及び第２レーザ光Ｌｅ１，Ｌｅ２の各光路上に、ノズルから吐出される液滴の目標経路上における強度分布をガウシアン分布からトップハット型分布の昇温領域及び蒸発領域を有する強度分布へ変換するＤＯＥ４２ａ，４２ｂを配置する。 - 特許庁

To provide a lap laser beam welding method for a galvanized sheet iron capable of forming a welded part excellent in the appearance and strength of the joint of the welding part, by suppressing the spattering of a molten metal caused by the instantaneous vaporization of zinc in a plating layer.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板の重ね合わせレーザ溶接において、めっき層中の亜鉛の瞬間的な気化による溶融金属のスパッタリングを抑制し、溶接部の外観形状および継手強度に優れた溶接部を形成できる亜鉛めっき鋼板の重ね合わせレーザ溶接方法を提供する。 - 特許庁

When the fuse electrode 13b is cut by irradiation of laser beams 16 thereto, the openings 15 make it possible to allow part of gasification energy 19 produced by fusion/vaporization of the fuse electrode 13b to escape in directions other than the directions toward the neighboring fuse electrodes 13a, 13c.例文帳に追加

この開孔部１５によって、レーザ光線１６の照射によりフューズ電極１３ｂを切断しようとする際の、フューズ電極１３ｂの溶融蒸発にともなって発生する気化エネルギー１９の一部を、隣接するフューズ電極１３ａ，１３ｃとは異なる方向へ逃がすことが可能な構成となっている。 - 特許庁

According to this direct vaporization analysis method for analyzing microparticles produced by laser light irradiation, while conveying them by inert gas, the amount of microparticles conveyed by the inert gas is found and analysis values measured by the analysis device are compensated, by using the amount of the microparticles.例文帳に追加

レーザ光の照射により生成した微粒子を不活性ガスにより搬送して分析を行う直接気化分析方法において、不活性ガスにより搬送される微粒子の量を求め、分析装置により計測された分析値を前記微粒子の量を用いて補償する固体試料の直接気化分析方法。 - 特許庁