Radiation thermometersとは 意味・読み方・使い方

To provide a temperature measurement device capable of simply and precisely measuring the temperature distribution in a plate width direction of a hot rolled plate while utilizing the conventional scanning radiation thermometers.例文帳に追加

従来の走査型放射温度計を活用しつつ、簡易かつ高精度に熱間圧延材の板幅方向の温度分布を測定しうる温度測定装置を提供する。 - 特許庁

To measure the temperature distribution of a thin film on a substrate to be treated, at a high accuracy using a plurality of simple-structured radiation thermometers, and to perform a heating processing at a high accuracy.例文帳に追加

簡易な構成の放射温度計を複数用いて、被処理基板上の薄膜の温度分布を高精度に測定することができ、高精度の加熱処理を可能にする。 - 特許庁

As a result, the reference light source device for high temperature high-speed radiation thermometers can be provided, which performs radiation temperature measurement of the surface temperature of the silicon wafer processed by a flash lamp anneal method (FLA) under development as a next-generation wafer heat treatment process, and a laser anneal method (LA).例文帳に追加

次世代ウエハ熱処理工程として開発中のフラッシュランプアニール法（ＦＬＡ）やレーザーアニール法（ＬＡ）において処理されるシリコンウエハの表面温度を放射温度計測するための高温高速放射温度計用参照光源装置を提供することが可能である。 - 特許庁

The temperature difference is applied to temperature control meters 601-604 constituting the control means 300 to correct the measured temperatures of the test substrate measuring optical fiber type radiation thermometers 401-404 deviated from the actual values.例文帳に追加

この温度差を制御手段３００を構成する温度調節計６０１〜６０４に加えて、実際値とずれた被処理基板測定用光ファイバ式放射温度計４０１〜４０４の測定温度を補正する。 - 特許庁

In a heat treatment apparatus 1 for measuring the temperature of a substrate 9, and for heating the substrate 9, a reflector 123 facing opposite the substrate 9 is provided with a temperature-measuring mechanism 50 and plural second radiation thermometers rods 60.例文帳に追加

基板９の温度を計測しつつ基板９を加熱する熱処理装置１において、基板９に対向する反射板１２３に温度計測機構５０と複数の第２放射温度計ロッド６０とを設ける。 - 特許庁

From the plate width directional temperature distribution data measured by two scanning radiation thermometers 2, 2 which are scanning mutually reverse direction, the inflection point information (position of inflection point and inflection point temperature gradient) are calculated.例文帳に追加

２台の走査型放射温度計２，２を互いに逆方向に走査して測定した、圧延材１の板幅方向温度分布データから、温度立下り部における変曲点情報（変曲点位置および変曲点温度勾配）を計算する。 - 特許庁

At that time, the crucible 1 is heated while generating a temperature difference with heaters 4, 5 by controlling the frequency of current applied to or the amount of current applied to respective induction coils 8, 9 while measuring the temperatures of each part of the crucible and heaters 4, 5 through radiation thermometers 18-22.例文帳に追加

このとき、放射温度計１８〜２２を通じて坩堝１の各部やヒータ４、５の測温を行いながら、各誘導コイル８、９への通電の周波数もしくは通電量を制御し、ヒータ４、５で温度差を発生させながら加熱する。 - 特許庁

The disturbance light L2 is light except for radiated light L1 from the wafer W to be made incident to radiation thermometers 43a-43c for measuring the temperature of the wafer W and contains radiated light L2a from the guard ring 31 and leaked light L2b from a lamp 12.例文帳に追加

この外乱光Ｌ２とは、基板Ｗの温度計測を行う放射温度計４３ａ〜４３ｃに入射する基板Ｗからの放射光Ｌ１以外の光であり、これにはガードリング３１からの放射光Ｌ２ａとランプ１２からの漏れ光Ｌ２ｂとが含まれている。 - 特許庁