The region Sとは 意味・読み方・使い方

The region S and the region C have the radius 8s, 8c of external circles of the same length in the cross-section.例文帳に追加

また、領域Ｓと領域Ｃとは断面における外周円の半径８ｓ、８ｃは同じ長さである。 - 特許庁

It was included in 2001's Second Selection of 100 Famous Stations in the Kinki Region.発音を聞く 例文帳に追加

2001年（平成13年）に、第2回近畿の駅百選に選ばれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The region S having the radius 7s appears in both sides in the direction of the rotation axis 1-1, and the region C having the radius 7c appears between the regions S.例文帳に追加

出現ユニットでは、半径７ｓの領域Ｓが回転軸１−１の方向で両側に出現し、領域Ｓの間に、半径７ｃの領域Ｃが出現する。 - 特許庁

An inner peripheral region S 1 projecting to a side inner than an inner edge of the electrode 50 and an outer peripheral region S 2 existing on a side outer than the inner peripheral region S 1 are formed at the elastic body 51.例文帳に追加

前記弾性体５１には前記電極５０の内縁よりも内側に突出する内周領域Ｓ１と、前記内周領域Ｓ１よりも外側に位置する外周領域Ｓ２が形成されている。 - 特許庁

Rib-like sealing belts (2) for welding both the front and the rear sheets (S), (S) to each other are so formed as to project in the form of the teeth of a comb toward the central region of the bag from at least one side among the sealed sides (12).例文帳に追加

そして、その封止辺(12)のうちの少なくとも１つの辺の側から、袋中央領域に向けて櫛歯状に張り出すように、表裏のシート(S), (S)を融着するリブ状シール帯(2) を形成する。 - 特許庁

The adherend removing device has the rope connecting portion 3 on an circumference region of the ring located in the nearly opposite position of the pivoting portion S, and the rope connecting portion 4 on the nearly same circumference region of the ring as the pivoting portion S.例文帳に追加

そして、ロープ繋ぎ部３を、枢着部Ｓの略反対側に位置するリング円周部位に備え、ロープ繋ぎ部４を枢着部Ｓと略同じリング円周部位に備えている。 - 特許庁

The lower insulating layer 3 and the wiring layer 4 are formed only to a drive region C, excluding the peripheral region S of the substrate 2.例文帳に追加

下地絶縁層３及び配線層４は、基板２の周辺領域Ｓを除く駆動領域Ｃのみに形成する。 - 特許庁

In the above substrate treating chamber (4), the region for reducing the scattering of contaminants over the substrate (S) and also the region capable of easily controlling the temperature of the substrate (S) is set with a heating means (9) for activating a gaseous starting material and plasma.例文帳に追加

前記基板処理室(4) には、前記基板(S) への汚染物質の飛散を低減する領域であって且つ前記基板(S) の温度制御を容易になし得る領域に、原料ガス及びプラズマを活性化させるための加熱手段(9) が設置されている。 - 特許庁