SS2-1とは 意味・読み方・使い方

Here, in formula (1), Hb2=Hb1+ΔLc+α×ΔLc, and in formula (2), Ss2=Ss1+ΔLc+α×ΔLc.例文帳に追加

Ｈｂ２＝Ｈｂ１＋ΔＬｃ＋α・ΔＬｃ・・・（１） Ｓｓ２＝Ｓｓ１＋ΔＬｃ＋α・ΔＬｃ・・・（２） - 特許庁

Even if the origin detection condition is any one of the patterns 1-4, a range becoming the origin detection is limited to a range corresponding to 1/4 period of the pulse signal SS1 (or pulse signal SS2).例文帳に追加

原点検出条件がパターン１〜４のいずれであっても、原点検出となる範囲はパルス信号ＳＳ１（又はパルス信号ＳＳ２）の１／４周期に相当する範囲に限られる。 - 特許庁

In case that the thickness of stack Lc of the stator core 30 is changed, optimum modificatory blade height Hb2 and modificatory stripper stroke Ss2 are computed by the undermentioned formulae (1) and (2), and each phase of coils are inserted with this modificatory blade height Hb2 and modificatory stripper stroke Ss2.例文帳に追加

ステータコア３０の積厚Ｌｃが変更された場合には、下記（１）および（２）式により最適な修正ブレード高さＨｂ２および修正ストリッパストロークＳｓ２を算出して、この修正ブレード高さＨｂ２および修正ストリッパストロークＳｓ２で各相コイルの挿入を行う。 - 特許庁

The substrate cleaning device 1 is equipped with a mounting stage 10 for mounting cassettes C1, C2, cleaning units SS1, SS2 for performing cleaning-treatment on a substrate W, and a transport robot TR.例文帳に追加

基板洗浄装置１は、カセットＣ１，Ｃ２を載置するための載置ステージ１０と、基板Ｗに洗浄処理を行う洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２と、搬送ロボットＴＲとを備えている。 - 特許庁

A substrate cleaning system 1 comprises cassettes C1-C4 for containing not yet processed substrates W and processed substrates W, a unit SS1 for cleaning the surface of the substrate W, and a unit SS2 for cleaning the rear surface of the substrate W.例文帳に追加

基板洗浄装置１は、未処理の基板Ｗおよび処理済みの基板Ｗを収納するカセットＣ１〜Ｃ４、基板Ｗの表面を洗浄する洗浄ユニットＳＳ１、基板Ｗの裏面を洗浄する洗浄ユニットＳＳ２を備える。 - 特許庁