Projection exposure equipmentとは 意味・読み方・使い方

To provide a projection optical system for projection exposure equipment comprising a light source emitting projection light and the projection optical system arranged between a mask and an image, and having a smaller residual imaging error.例文帳に追加

残留結像誤差が少ない、投影光を放出する光源と、マスクと像の間に配置された投影光学系とを備えた投影露光設備のための投影光学系を提供すること。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT EQUIPMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定系の校正方法、波面収差測定装置、及び投影露光装置 - 特許庁

To obtain a projection optical system arranged in exposure equipment and exposure equipment in which variation in interval of mirrors arranged in the mirror cylinder is measured with high precision.例文帳に追加

本発明は、露光装置等に配置される投影光学系および露光装置に関し、鏡筒内に配置されるミラーの間隔の変化を高精度で測定することを目的とする。 - 特許庁

BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT, APPARATUS FOR MEASURING ABERRATION, APPARATUS FOR MEASURING POSITION, PROJECTION EXPOSURE UNIT, METHOD FOR MANUFACTURING BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

背面照射型撮像装置、収差計測装置、位置計測装置、投影露光装置、背面照射型撮像装置の製造方法、およびデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD, EQUIPMENT, AND PROGRAM FOR ANALYZING INTERFERENCE FRINGE INTERFERENCE MEASURING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

干渉縞解析方法、干渉縞解析装置、干渉縞解析プログラム、干渉測定装置、投影光学系の製造方法、投影露光装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASUREMENT OF TRANSMISSION WAVE FRONT, SURFACE FIGURE, AND HIGH FREQUENCY COMPONENT OF HOMOGENEITY, AND PROJECTION LENS AND EXPOSURE EQUIPMENT ASSEMBLED AND ADJUSTED USING THEM例文帳に追加

透過波面、面形状、ホモジニティの高周波成分の測定方法及び測定装置及びそれらを使って組み立て調整された投影レンズ及び露光装置 - 特許庁

To provide an evaluation method that can reduce errors caused by enlarging an original plate and can highly precisely evaluate optical performance of a projection optical system, and to provide exposure equipment.例文帳に追加

原版の大型化に起因する誤差を低減し、高精度に投影光学系の光学性能を評価することが可能な評価方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure equipment EX projects a pattern of an original plate onto a substrate held by a substrate stage having a top plate 21 through the intermediary of a projection optical system, thus exposing the substrate.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、天板２１を有する基板ステージによって保持された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影して該基板を露光する。 - 特許庁