Six3とは 意味・読み方・使い方

Alternatively, the photosensitive resin is obtained from a resin as a precursor obtained by hydrolyzing compounds expressed by formulae: H-SiX3 and: F-SiX3 (where X denotes the same as above defined) wherein a ratio of mol number of: H-SiX3 to mol number of: F-SiX3 referred to as a:b is 4 or larger.例文帳に追加

Ｈ−ＳｉＸ_3・・・・・（１） （式中、Ｘはフッ素以外のハロゲン原子を示す。） 〔２〕下記式（１）および（２）で示される化合物を加水分解することにより得られ、（１）のモル数と（２）のモル数との比をａ：ｂとしたときに、ａ：ｂの値が４以上である樹脂を前駆体として得られる感光性樹脂。 - 特許庁

This photosensitive resin is obtained from a resin as a precursor obtained by hydrolyzing a compound expressed by formula: H-SiX3 (where X denotes a halogen atom other than fluorine).例文帳に追加

〔１〕下記式（１）で示される化合物を加水分解することにより得られる樹脂を前駆体として得られる感光性樹脂。 - 特許庁

The resist composition for photolithography by vacuum UV rays having negative-type photosensitivity comprises the photosensitive resin expressed by: H-SiX3 or: F-SiX3 and an alkali soluble resin having a functional group cross-linkable by vacuum UV rays.例文帳に追加

Ｈ−ＳｉＸ_3・・・・・（１） （式中、Ｘは前記の定義と同じである。） Ｆ−ＳｉＸ_3・・・・・（２） （式中、Ｘは前記の定義と同じである。） 〔３〕前記の〔１〕または〔２〕記載の感光性樹脂および真空紫外光により架橋する官能基を持つアルカリ可溶性樹脂を含有し、ネガ型感光性を有する真空紫外光を用いる光リソグラフィー用レジスト組成物。 - 特許庁